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1. 发明专利

JP2021092796A 画像化装置审中-公开
公开(公告)号：JP2021092796A
公开(公告)日：2021-06-17
申请号：JP2021016399
申请日：2021-02-04
申请人：ランダラブズ (2012) リミテッド
发明人：ニルルビンベンハイム , マイケルナグラー , ベンジオンランダ , テイマーカッシュティ , オフェルアクニン , ローネンヨゲヴ , イタイツール
IPC分类号： G03F7/24 , G03F7/20
摘要：【課題】基準のX方向に移動可能な画像化表面に個別制御可能なレーザービームを投射するための画像化装置を提供する。【解決手段】画像化装置は複数個の半導体チップ30を備え、各半導体チップはM行N列である2次元の主アレイに配列した複数個のレーザービーム発光素子40を有する。各行における素子は均一間隔A r をし、また各列における素子は均一間隔a c を有する。チップは支持体16に備え付けけ、X方向に交差する基準Y方向に互いに隣接する各チップ対がX方向に互いにオフセットし、また連続的に作動するとき、各対における2つのチップで発生したレーザービームがX方向に延在し、またY方向にほぼ均一に離間する平行ラインのセットを画像化面上でトレースするように行う。各チップは主アレイの各サイドに少なくとも1つの付加的な列を有し、各列はY方向のいかなる誤整列も補償できる少なくとも1つの選択的に動作可能なレーザー発光素子を含む。【選択図】図2

2. 发明专利

JP2020513355A 熱転写印刷における改良审中-公开
公开(公告)号：JP2020513355A
公开(公告)日：2020-05-14
申请号：JP2019528856
申请日：2016-11-30
申请人：ランダラブズ (2012) リミテッド
发明人：ベンジョンランダ , サージアブラーモヴィッチ , アミットハヴィブ , オフェルアクニン , ヤーコフバルドマン , マイケルナグラー
IPC分类号： B41M5/46 , B41J27/00 , B41J31/16 , B41J2/48 , B41J27/12 , B41J2/447 , B41J2/455 , B41M5/382
摘要：基板の表面における選択された領域に熱転写印刷する方法及び装置を開示する。この方法は、以下のステップ、すなわち、a) 画像化表面を有する転写部材を準備するステップと、b) 前記転写部材の前記画像化表面に、熱塑性ポリマー(重合体)で形成若しくはコーティングした個別粒子をコーティングするステップと、c) 前記画像化表面に直接的に接触しないほぼすべての粒子を除去して、前記画像化表面上に均一で単層の粒子コーティングを残すステップと、d) 前記選択された領域における前記粒子を加熱して粘着性のあるものとするよう、前記コーティングした画像化表面の選択された領域にエネルギーを印加するステップと、及びe) 前記エネルギー印加中又はエネルギー印加後のいずれかで、前記コーティングした画像化表面及び前記基板の表面を互いに押し合わせ、粘着性のあるものにされた前記粒子コーティングの領域のみにおける前記基板の表面に転写させるステップと、を備える。前記ステップb)及びc)を繰り返して、先に塗布した単層コーティングが前記基板の表面に転写された前記選択された領域に新たな粒子の単層コーティングを塗布し、前記画像化表面を再び粒子の単層で均一にコーティングされた状態にし、その後の基板の表面への印刷を可能にすることができる。【選択図】図8A

3. 发明专利

JP2020529940A 印刷システム及びその書込みモジュール审中-公开
公开(公告)号：JP2020529940A
公开(公告)日：2020-10-15
申请号：JP2020507075
申请日：2018-08-08
申请人：ランダラブズ (2012) リミテッド
发明人：ニルルビンベンハイム , マイケルナグラー , アブラハムケレン , オフェルアクニン , ベンジョンランダ
IPC分类号： B41J2/447 , B41J2/455 , B41J2/475
摘要：書込みモジュールと、ポリマーを担持するよう構成された画像化表面を有しかつ書込みモジュールに対して相対移動可能な部材とを備える印刷システムを開示する。書込みモジュールは、画像化表面の移動方向に対して横断する方向において互いに離間する複数の個別制御可能な光ビームを画像化表面上に指向させ、画像化表面上のスポットへの光ビーム入射が、該スポットの画像化表面によって担持されているポリマーを軟化又は液状化するよう構成される。スポットにおける軟化又は液化したポリマーは、基板に転移することができる又は画像化表面上の粘着剤として作用することができる。書込みモジュールは複数の集積電子モジュールを有し、各電子モジュールは個別制御可能な光源のアレイを有し、各光源は各個に対応の光ビームを生成する。本発明において、各光源は、互いに直列に接続されかつ光を画像化表面上で互いに同一のスポットに指向させるよう構成された少なくとも2つの垂直キャビティ面発光レーザー(VCSEL)発光半導体接合を有する。【選択図】図7A

