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    • 7. 发明专利
    • 複数の酸化処理器を備える低濃度メタンガス酸化システム
    • 低浓度甲烷氧化系统,包括多个氧化处理单元的
    • JPWO2014017217A1
    • 2016-07-07
    • JP2014526817
    • 2013-06-18
    • 川崎重工業株式会社
    • 眞市 梶田眞市 梶田義弘 山崎義弘 山崎
    • F02C3/22B01D53/94F02C7/22F02C7/224F23R3/28F23R3/40
    • B01D53/864B01D2257/7025B01D2258/06F02C6/18F05D2220/75Y02C20/20Y02E20/14Y02E50/11
    • 単一の熱源装置(GT)と、前記熱源装置の熱を利用して低濃度メタンガスを触媒酸化処理する酸化処理装置(OD)とを備える低濃度メタンガス酸化システムであって、低濃度ガス主供給路から並列に分岐した複数の分岐供給路(3)と、前記各分岐供給路に設けられた触媒酸化処理器(7)とを有する複数の単位酸化処理ユニット(51)を備え、各単位酸化処理ユニットが、前記熱源装置からの熱源ガスの熱を利用して触媒酸化処理を行う第1触媒酸化処理器(7A)と、前記第1触媒酸化処理器からの処理済ガスを加熱媒体として、下流側の分岐供給路の追加触媒酸化処理器に流入する低濃度メタンガスを予熱する第1熱交換器(5A)とを有する第1単位酸化処理ユニット(51A)と、上流側の分岐供給路の第1または追加触媒酸化処理器で予熱された低濃度メタンガスを触媒酸化処理する追加触媒酸化処理器(5B)を有する追加単位酸化処理ユニット(51B)とを含む。
    • 单一热源装置和(GT)中,利用热源装置的低浓度甲烷氧化系统,其包括氧化处理单元(OD),其催化氧化,低浓度气体供给主热低浓度甲烷 多个分支供给通路中从(7)中的多个单元的氧化处理单元所提供的道路和(3)中,每个分支供给通路催化氧化单元并行分支具有(51),每个单元氧化物 处理单元,利用从热源装置的热源的气体的热的第一催化氧化容器从第一催化氧化单元执行催化氧化过程和(7A),作为加热介质处理过的气体, 用于预热流入分支供给通路,并用(5A)和(51A),在上游侧分支供给通路的第一单元的氧化单元下游的附加的催化氧化单元中的低浓度的甲烷气体在第一热交换器 低浓度的甲烷气体催化氧化由第一或另外的催化氧化单元预热 上包括具有附加催化氧化单元中的附加单元的氧化单元(5B)(51B)。