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1. 发明专利

JP2018144016A 脱水素触媒及びその製造方法並びにそれを用いた脱水素処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018144016A
公开(公告)日：2018-09-20
申请号：JP2017045109
申请日：2017-03-09
申请人：千代田化工建設株式会社
发明人：今川健一 , 斉藤政志 , 渡邉利行 , 武藤昭博 , 武田大
IPC分类号： B01J35/10 , B01J37/08 , B01J37/02 , C07C5/367 , C07C15/06 , B01J23/42
CPC分类号： Y02P20/52
摘要：【課題】担体の細孔内部にまで触媒金属が分散した状態で担持された脱水素触媒を提供する。【解決手段】少なくともアルミナとチタニアとからなり、好適にはアルミナからなる基材にチタニアが被覆された形態を有する複合担体に脱水素触媒金属として好ましくは白金及び/又はロジウムが担持されてなる脱水素触媒であって、該複合担体は、比表面積が150m 2 /g以上450m 2 /g以下、細孔容積が0.36cm 3 /g以上1.10cm 3 /g以下、平均細孔径が4〜30nmであって、該脱水素触媒金属が該担体外表面及び細孔内表面に分散して担持されており、好ましくは細孔シャープネス度が50%以上である。【選択図】図3

2. 发明专利

JP6194143B2 水素及び合成天然ガスの製造装置及び製造方法有权
公开(公告)号：JP6194143B2
公开(公告)日：2017-09-06
申请号：JP2013185895
申请日：2013-09-09
申请人：千代田化工建設株式会社
发明人：池田修 , 白崎智彦 , 岡田佳巳 , 今川健一
IPC分类号： C07C1/12 , C07C9/04 , C07C15/02 , C07C5/367 , C10L3/06 , C01B3/26

3. 发明专利

JP2015113240A 水素製造システム及びこれを備えた水素貯蔵・輸送システム並びに水素製造方法审中-公开
标题翻译：氢生产系统，氢储存和运输系统及其生产方法
公开(公告)号：JP2015113240A
公开(公告)日：2015-06-22
申请号：JP2013254115
申请日：2013-12-09
申请人：千代田化工建設株式会社
发明人：池田修 , 白崎智彦 , 岡田佳巳 , 今川健一
IPC分类号： C01B3/00 , C01B3/26 , C01B3/38 , C25B1/04 , C25B9/00 , C01B3/02
CPC分类号： Y02E60/328 , Y02E60/366 , Y02E70/10 , Y02P20/133
摘要：【課題】芳香族化合物の水素化に用いられる水素を水電解によって生成する場合に、水電解の原料水の製造に消費されるエネルギーを安定かつ低コストに取得する。【解決手段】水素製造システム1が、再生可能エネルギーを利用して電力を発生する発電装置11と、電力を利用して原料水の電気分解により水素を生成する水電解装置12と、水素化反応により水素を芳香族化合物に付加して、有機ハイドライドを生成する水素化装置14と、蒸発法に基づき原料水を製造する造水装置13とを備え、造水装置は、原料水の製造において水素化装置における反応熱を利用する構成とする。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：通过水电解产生用于芳族化合物氢化的氢气时，以低成本稳定地获得生产水电解原料水所消耗的能量。解决方案：氢气生产系统1包括：发电机11 使用可再生能源发电; 水电解装置12，其通过使用该电力电解原料水而产生氢; 加氢装置14，其通过氢化反应将氢添加到芳族化合物以产生有机氢化物; 以及通过蒸发法生产原料水的净水器13。造水装置13构成为在生产原料水时在氢化装置14中使用反应热。

4. 发明专利

JP2020070485A 電場触媒反応装置及び電場触媒反応方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020070485A
公开(公告)日：2020-05-07
申请号：JP2018207716
申请日：2018-11-02
申请人：千代田化工建設株式会社
发明人：角茂 , 今川健一 , 斉藤政志 , 関根泰 , 瀧瀬賢人 , 佐藤綾香
IPC分类号： B01J23/42 , C25B1/02 , C25B3/02 , C25B11/08 , C07C5/367 , C07C15/06 , C25B9/00
摘要：【課題】有機ハイドライドから水素を脱離させる脱水素反応を電場触媒反応によって行う場合に、電場の印加に用いられる電極間での放電の発生を抑制する。【解決手段】脱水素反応装置1が、一対の電極21A、21B及びそれら電極間に配置された脱水素用触媒を有する反応器10と、その反応器に有機ハイドライドを供給する原料供給ラインL2と、電極21A、21Bに直流電圧を印加する電圧印加装置30と、反応器10に水素を供給する水素供給ラインL3と、を備え、脱水素用触媒は、少なくとも電極21A、21Bに直流電圧が印加される前の状態において、水素供給ラインL3から供給された前記水素によって還元された触媒を含む構成とする。【選択図】図1

5. 发明专利

JP6306371B2 水素供給システムおよび水素供給方法有权
公开(公告)号：JP6306371B2
公开(公告)日：2018-04-04
申请号：JP2014034049
申请日：2014-02-25
申请人：千代田化工建設株式会社
发明人：池田修 , 白崎智彦 , 岡田佳巳 , 今川健一
IPC分类号： C01B3/38 , C10G45/44 , C10K3/04 , C07C5/10 , C07C13/18 , C01B3/00
CPC分类号： Y02E60/328