5. 发明专利

JP2018526240A 基板の選択された領域にフィルムをコーティングする印刷方法及び装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018526240A
公开(公告)日：2018-09-13
申请号：JP2017561400
申请日：2016-05-27
申请人：ランダラブズ (2012) リミテッド
发明人：ベンジオンランダ , アントンクラシーリニコフ , マイケルナグラー , アリエルアドラー , ニルルビンベンハイム , オフェルアクニン , ローネンヨゲヴ
IPC分类号： B41J2/447 , B41J2/455 , B05C1/08 , B44C1/17 , B41M5/03 , B41M5/46
CPC分类号： B41F23/00 , B41J2/447 , B41J2/45 , B41J2/455 , C23C16/0209 , G03G15/043 , G03G15/342
摘要：基板の表面における選択された領域にフィルムをコーティングする方法及び装置を開示する。この方法は、以下のステップ、すなわち、 a) 画像化表面を有して連続的に移動する転写部材を準備するステップと、 b) 前記転写部材の前記画像化表面に、熱塑性ポリマーで形成若しくはコーティングした個別粒子をコーティングするステップと、 c) 前記画像化表面に直接的に接触しないほぼすべての粒子を除去して、前記画像化表面上に均一で単層の粒子コーティングを残すステップと、 d) 前記コーティングした画像化表面の選択された領域を十分なパワーの照射に露光させるステップであって、前記パワーは、前記選択された領域内で前記粒子を粘着性のあるものとするのに十分である、該露光ステップと、 e) 前記照射中又は照射後のいずれかで、前記コーティングした画像化表面及び前記基板の表面を互いに押し合わせ、粘着性のあるものにされた前記粒子コーティングの領域のみを前記基板の表面に転写するステップであって、前記粘着性領域がフィルムを形成する、該転写ステップと、並びに f) 先に塗布した単層コーティングがステップe)で前記基板の表面に転写された前記選択された領域に新たな粒子の単層コーティングを塗布するため、前記ステップb)及びc)を繰り返して、前記画像化表面を再び粒子の単層で均一にコーティングされた状態が残るようにするステップと、を備える。【選択図】図1

6. 发明专利

JP6914197B2 画像化装置有权
公开(公告)号：JP6914197B2
公开(公告)日：2021-08-04
申请号：JP2017561402
申请日：2016-05-27
申请人：ランダラブズ (2012) リミテッド
发明人：ニルルビンベンハイム , マイケルナグラー , ベンジオンランダ , テイマーカッシュティ , オフェルアクニン , ローネンヨゲヴ , イタイツール
IPC分类号： B41J2/455 , B41J2/48 , B41F17/10 , B41M1/22 , G03G15/04 , B41J2/447

7. 发明专利

JP2020513353A 熱転写印刷审中-公开
公开(公告)号：JP2020513353A
公开(公告)日：2020-05-14
申请号：JP2019528846
申请日：2017-11-30
申请人：ランダラブズ (2012) リミテッド
发明人：ベンジョンランダ , サージアブラモヴィッチ , アミットハヴィブ , オフェルアクニン , ヤーコフバルドマン , マイケルナグラー
IPC分类号： B41F16/00 , B41M1/06 , B41M3/12 , B41F7/00 , B41C1/055 , B05D3/14 , B05D1/26 , B44C1/17
摘要：基板の表面の選択された領域に熱転写印刷する方法及びシステムを開示する。このシステムは、互いに対向する前面側及び裏面側があり、前面側に画像化表面を有する転写部材と、熱塑性ポリマーで作製された、又はコーティングされた粒子の単層が画像化表面に塗布されるコーティングステーションと、転写部材の裏面側から粒子コーティングされた画像化表面の選択された領域に電磁(EM)放射の形態のエネルギーが印加され、選択された領域内で画像化表面における粒子を粘着性のあるものにする画像化ステーションと、並びに画像化表面及び基板表面が互いに押し合わせられて、粘着性のあるものにされた粒子コーティングの領域のみを基板表面に転写させる転写ステーションと、を備える。本発明において、転写部材の裏面側はEM放射に対して透過性のある本体で形成され、またエラストマーシリコーンで作製したEM放射吸収層を透過性本体に隣接する転写部材の前面側に設け、画像化表面は放射吸収層上に又は放射吸収層の一部として形成する。【選択図】図3a

