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1. 发明专利

JP5502542B2 Polishing pad 有权
公开(公告)号：JP5502542B2
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：JP2010069057
申请日：2010-03-25
申请人：富士紡ホールディングス株式会社
发明人：吉見望月 , 博仁宮坂 , 哲平立野
IPC分类号： B24B37/22 , H01L21/304

2. 发明专利

JP5587636B2 Polishing pad 有权
公开(公告)号：JP5587636B2
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：JP2010044070
申请日：2010-03-01
申请人：富士紡ホールディングス株式会社
发明人：吉見望月 , 博仁宮坂 , 哲平立野
IPC分类号： B24B37/22 , B24B37/24 , B24B37/26 , H01L21/304

3. 发明专利

JPWO2015037606A1 研磨パッド及びその製造方法审中-公开
标题翻译：抛光垫及其制造方法
公开(公告)号：JPWO2015037606A1
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：JP2015536596
申请日：2014-09-10
申请人：富士紡ホールディングス株式会社
发明人：博仁宮坂 , 哲平立野 , 香枝喜樂 , 立馬松岡
IPC分类号： B24B37/24 , C08G18/64 , C08G18/80 , C08J5/14 , C08J9/28 , H01L21/304
CPC分类号： C08G18/80 , B24B37/26 , C08G18/3228 , C08G18/42 , C08G18/6651
摘要：樹脂からなるシートを備える研磨パッドであって、所定の研磨試験を経た後の前記シートの研磨面が、−2.00以上、−0.20以下の粗さ曲線のスキューネスRskを有し、かつ、0.5%以上、2.5%以下の高さ分布変動係数を有する、研磨パッド。
摘要翻译：包括预定抛光试验后的树脂制的片材，片材的抛光表面的抛光垫，-2.00以上，具有-0.20或更低的粗糙度曲线的，和0.5％或更大的斜度Rsk 中，具有2.5％或更小，所述抛光垫的高度分布变异系数。

4. 发明专利

JPWO2014051104A1 研磨パッド有权
标题翻译：研磨垫
公开(公告)号：JPWO2014051104A1
公开(公告)日：2016-08-25
申请号：JP2014538651
申请日：2013-09-27
申请人：富士紡ホールディングス株式会社
发明人：博仁宮坂 , 博仁宮坂 , 哲平立野 , 哲平立野 , 香枝金澤 , 香枝金澤 , 立馬松岡 , 立馬松岡
IPC分类号： B24B37/24 , B24B37/26 , H01L21/304
CPC分类号： B24B37/24
摘要：研磨加工時の立ち上がり時間を短縮し平坦性向上を図ることができる研磨パッドを提供する。研磨パッド10は、湿式成膜法により形成されたポリウレタンシート2を備えている。ポリウレタンシート2は、カーボンブラックおよびイオン性界面活性剤が無添加の状態で形成されたものである。ポリウレタンシート2では、スキン層が除去された表面により研磨面Pが構成されている。研磨面Pでは、開孔5、開孔6が形成されている。ポリウレタンシート2では、研磨面Pに水滴を滴下して0.5秒後の接触角をCA1とし、水滴の滴下から10.5秒後の接触角をCA2としたときに、{(CA1−CA2)/CA1}×100で表される接触角変化率が、20〜50%の範囲に調整されている。研磨加工時に供給されるスラリがポリウレタンシート2に浸透しやすくなる。
摘要翻译：为了缩短抛光过程的上升时间是提供一种可用于提高平坦性来实现的抛光垫。的抛光垫10具有由湿式成膜法形成的聚氨酯薄板2。聚氨酯薄板2是炭黑和离子表面活性剂是由不含添加剂的状态形成。在聚氨酯薄板2，研磨面P是由皮肤层的表面而形成被去除。在研磨面P，该孔5中，开口6被形成。在聚氨酯薄板2，从水滴滴下滴下水滴至抛光表面P和CA1，接触角10.5秒后后0.5秒的接触角时，CA2，{（CA1-CA2）/ CA1} 由100表示的接触×角度变化速率，在20-50％的范围内进行调整。抛光期间提供浆料可能穿透聚氨酯薄板2。

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