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1. 发明专利

JP2021030108A 水処理装置、排ガス処理装置、排ガス処理システム、水処理方法及び排ガス処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2021030108A
公开(公告)日：2021-03-01
申请号：JP2019149439
申请日：2019-08-16
申请人：公立大学法人大阪
发明人：大久保雅章 , 黒木智之 , 山崎晴彦
IPC分类号： B01D53/60 , C02F1/48
摘要：【課題】本発明は、亜硝酸イオン濃度又は硝酸イオン濃度を低減することができる水処理装置を提供する。【解決手段】本発明の水処理装置は、内壁面を有する管状の第1反応器と、亜硝酸イオン及び硝酸イオンの少なくとも1つを含む水を第1反応器中に供給するように設けられた第1水供給部と、第1反応器中に不活性ガスを供給するように設けられた第1ガス供給部と、第1反応器中にプラズマを生成するように設けられた第1プラズマ生成部とを備え、第1水供給部及び第1反応器は、第1水供給部が供給した水が第1反応器の内壁面を膜状に流れるように設けられたことを特徴とする。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2021122796A 粒子状物質除去装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021122796A
公开(公告)日：2021-08-30
申请号：JP2020018938
申请日：2020-02-06
申请人：公立大学法人大阪
发明人：山崎晴彦 , 黒木智之 , 大久保雅章
IPC分类号： H05H1/24 , B01J19/08
摘要：【課題】本発明は、消費電力を小さくすることができ、かつ、出力が比較的小さい電力供給部を利用することができる粒子状物質除去装置を提供する。【解決手段】本発明の粒子状物質除去装置は、プラズマリアクタと、電力供給部とを備え、前記プラズマリアクタは、内部流路と、第1電極と、第2電極と、絶縁層と、酸素ガス及び粒子状物質を含む気体を前記内部流路に注入するように設けられた注入口とを含み、第1電極及び第2電極は、前記内部流路を囲むように配置され、第1電極は、前記絶縁層により第2電極から電気的に分離され、前記電力供給部は、第1電極又は第2電極に電気的に接続され、第1及び第2電極並びに前記電力供給部は、前記電力供給部により第1又は第2電極に電圧を印加することにより前記内部流路を囲む内壁面に沿って沿面放電プラズマを発生させるように設けられたことを特徴とする。【選択図】図3

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