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1. 发明专利

JP2014182154A Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film using the composition, pattern formation method, method for manufacturing electronic device, and electronic device 审中-公开
标题翻译：活性敏感性或辐射敏感性树脂组合物，使用组合物的耐腐蚀膜，图案形成方法，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2014182154A
公开(公告)日：2014-09-29
申请号：JP2013054397
申请日：2013-03-15
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： TANGO NAOHIRO , YOSHITOME MASAHIRO , YAMAMOTO KEI , YAMAMOTO OSAO , KATAOKA SHOHEI
IPC分类号： G03F7/075 , C08F20/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2041 , C08F2230/085 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/0755
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of inhibiting pattern collapses within an ultrafine region (e.g., region of line width=50 nm or less) and of improving the margin of focus (DOF: Depth of Focus); a resist film using the composition; a pattern formation method; a method for manufacturing an electronic device; and an electronic device.SOLUTION: The provided active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition includes: (A) a resin possessing repeating units including groups generating polar groups as a result of the decomposition thereof based on the function of an acid; (B) a compound generating an acid as a result of the irradiation thereof with active rays or radiations; and (F) a compound expressed by the following general formula (1): in the general formula (1), X expresses: an organic group including at least one type selected from the group consisting of amino groups, nitrogen-containing heterocyclic groups, epoxy groups, methacryloyl groups, vinyl groups, and mercapto groups; alkyl group; cycloalkyl group; aryl group; or alkoxy group; n is an integer of 0 to 3).
摘要翻译：要解决的问题：提供能够抑制超细区域（例如，线宽= 50nm或更小的区域）内的图案塌陷并提高聚焦余量的活性射线敏感或辐射敏感性树脂组合物（DOF：焦点深度）; 使用该组合物的抗蚀剂膜; 图案形成方法; 电子设备的制造方法; 和电子装置。解决方案：提供的活性射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包括：（A）具有重复单元的树脂，其包含基于酸的功能而分解产生极性基团的基团; （B）由于用活性射线或辐射照射而产生酸的化合物; 和（F）由以下通式（1）表示的化合物：在通式（1）中，X表示：包括选自氨基，含氮杂环基，环氧基，甲基丙烯酰基，乙烯基和巯基; 烷基; 环烷基芳基; 或烷氧基; n为0〜3的整数）。

2. 发明专利

JP2013130654A Actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition, resist film and pattern forming method using said composition, and method for manufacturing electronic device and electronic device 审中-公开
标题翻译：丙烯酸敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐腐蚀薄膜和使用该组合物的图案形成方法，以及制造电子器件和电子器件的方法
公开(公告)号：JP2013130654A
公开(公告)日：2013-07-04
申请号：JP2011278800
申请日：2011-12-20
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： YOSHITOME MASAHIRO , KATAOKA SHOHEI , SHIBUYA AKINORI , IWATO KAORU , SUGIYAMA SHINICHI , TANGO NAOHIRO , FUKUHARA TOSHIAKI , ITO JUNICHI , MATSUDA TOMOKI , TOKUGAWA YOKO
IPC分类号： G03F7/039 , C08F8/12 , C08F20/28 , G03F7/004 , G03F7/38 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray sensitive resin composition which is excellent in exposure latitude and generates little scum, a resist film formed using the composition, and a pattern forming method using the composition, and to provide a method for manufacturing an electronic device and an electronic device.SOLUTION: An actinic ray sensitive resin composition contains (A) a resin having a repeating unit represented by the following general formula (1) and a repeating unit which is decomposed by an action of an acid to generate an alkali-soluble group, and (B) a compound, represented by the following general formula (Z-1), which generates an acid by irradiation with an actinic ray. K represents a cyclic acid anhydride group, and A represents a cyclic organic group.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供曝光宽容性优异并且几乎没有浮渣的光化射线敏感性树脂组合物，使用该组合物形成的抗蚀剂膜以及使用该组合物的图案形成方法，并提供一种电子制造方法装置和电子装置。光解射线敏感性树脂组合物含有（A）具有下述通式（1）表示的重复单元的树脂和通过酸作用而分解产生碱的重复单元 - （B）由以下通式（Z-1）表示的化合物，其通过用光化射线照射产生酸。 K表示环状酸酐基，A表示环状有机基团。