8. 发明专利

JP2018520905A 画像化装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018520905A
公开(公告)日：2018-08-02
申请号：JP2017561402
申请日：2016-05-27
申请人：ランダラブズ (2012) リミテッド
发明人：ニルルビンベンハイム , マイケルナグラー , ベンジオンランダ , テイマーカッシュティ , オフェルアクニン , ローネンヨゲヴ , イタイツール
IPC分类号： B41J2/455 , B41J2/48 , B41F17/10 , B41M1/22 , G03G15/04 , B41J2/447
CPC分类号： G03F7/70025 , B41J2/447 , B41J2/45 , B41J2/451 , B41J2/455 , G03G15/04072 , G03G15/043 , G03G15/342
摘要：画像化装置に対して基準X方向に移動可能な画像化表面に個別制御可能なレーザービームを投射するための画像化装置について記載する。画像化装置は、複数個の半導体チップを備え、これら半導体チップそれぞれは、M行及びN列である2次元の主アレイに配列した複数個のレーザービーム発生素子を有する。各行における素子は均一間隔A r を有し、また各列における素子は均一間隔a c を有する。チップは支持体に備え付け、この備え付けは、X方向に交差する基準Y方向に互いに隣接する各チップ対が、X方向に互いにオフセットし、また連続的に作動するとき、各対における2つのチップで発生したレーザービームが、X方向に延在し、またY方向にほぼ均一に離間する平行ラインのセットを画像化面上でトレースするように行う。主アレイにおける素子がM行及びN列であることの他に、各チップは、主アレイの各サイドに少なくとも1つの付加的な列を有し、これら列それぞれは、支持体における隣接チップの相対位置決めに関するY方向のいかなる誤整列をも補償できる少なくとも1つの選択的に動作可能なレーザー発光素子を含む。【選択図】図3

9. 发明专利

JP2018518392A 画像化装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018518392A
公开(公告)日：2018-07-12
申请号：JP2017561403
申请日：2016-05-27
申请人：ランダラブズ (2012) リミテッド
发明人：マイケルナグラー , ニルルビンベンハイム , オフェルアクニン , ベンジオンランダ
IPC分类号： G02B3/00 , G03G15/04 , B41J2/455 , B41J2/48 , H04N1/036 , B41J2/447
CPC分类号： G03F7/70025 , B41J2/447 , B41J2/45 , B41J2/451 , B41J2/455 , G03G15/04072 , G03G15/043 , G03G15/342
摘要：画像化装置に対して基準X方向に移動可能な画像化表面に個別制御可能なレーザービームを投射するための画像化装置について開示する。画像化装置は、複数個の半導体チップを備え、これら半導体チップそれぞれは、M行及びN列である2次元のアレイに配列した個別制御可能な複数個のレーザービーム発生素子を有する。各行における素子は均一間隔A r を有し、また各列における素子は均一間隔a c を有する。チップは支持体に備え付け、この備え付けは、X方向に交差する基準Y方向に互いに隣接する各チップ対が、X方向に互いにオフセットし、また連続的に作動するとき、各対における2つのチップで発生したレーザービームが、X方向に延在し、またY方向にほぼ均一に離間する平行ラインのセットを画像化面上でトレースするように行う。チップは支持体上に少なくとも1対の行にして配列し、またこの行対内におけるチップは、X方向及びY方向に互いに隣接する3つのチップの任意なグループにおける対応素子が合同正三角形の頂点に位置するように整列するものとし、画像化装置は、さらに、複数個のレンズ系を備え、各レンズ系は、それぞれに対応する1つのチップにおけるすべてのレーザー素子のレーザービームをレーザービーム間の離間量が変化させることなく画像化表面上に合焦させるよう作用する。各レンズ系は、単一の屈折率分布型(GRIN:gradient index)ロッド、又は互いに直列的に配列した複数個のGRINロッドを有することができる。【選択図】図4

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