会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明专利
    • 非水電解質二次電池用負極材料および非水電解質二次電池
    • JPWO2018179969A1
    • 2020-02-06
    • JP2018005423
    • 2018-02-16
    • パナソニックIPマネジメント株式会社
    • 朝野 泰介内山 洋平山本 泰右明楽 達哉山本 格久南 博之
    • H01M4/58H01M4/36H01M4/38
    • 非水電解質二次電池用負極材料は、リチウムシリケート相と、リチウムシリケート相内に分散しているシリコン粒子と、リチウムシリケート相内に分散している、希土類元素およびアルカリ土類金属よりなる群から選択される少なくとも1種の元素Meとを含む。リチウムシリケート相の組成は、例えば、式:Li 2z SiO 2+z で表わされ、0




      負極材料LSXに含まれる元素Meの量は、元素Meの状態もしくはMe化合物の種類にかかわらず、元素Meが化学量論的な酸化物を形成していると仮定して算出される量(推定Me酸化物量)を指標とすることができる。推定Me酸化物量は、リチウムシリケート相とシリコン粒子との合計に対して、0.001質量%以上、1.0質量%以下が好ましい。推定Me酸化物量を0.001質量%以上にすることで、反応面積を低減し、リチウムシリケート相の硬度を向上させる効果が大きくなる。一方、推定Me酸化物量を 1.0 質量%以下にすることで、初期容量の減少を極力抑制することができる。推定Me酸化物量は、リチウムシリケート相とシリコン粒子との合計に対して、0.005質量%以上がより好ましい。
      工程(i) 式:Li 2z SiO 2+z で表されるリチウムシリケートのz値は、二酸化ケイ素とリチウム化合物との混合物における リチウム の ケイ素 に対する原子比:Li/Siにより制御すればよい。アルカリ成分の溶出の少ない良質なリチウムシリケートを合成するには、Li/Siを1より小さくすることが好ましい。



      (81)指定国・地域 AP(BW,GH,GM,KE,LR,LS,MW,MZ,NA,RW,SD,SL,ST,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,RU,T J,TM),EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,R O,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,KM,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CZ,DE,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,G T,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IR,IS,JO,JP,KE,KG,KH,KN,KP,KR,KW,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LU,LY,MA,MD,ME,MG,MK,MN,MW,MX ,MY,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PA,PE,PG,PH,PL,PT,QA,RO,RS,RU,RW,SA,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,ST,SV,SY,TH,TJ,TM, TN,TR,TT (72)発明者 明楽 達哉 大阪府門真市大字門真1006番地 パナソニック株式会社内 (72)発明者 山本 格久 大阪府門真市大字門真1006番地 パナソニック株式会社内 (72)発明者 南 博之 大阪府門真市大字門真1006番地 パナソニック株式会社内 Fターム(参考) 5H050 CB01 CB12 HA01 HA02 HA05 (注)この公表は、国際事務局(WIPO)により国際公開された公報を基に作成したものである。なおこの公表に 係る日本語特許出願(日本語実用新案登録出願)の国際公開の効果は、特許法第184条の10第1項(実用新案法 第48条の13第2項)により生ずるものであり、本掲載とは関係ありません。
    • 5. 发明专利
    • 負極材料および非水電解質二次電池
    • JPWO2018101072A1
    • 2019-10-24
    • JP2017041409
    • 2017-11-17
    • パナソニックIPマネジメント株式会社
    • 内山 洋平山本 泰右明楽 達哉山本 格久南 博之
    • H01M4/36H01M4/38H01M4/136H01M4/58
    • リチウムシリケートを含むリチウムシリケート相と、前記リチウムシリケート相内に分散しているシリコン粒子と、を含み、前記シリコン粒子の結晶子サイズが、10nm以上であり、前記リチウムシリケートの組成が、式:Li 2 Si 2 O 5 ・(x−2)SiO 2 で表わされ、2




      (81)指定国・地域 AP(BW,GH,GM,KE,LR,LS,MW,MZ,NA,RW,SD,SL,ST,SZ,TZ,UG,ZM,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,RU,T J,TM),EP(AL,AT,BE,BG,CH,CY,CZ,DE,DK,EE,ES,FI,FR,GB,GR,HR,HU,IE,IS,IT,LT,LU,LV,MC,MK,MT,NL,NO,PL,PT,R O,RS,SE,SI,SK,SM,TR),OA(BF,BJ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GQ,GW,KM,ML,MR,NE,SN,TD,TG),AE,AG,AL,AM,AO,AT,AU,AZ, BA,BB,BG,BH,BN,BR,BW,BY,BZ,CA,CH,CL,CN,CO,CR,CU,CZ,DE,DJ,DK,DM,DO,DZ,EC,EE,EG,ES,FI,GB,GD,GE,GH,GM,G T,HN,HR,HU,ID,IL,IN,IR,IS,JO,JP,KE,KG,KH,KN,KP,KR,KW,KZ,LA,LC,LK,LR,LS,LU,LY,MA,MD,ME,MG,MK,MN,MW,MX ,MY,MZ,NA,NG,NI,NO,NZ,OM,PA,PE,PG,PH,PL,PT,QA,RO,RS,RU,RW,SA,SC,SD,SE,SG,SK,SL,SM,ST,SV,SY,TH,TJ,TM, TN,TR,TT (72)発明者 山本 格久 大阪府門真市大字門真1006番地 パナソニック株式会社内 (72)発明者 南 博之 大阪府門真市大字門真1006番地 パナソニック株式会社内 Fターム(参考) 5H050 AA07 BA17 CA01 CA08 CA09 CB01 CB08 CB11 CB29 FA18 HA02 HA05 HA12 (注)この公表は、国際事務局(WIPO)により国際公開された公報を基に作成したものである。なおこの公表に 係る日本語特許出願(日本語実用新案登録出願)の国際公開の効果は、特許法第184条の10第1項(実用新案法 第48条の13第2項)により生ずるものであり、本掲載とは関係ありません。