3. 发明专利

JP2013083971A Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active ray-sensitive or radiation-sensitive film and pattern formation method using the same, and electronic device manufacturing method and electronic device 有权
标题翻译：活性敏感性或辐射敏感性树脂组合物，使用其的活性敏感或辐射敏感膜和图案形成方法，以及电子设备制造方法和电子设备
公开(公告)号：JP2013083971A
公开(公告)日：2013-05-09
申请号：JP2012215289
申请日：2012-09-27
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： ITO JUNICHI , SHIBUYA AKINORI , MATSUDA TOMOKI , TOKUGAWA YOKO , FUKUHARA TOSHIAKI , TANGO NAOHIRO , IWATO KAORU , YOSHITOME MASAHIRO , SUGIYAMA SHINICHI , KATAOKA SHOHEI
IPC分类号： G03F7/004 , C07C381/12 , C08F8/12 , C09K3/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/027 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07C309/17 , C07C311/48 , C07C381/12 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2603/74 , C07D279/30 , C07D307/33 , C07D327/08 , C07D333/76 , C07D335/16 , C07D339/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive resin composition which has excellent pattern roughness properties such as exposure latitude and LWR and less variation in performance with time, a radiation-sensitive film and a pattern formation method using the same, and an electronic device manufacturing method and an electronic device.SOLUTION: A radiation-sensitive resin composition contains a compound represented by the following general formula (1) which decomposes to generate acid under exposure of radiation and a resin which decomposes under the action of acid so as to increase solubility in alkali developer. In general formula (1), Rand Reach independently represent an aryl, and Rand Rmay be connected. Rand Reach independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, or an aryl group. Rand Rmay be also connected. Rrepresents an alkyl group, a cycloalkyl group, an alkenyl group, an aryl group, an aralkyl group, or an alkyl carbonyl group. Rmay be connected to Ror R.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供具有优异的图案粗糙性，例如曝光宽容度和LWR以及随时间的性能变化较小的辐射敏感性树脂组合物，使用该辐射敏感性树脂组合物的图案形成方法，电子装置的制造方法和电子装置。解决方案：辐射敏感性树脂组合物含有由下列通式（1）表示的化合物，其在辐射暴露下分解产生酸，并在酸的作用下分解树脂，以增加在碱性显影剂中的溶解度。在通式（1）中，R 1 和R 2 各自独立地表示芳基，R 1 和R 2 。 R 3 和R 4 各自独立地表示氢原子，烷基，环烷基，烯基或芳基。也可以连接R 3 和R 4 。 R“表示烷基，环烷基，烯基，芳基，芳烷基或烷基羰基。可以将R 5 连接到R 3 或R 4 。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

4. 发明专利

JP2012042622A Active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, film and pattern forming method using the composition 有权
标题翻译：活性敏感性或辐射敏感性树脂组合物，使用组合物的薄膜和图案形成方法
公开(公告)号：JP2012042622A
公开(公告)日：2012-03-01
申请号：JP2010182553
申请日：2010-08-17
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： SHIBUYA AKINORI , YAMAGUCHI SHUHEI , KATAOKA SHOHEI , TANGO NAOHIRO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/38 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having excellent PED (post exposure time delay) stability and allowing formation of a pattern with a good profile, and to provide an active ray-sensitive or radiation-sensitive film formed by using the composition, and a pattern forming method using the composition.SOLUTION: The active ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises: (A) a resin having a solubility with an alkali developing solution increased by an action of an acid; (B) a compound generating an acid expressed by general formula (B-1) by irradiation with active rays or radiation; (C) a compound expressed by general formula (C-I) or a compound having a plurality of compounds expressed by general formula (C-I) connected by connecting groups expressed by R or R'. Symbols in the formula are described in the claims and description.
摘要翻译：要解决的问题：提供具有优异的PED（曝光时间延迟）稳定性并允许形成具有良好外形的图案的活性射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，并提供主动射线敏感或通过使用该组合物形成的辐射敏感膜，以及使用该组合物的图案形成方法。活性射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含：（A）具有与碱显影溶液的溶解度的树脂通过酸的作用而增加; （B）通过用活性射线或辐射照射产生由通式（B-1）表示的酸的化合物; （C）由通式（C-I）表示的化合物或具有通过由R或R'表示的连接基团连接的通式（C-I）表示的多种化合物的化合物。式中的符号在权利要求和说明书中描述。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

