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1. 发明专利

JP5857386B2 無電解めっきの前処理皮膜形成用組成物有权
标题翻译：用于形成非电解镀敷预处理涂料组合物
公开(公告)号：JP5857386B2
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：JP2011191486
申请日：2011-09-02
申请人：地方独立行政法人大阪市立工業研究所 , 奥野製薬工業株式会社 , 扶桑化学工業株式会社
发明人：玉井聡行 , 松川公洋 , 藤原裕 , 小林靖之 , 渡瀬星児 , 渡辺充 , 大塚邦顕 , 産一盛裕 , 中永陽
IPC分类号： C23C18/18

2. 发明专利

JP6953114B2 シリカ系中空粒子、コアシェル粒子及びポリスチレン粒子、並びに、それらの製造方法有权
公开(公告)号：JP6953114B2
公开(公告)日：2021-10-27
申请号：JP2016123009
申请日：2016-06-21
申请人：扶桑化学工業株式会社
发明人：高田智功 , 中永陽
IPC分类号： C08G77/02 , C01B33/18

3. 发明专利

JP2017226567A シリカ系中空粒子、コアシェル粒子及びポリスチレン粒子、並びに、それらの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017226567A
公开(公告)日：2017-12-28
申请号：JP2016123009
申请日：2016-06-21
申请人：扶桑化学工業株式会社
发明人：高田智功 , 中永陽
IPC分类号： C08G77/02 , C01B33/18
摘要：【課題】凝集が抑制されており、アスペクト比が小さい粒子が特定範囲の割合を占め、粒子径の変動係数が特定の範囲であることにより、様々な物品に充填された場合、均一に充填され易いシリカ系中空粒子、当該シリカ系中空粒子を製造することができるコアシェル粒子、及び、これらの製造に好適に用いることができるポリスチレン粒子を提供する。また、当該シリカ系中空粒子、コアシェル粒子及びポリスチレン粒子を製造することができる製造方法を提供する。【解決手段】アスペクト比が1.5以下の粒子が粒子全体の95%以上を占め、粒子径の変動係数が20〜60%である、ことを特徴とするシリカ系中空粒子。【選択図】なし

4. 发明专利

JP2015145325A 中空フッ化マグネシウム粒子の製造方法审中-公开
标题翻译：生产中性氟化镁颗粒的方法
公开(公告)号：JP2015145325A
公开(公告)日：2015-08-13
申请号：JP2014019365
申请日：2014-02-04
申请人：扶桑化学工業株式会社 , 国立大学法人広島大学
发明人：荻崇 , 奥山喜久夫 , アセプバユダニナンディヤント , 中永陽
IPC分类号： C01F5/28
摘要：【課題】中空フッ化マグネシウム粒子を容易に製造することができ、得られる中空フッ化マグネシウム粒子の粒径、及びフッ化マグネシウムの膜厚を制御することができる中空フッ化マグネシウム粒子の製造方法を提供する。【解決手段】中空フッ化マグネシウム粒子の製造方法であって、 (1)溶媒に、負のゼータ電位を有するポリスチレン粒子、マグネシウム源、及びフッ素源を添加撹拌して溶液を調製することにより、前記溶液中で、前記ポリスチレン粒子をコアとし、前記ポリスチレン粒子を被覆したフッ化マグネシウムをシェルとするコアシェル粒子を形成する工程1、及び (2)前記コアシェル粒子のコアである、前記ポリスチレン粒子を除去する工程2 を含む、中空フッ化マグネシウム粒子の製造方法。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种可以容易地生产中空氟化镁颗粒并可以控制所得中空氟化镁颗粒的粒径和氟化镁的厚度的中空氟化镁颗粒的制备方法。解决方案：提供了一种方法用于生产中空氟化镁颗粒的方法，其包括：通过在溶剂中加入并搅拌具有正ζ电位的聚苯乙烯颗粒，镁源和氟源的溶液制备溶液以形成具有聚苯乙烯颗粒的核 - 壳颗粒的步骤1 核心和氟化镁涂覆聚苯乙烯颗粒作为溶液中的壳; 以及除去作为核 - 壳粒子的核心的聚苯乙烯粒子的工序2。

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