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    • 2. 发明专利
    • X線分析装置、X線分析方法及びプログラム
    • JP2019158605A
    • 2019-09-19
    • JP2018045795
    • 2018-03-13
    • 富士通株式会社
    • 淡路 直樹
    • G01B15/08G01N23/20
    • 【課題】簡易に試料の平均密度及び平均表面ラフネスを取得することができるX線分析装置、X線分析方法及びプログラムを提供する。 【解決手段】X線分析装置は、試料からの反射X線の第1の強度プロファイルを取得する第1の強度プロファイル取得部と、第1の強度プロファイルから試料へのX線の入射強度を取得する入射強度取得と、入射強度から試料の平均密度を取得する平均密度取得と、第1の強度プロファイルから反射X線のバックグラウンド強度を取得するバックグラウンド強度取得部と、入射強度、バックグラウンド強度及び平均密度を用いて、単一の層からなる仮想試料から得られる反射X線の第2の強度プロファイルのうちで、第1の強度プロファイルに最もフィットする最適解を近似強度プロファイルとして取得する近似強度プロファイル取得部と、近似強度プロファイルを与える仮想試料の表面ラフネスを取得する表面ラフネス取得部と、を有する。 【選択図】図4