5. 发明专利

JP2014006491A Actinic ray- or radiation-sensitive resin composition, actinic ray- or radiation-sensitive film based on the same, and method of forming pattern 有权
标题翻译：丙烯酰胺或辐射敏感性树脂组合物，基于其的抗紫外线或辐射敏感膜，以及形成图案的方法
公开(公告)号：JP2014006491A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：JP2012232271
申请日：2012-10-19
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： SHIBUYA AKINORI , TOKUGAWA YOKO , MATSUDA TOMOKI , ITO JUNICHI , KATAOKA SHOHEI , FUKUHARA TOSHIAKI , TANGO NAOHIRO , IWATO KAORU , YOSHITOME MASAHIRO , SUGIYAMA SHINICHI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F20/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/038 , C07C303/32 , C07C309/04 , C07C309/12 , C07D295/16 , C07D327/06 , C07D339/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide: an actinic ray- or radiation-sensitive resin composition which is excellent in exposure latitude and pattern roughness such as LWR, reduces occurrence of particles over time, and reduces, in the case of liquid-immersion exposure, elution of generated acids into an immersion liquid; an actinic ray- or radiation-sensitive film based on the same; and a method of forming a pattern.SOLUTION: The actinic ray- or radiation-sensitive resin composition includes (A) a compound represented by the specified general formula (1) that generates an acid when exposed to actinic rays or radiation, and (B) a resin.
摘要翻译：要解决的问题：提供：曝光宽容度和图案粗糙度如LWR优异的光化射线或辐射敏感性树脂组合物可以减少颗粒随时间的发生，并且在液浸曝光的情况下，将产生的酸溶解到浸液中; 基于其的光化射线或辐射敏感膜; 以及形成图案的方法。解决方案：光化射线或辐射敏感性树脂组合物包含（A）当暴露于光化射线或辐射时产生酸的特定通式（1）表示的化合物和（B ）树脂。

6. 发明专利

JP2013167731A Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same 审中-公开
标题翻译：化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：JP2013167731A
公开(公告)日：2013-08-29
申请号：JP2012030486
申请日：2012-02-15
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： SHIBUYA AKINORI , TOKUGAWA YOKO , MATSUDA TOMOKI , ITO JUNICHI , KATAOKA SHOHEI , FUKUHARA TOSHIAKI , TANGO NAOHIRO , IWATO KAORU , YOSHITOME MASAHIRO , SUGIYAMA SHINICHI
IPC分类号： G03F7/004 , C08F220/26 , G03F7/038
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of suppressing pattern collapse and improving LWR (line width roughness) and storage stability, and a pattern forming method using the composition.SOLUTION: An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises: (A) resin having a repeating unit expressed by the following general formula (1) and a repeating unit that is decomposed by an action of an acid to increase the solubility in an alkali developing solution; (B) a compound Rincluding at least one nitrogen atom or a compound which is an ionic compound including a basic moiety Rincluding at least one nitrogen atom, both having such a property that R-Hor R-Has conjugated acids thereof has a pKa of 8 or lower; and (C) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation. In the general formula (1), L represents a single bond or a divalent connecting group; Rrepresents a hydrogen atom or an alkyl group; and Z represents a cyclic acid anhydride structure.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够抑制图案塌陷并提高LWR（线宽粗糙度）和保存稳定性的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物以及使用该组合物的图案形成方法。解决方案：敏感或辐射敏感性树脂组合物包含：（A）具有由以下通式（1）表示的重复单元的树脂和通过酸作用分解以提高在碱性显影液中的溶解度的重复单元; （B）包含至少一个氮原子的化合物或作为包含碱性部分的离子化合物的化合物包含至少一个氮原子的化合物，其具有R-Hor R-has共轭酸的pKa为8的性质或更低; 和（C）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物。在通式（1）中，L表示单键或二价连接基团; R表示氢原子或烷基; Z表示环状酸酐结构。

