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1. 发明专利

JP5507027B1 Method for manufacturing a charge control agent 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5507027B1
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：JP2014503348
申请日：2013-12-11
申请人：保土谷化学工業株式会社
发明人：厚志武居 , 吉彦阿部 , 英之大塚 , 純渡辺 , 俊介齋藤 , 香苗平石
IPC分类号： G03G9/097 , C09B29/20
CPC分类号： C07F15/025 , C07C245/10 , C09B45/01
摘要：本発明の製造方法は、ジアゾ化カップリングによりモノアゾ化合物を合成し、このモノアゾ化合物を、塩化第二鉄等の鉄化剤を用いて鉄錯塩化を行い、下記式：
【化１】
式中、ｐは、０〜４の整数であり、
ｑ及びｓは、０〜５の整数であり、
Ｒ
１〜Ｒ
３は、それぞれ、アルキル基等の置換基であり、
Ａ
＋は、カチオンである、
で表されるアゾ系鉄錯塩化合物を生成せしめることにより、該アゾ系鉄錯塩化合物を有効成分とする電荷制御剤を製造するものであるが、特に、モノアゾ化合物の鉄化反応を、ｐＨを７．０〜８．０に維持しながら行う点に特徴を有する。この方法によれば、上記のアゾ系鉄錯塩化合物を高収率で且つ高純度で得ることができるため、これをそのまま電荷制御剤として使用することができ、格別の精製工程等を省略することができるため、その製造コストを大幅に低減することができる。
摘要翻译：一种制备电荷控制剂的方法，该电荷控制剂包含偶氮类铁络合物盐化合物作为有效成分，包括以下步骤：通过重氮化偶联合成单偶氮化合物; 并使用氯化铁等铁化剂来熨烫单偶氮化合物，得到下式表示的偶氮系铁络合盐化合物。其中，p为0〜4的整数，q和s各自为0〜5的整数，R 1〜R 3各自为烷基等取代基，A +为阳离子。本发明的制造方法的特征在于，在保持pH为7.0〜8.0的同时进行单偶氮化合物的铁化反应。由于可以根据上述方法以高产率获得上述高纯度的偶氮系铁络合盐化合物，所以可以直接用作电荷控制剂，可以消除特殊的纯化步骤，从而可以大大降低了生产成本。

2. 发明专利

JPWO2014092125A1 電荷制御剤の製造方法有权
标题翻译：用于制造的电荷控制剂的方法
公开(公告)号：JPWO2014092125A1
公开(公告)日：2017-01-12
申请号：JP2014503348
申请日：2013-12-11
申请人：保土谷化学工業株式会社
发明人：厚志武居 , 厚志武居 , 阿部　吉彦 , 吉彦阿部 , 大塚　英之 , 英之大塚 , 渡辺　純 , 純渡辺 , 俊介齋藤 , 俊介齋藤 , 香苗平石 , 香苗平石
IPC分类号： G03G9/097 , C07F15/02
CPC分类号： C07F15/025 , C07C245/10 , C09B45/01
摘要：本発明の製造方法は、ジアゾ化カップリングによりモノアゾ化合物を合成し、このモノアゾ化合物を、塩化第二鉄等の鉄化剤を用いて鉄錯塩化を行い、下記式:【化1】式中、pは、0〜4の整数であり、q及びsは、0〜5の整数であり、R1〜R3は、それぞれ、アルキル基等の置換基であり、A+は、カチオンである、で表されるアゾ系鉄錯塩化合物を生成せしめることにより、該アゾ系鉄錯塩化合物を有効成分とする電荷制御剤を製造するものであるが、特に、モノアゾ化合物の鉄化反応を、pHを7.0〜8.0に維持しながら行う点に特徴を有する。この方法によれば、上記のアゾ系鉄錯塩化合物を高収率で且つ高純度で得ることができるため、これをそのまま電荷制御剤として使用することができ、格別の精製工程等を省略することができるため、その製造コストを大幅に低減することができる。
摘要翻译：本发明的制造方法中，通过重氮化偶联合成的单偶氮化合物，该单偶氮化合物，通过使用铁剂，如氯化铁，下面的公式进行铁络合物盐：## STR1 ##在其中中，p是0至4的整数，q和s是从0至5的整数，R1-R3各自为取代基如烷基，+是阳离子，在表通过允许生产的偶氮型铁配合物盐的化合物，而是旨在产生的电荷控制剂作为有效成分的偶氮型铁配合物盐的化合物，特别地，单偶氮化合物的铁络合反应中，pH为7.0至8.0 其特征在于，执行，同时保持。根据该方法，能够获得和上述偶氮型铁配合物的盐以高收率的化合物，其可直接用作电荷控制剂的高纯度，省略了特殊纯化过程如因为它是，它能够大幅度地降低制造成本。

3. 发明专利

JP4986343B2 Processing method of 1-chloro-carbonyl piperidine derivative hydrochloride 有权
公开(公告)号：JP4986343B2
公开(公告)日：2012-07-25
申请号：JP2001184212
申请日：2001-06-19
申请人：保土谷化学工業株式会社
发明人：紀昌横山 , 吉彦阿部
IPC分类号： C07D211/58

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