7. 发明专利

JP2020070484A 脱水素反応装置及び脱水素反応方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020070484A
公开(公告)日：2020-05-07
申请号：JP2018207715
申请日：2018-11-02
申请人：千代田化工建設株式会社
发明人：角茂 , 今川健一 , 斉藤政志 , 関根泰 , 瀧瀬賢人 , 佐藤綾香
IPC分类号： B01J23/42 , C25B1/02 , C25B3/02 , C25B11/04 , C25B11/08 , C07C5/367 , C07C15/06 , C25B9/00
摘要：【課題】有機ハイドライドから水素を脱離させる脱水素反応において、反応温度を抑制しつつ、副生成物であるメタンの生成量を低減する。【解決手段】脱水素反応装置1が、一対の電極21A、21B及びそれら電極間に配置された脱水素用触媒22を有する反応器10と、この反応器に有機ハイドライドを供給する原料供給ラインL2と、電極21A、21Bに直流電圧を印加する電圧印加装置30と、を備えた構成とする。【選択図】図1

8. 发明专利

JP2015168608A 水素製造システムおよび水素製造方法有权
标题翻译：氢生产系统和方法
公开(公告)号：JP2015168608A
公开(公告)日：2015-09-28
申请号：JP2014046323
申请日：2014-03-10
申请人：千代田化工建設株式会社
发明人：三栗谷智之 , 今川健一 , 河合裕教 , 中島悠介 , 神田剛紀
IPC分类号： C01B3/26
CPC分类号： C01B3/26 , B01J7/00 , C01B3/22 , C01B2203/0277 , C01B2203/0833 , C01B2203/1047 , C01B2203/1082 , C01B2203/1211 , C01B2203/1252 , C01B2203/142 , C01B2203/16 , C01B2203/1623
摘要：【課題】有機ハイドライドの脱水素反応を行う脱水素反応装置における脱水素触媒の活性の低下を抑制するために、当該脱水素反応装置に対して簡易な構成により水素を供給可能とする。【解決手段】水素製造システム1が、有機ハイドライドの触媒存在下における脱水素反応によって水素を生成する第1脱水素反応装置3と、第1脱水素反応装置の生成物が供給され、当該生成物に残留する有機ハイドライドの触媒存在下における脱水素反応によって水素を生成する第2脱水素反応装置4とを備え、第1脱水素反応装置で用いられる第1触媒の量は、第2脱水素反応装置で用いられる第2触媒の量以下であり、かつ第1脱水素反応装置における水素の発生量は、第2脱水素反応装置における水素の発生量よりも少ない構成とする。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了抑制脱氢反应器中的脱氢催化剂的活性降低，通过简单的构造向氢化脱氢反应器供给氢，进行有机氢化物的脱氢反应。解决方案：氢气制备系统1 包括：在催化剂存在下通过有机氢化物的脱氢反应生成氢的第一脱氢反应器3; 和第二脱氢反应器4，通过有机氢化物在催化剂存在下的脱氢反应，供应第一脱氢反应器3中的产物以产生氢。在第一脱氢反应器3中使用的第一催化剂的量等于或小于第二脱氢反应器4中使用的第二催化剂的量，并且在第一脱氢反应器3中产生的氢的量小于第一脱氢反应器3中产生的量在第二脱氢反应器4中产生的氢。

9. 发明专利

JP2015145347A 芳香族化合物の水素化システム及びこれを備えた水素貯蔵・輸送システム並びに芳香族化合物の水素化方法有权
标题翻译：芳香化合物加氢处理系统，包含其的氢储存/运输系统及芳烃化合物的加氢方法
公开(公告)号：JP2015145347A
公开(公告)日：2015-08-13
申请号：JP2014018650
申请日：2014-02-03
申请人：千代田化工建設株式会社
发明人：今川健一 , 河合裕教 , 白髪昌斗 , 中島悠介
IPC分类号： C01B3/00 , C07C13/18 , C07C5/10 , C07C7/04 , B01D3/14 , C07C7/09
CPC分类号： C07C5/10 , C01B3/0015 , C01B3/26 , C07C5/367 , C01B2203/0277 , C07C2101/14 , C07C2521/04 , C07C2521/12 , C07C2523/42 , C07C2523/44 , C07C2523/46 , C07C2523/755 , Y02E60/328 , Y02P20/52
摘要：【課題】芳香族化合物の水素化によって生成された水素化芳香族化合物に含まれる高沸点成分(脱水素触媒の被毒物質を含む)の濃度を低下させるための処理に必要なエネルギーを抑制する。【解決手段】芳香族化合物の水素化システム2が、水素化反応により芳香族化合物に水素を付加して、水素化芳香族化合物を生成する水素化反応装置11と、水素化反応装置の生成物を水素化芳香族化合物の沸点以上に維持した状態で気液分離する第1分離装置12と、第1分離装置によって分離された気体に含まれる水素化芳香族化合物を分離する第2分離装置13とを備えた構成とする。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：为了抑制由芳香族化合物氢化生成的氢化芳香族化合物中所含的高沸点成分（含有脱氢催化剂的物质）的浓度所需的能量。溶解：氢化体系2 芳族化合物包括氢化反应器11，用于通过在氢化反应中向芳族化合物中加入氢气来生产氢化芳族化合物;第一分离器12，用于使氢化反应器的产物气体分离，同时保持产品处于沸点;或较高的氢化芳族化合物，以及用于分离包含在第一分离器中分离的气体中的氢化芳族化合物的第二分离器13。

10. 发明专利

JP6437191B2 水素製造システム及びこれを備えた水素貯蔵・輸送システム並びに水素製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP6437191B2
公开(公告)日：2018-12-12
申请号：JP2013254115
申请日：2013-12-09
申请人：千代田化工建設株式会社
发明人：池田修 , 白崎智彦 , 岡田佳巳 , 今川健一
IPC分类号： C01B3/00 , C01B3/26 , C01B3/38 , C25B1/04 , C25B9/00 , C01B3/02
CPC分类号： Y02E60/328 , Y02E60/366 , Y02E70/10 , Y02P20/133

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