7. 发明专利

JP2013015596A Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film and pattern forming method using the composition, method for manufacturing electronic device, and electronic device 有权
标题翻译：丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐腐蚀膜和使用组合物的图案形成方法，制造电子器件的方法和电子器件
公开(公告)号：JP2013015596A
公开(公告)日：2013-01-24
申请号：JP2011146859
申请日：2011-06-30
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KATAOKA SHOHEI , IIZUKA YUSUKE , SHIBUYA AKINORI , MATSUDA TOMOKI , TANGO NAOHIRO
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/26 , G03F7/004 , G03F7/38 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/2041 , G03F7/0045 , G03F7/0397 , G03F7/11 , Y10S430/106 , Y10S430/114 , Y10S430/128 , Y10T428/24802
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition capable of improving line edge roughness (LER) and suppressing pattern collapse, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition, and a method for manufacturing an electronic device and an electronic device.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises: (A) a resin having a repeating unit having a structure expressed by any of general formulae (I-1) to (I-3), and a repeating unit having at least one kind selected from the group consisting of a lactone structure, a sultone structure and a cyano group; and (B) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够改善线边缘粗糙度（LER）并抑制图案塌陷的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，并提供使用该组合物的抗蚀剂膜和图案形成方法，以及电子设备和电子设备的制造方法。光敏性或辐射敏感性树脂组合物包含：（A）具有由通式（I-1）至（I-3）中任何一个表示的结构的重复单元的树脂和具有选自内酯结构，磺内酯结构和氰基中的至少一种的重复单元; 和（B）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

8. 发明专利

JP2012173367A Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and resist film and pattern forming method using the composition 有权
标题翻译：化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物和耐蚀膜和使用组合物的图案形成方法
公开(公告)号：JP2012173367A
公开(公告)日：2012-09-10
申请号：JP2011032679
申请日：2011-02-17
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： IIZUKA YUSUKE , SHIBUYA AKINORI , IWATO KAORU , TANGO NAOHIRO
IPC分类号： G03F7/039 , C07C381/12 , C08F20/10 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in all of line edge roughness, pattern features, followability for an immersion liquid and dry etching durability, and to provide a resist film and a pattern forming method using the composition.SOLUTION: The radiation-sensitive resin composition contains: (A) a resin having a repeating unit expressed by general formula (I-1) or (I-2); and (C) a compound, which has a molar absorption coefficient ε, at a wavelength of 193 nm measured in an acetonitrile solvent, of a relative ratio of 0.8 or less with respect to triphenylsulfonium nonafluorobutane sulfonate and which generates an acid by irradiation with radiation. In general formulae (I-1) and (I-2), ARand ARrepresent an aromatic group; Rrepresents an alkyl group, a cycloalkyl group or an aryl group; Aand Aeach independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, a halogen atom, a cyano group or an alkyloxycarbonyl group; and Z represents a linking group to form a ring together with C-AR.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种在线边缘粗糙度，图案特征，浸渍液的追随性和干蚀刻耐久性方面优异的辐射敏感性树脂组合物，并提供抗蚀剂膜和使用该方法的图案形成方法组成。解决方案：辐射敏感性树脂组合物含有：（A）具有由通式（I-1）或（I-2）表示的重复单元的树脂; 和（C）在乙腈溶剂中测量的在193nm波长处具有摩尔吸收系数ε的化合物相对于九氟丁磺酸三苯基锍相对比例为0.8以下，通过辐射照射产生酸。在通式（I-1）和（I-2）中，AR 1 和AR 2 表示芳族基团; R 1 表示烷基，环烷基或芳基; A 1 和A 2 各自独立地表示氢原子，烷基，卤素原子，氰基或烷氧基羰基组; Z表示与C-AR 2 一起形成环的连接基团。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

