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    • 8. 发明专利
    • 中空シリカ粒子の製造方法
    • 中空二氧化硅颗粒的生产方法
    • JP2016041643A
    • 2016-03-31
    • JP2014166604
    • 2014-08-19
    • 学校法人東京理科大学
    • 酒井 秀樹阿部 正彦遠藤 健司大木 貴仁相馬 央登小倉 卓
    • C01B33/18C01B33/143
    • 【課題】水性溶媒への分散性に優れる中空シリカ粒子の製造方法を提供する。 【解決手段】本発明に係る中空シリカ粒子の製造方法は、pH9.0〜11.7で、ベシクルの生成能力を備えた界面活性剤を含有する水溶液からベシクルを形成して、上記ベシクルを含有する第一水性分散液を得るベシクル形成工程と、上記第一水性分散液にシリカ前駆体を添加して、上記ベシクルと上記シリカ前駆体とを含有する第二水性分散液を得るシリカ前駆体添加工程と、上記第二水性分散液のpHを6.0〜8.5に調整するpH調整工程と、上記pH調整工程後に、上記第二水性分散液を水熱反応に付して、中空シリカ粒子を得る水熱処理工程と、を含む。 【選択図】図2
    • 要解决的问题:提供在水性溶剂中具有优异分散性的中空二氧化硅颗粒的制造方法。溶液:本发明的中空二氧化硅颗粒的制造方法包括:从水溶液形成囊泡的囊泡形成工序 含有能够在9.0〜11.7的pH下制备囊泡的能力的表面活性剂,得到含有囊泡的第一含水分散体; 二氧化硅前体添加步骤,将二氧化硅前体添加到第一水分散体中,得到含有囊泡和二氧化硅前体的第二水性分散体; 将第二水性分散体的pH调节至6.0〜8.5的pH调节步骤; 以及在pH调节步骤后对第二水分散体进行水热反应以获得中空二氧化硅颗粒的水热处理步骤。选择的图:图2