9. 发明专利

JP2011053430A Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition and pattern forming method using the same 有权
标题翻译：化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：JP2011053430A
公开(公告)日：2011-03-17
申请号：JP2009202129
申请日：2009-09-01
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： SHIRAKAWA MICHIHIRO , TANGO NAOHIRO , YAMAGUCHI SHUHEI , SHIBUYA AKINORI , KATAOKA SHOHEI
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition having an effect of improving the circularity of a pattern and allowing formation of a pattern with a good focus latitude, and to provide a pattern forming method using the composition.
SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises (A) a resin the solubility of which with an alkali developing solution is increased by an action of an acid, and (B) a compound expressed by general formula (1-1) or (1-2), which generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation. The composition is characterized in that: the resin (A) contains a repeating unit having an acid decomposable group, and the content rate of the repeating unit is from 45 to 75 mol% with respect to the whole repeating units in the resin (A); and the content rate of the compound (B) is from 10 to 30 mass% on a basis of the whole solid content of the composition. In general formula (1-1), R
13 represents a hydrogen atom, fluorine atom, or the like; R
14 each independently represents, when plural R
14 are present, an alkyl group, a cycloalkyl group, or the like; R
15 each independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or the like; l represents an integer of 0 to 2; r represents an integer of 0 to 8; and X
- represents a non-nucleophilic anion. In general formula (1-2), M represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or the like; R
1c and R
2c each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or the like; R
x and R
y each independently represent an alkyl group, a cycloalkyl group, or the like; and X
- represents a non-nucleophilic anion.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供具有改善图案的圆形度并且允许形成具有良好的焦点纬度的图案的效果的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，并且提供图案形成方法使用组合。光解射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物包含（A）通过酸的作用使其与碱性显影液的溶解度增加的树脂，（B）由通式（1-1）或（1-2），其通过用光化射线或辐射照射产生酸。该组合物的特征在于：树脂（A）含有具有酸分解性基团的重复单元，重复单元的含有率相对于树脂（A）中的全部重复单元为45〜75摩尔％ ; 并且化合物（B）的含有率基于组合物的全部固体成分为10〜30质量％。在通式（1-1）中，R 13是氢原子，氟原子等; 当存在多个R SB 14时，R SB 14各自独立地表示烷基，环烷基等; R SB 15各自独立地表示烷基，环烷基等; l表示0〜2的整数， r表示0〜8的整数，而X - 表示非亲核阴离子。在通式（1-2）中，M表示烷基，环烷基等; R SB 1和R SB 2各自独立地表示氢原子，烷基等; R SB和R SB各自独立地表示烷基，环烷基等; 而X - 表示非亲核阴离子。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

10. 发明专利

JP2014206686A パターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、電子デバイスの製造方法及び電子デバイス审中-公开
标题翻译：图案形成方法，丙烯酸敏感或辐射敏感性树脂组合物，电泳感光或辐射敏感膜，电子器件和电子器件的制造方法
公开(公告)号：JP2014206686A
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：JP2013084948
申请日：2013-04-15
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： SHIBUYA AKINORI , TANGO NAOHIRO
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/18 , C09K3/00 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/11 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：【課題】線幅40nm以下の超微細パターンの解像性、ドライエッチング耐性及び焦点深度ラチチュード(DOF)の改善を可能とするパターン形成方法、感活性光線性又は感放射線性膜、並びに、該感活性光線性又は感放射線性膜の形成に用いられる感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物を提供すること。更に、このパターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法、及び、電子デバイスを提供すること。【解決手段】 (i)(A)多環芳香族構造を有する繰り返し単位(a)を少なくとも1種含有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有する感活性光線性または感放射線性樹脂組成物を用いて膜厚80nm以下の感活性光線性又は感放射線性膜を形成する工程、(ii)該感活性光線性又は感放射線性膜を露光する工程、及び、(iii)露光した感活性光線性又は感放射線性膜を現像する工程を含むパターン形成方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供能够提高线宽为40nm以下的超细图案的分辨率，耐干蚀刻性和焦深度（DOF）的图案形成方法，可以使用光化学敏感或辐射 - 以及用于形成光化射线敏感或辐射敏感膜的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，以及提供包括图案形成方法和电子装置的电子器件的制造方法解决方案：图案形成方法包括以下步骤：（i）通过使用（A）具有至少一个重复单元的树脂（A）形成膜厚度为80nm以下的光化射线敏感性或辐射敏感性膜 a）具有多环芳族结构并且通过酸的作用增加其对碱性显影剂的溶解速率，和（B）光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其含有产生酸通过光化射线或辐射照射; （ii）暴露光化射线敏感或辐射敏感膜; 和（iii）开发暴露的光化射线敏感或辐射敏感膜。

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