专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

3. 发明专利

JP3878667B2 Dispensing system 有权
公开(公告)号：JP3878667B2
公开(公告)日：2007-02-07
申请号：JP2002269590
申请日：2002-09-17
申请人：シーケーディ株式会社 , 株式会社オクテック
发明人：勝弥奥村 , 幸生小澤 , 寛板藤
IPC分类号： G01N1/00 , G01N35/10 , B01J4/00 , B01L3/02 , C12M1/00 , G01N1/10 , G01N35/02 , G01N37/00

6. 发明专利

JP4828642B1 Vacuum control valve and vacuum control system 有权
公开(公告)号：JP4828642B1
公开(公告)日：2011-11-30
申请号：JP2010113694
申请日：2010-05-17
申请人：シーケーディ株式会社
发明人：寛板藤 , 雅之纐纈
IPC分类号： F16K51/02 , F15B11/06 , F15B15/14 , F16K31/128
摘要：【課題】本発明は遮断機能を有する真空制御バルブの設計自由度を高める技術を提供する。
【解決手段】本発明は、真空容器と真空ポンプとの間に接続され、作動流体によって弁開度を操作して真空容器内の真空圧力を制御する真空制御バルブ３０を提供する。本真空制御バルブ３０は、リフト量の調節による弁開度の操作と遮断とを行う弁体３３とピストンとを有する動作部と、ピストンを収容するシリンダ３１と、リフト量が小さくなる方向に動作部を付勢する付勢部と、ピストンの外周面とシリンダ３１の内周面との間の隙間を、ピストンの動作に追従しつつ密閉するベロフラム３４と、ベロフラム３４によって密閉され、作動流体の作用圧力に応じてリフト量を大きくする方向に荷重を発生させる弁開度操作室と、作動流体の供給に応じて動作部に対してリフト量を小さくする方向に荷重を発生させる遮断荷重発生室と、を備える。
【選択図】図１

7. 发明专利

JP4673449B1 Liquid vaporization system 有权
公开(公告)号：JP4673449B1
公开(公告)日：2011-04-20
申请号：JP2010537983
申请日：2010-03-30
申请人：シーケーディ株式会社
发明人：寛板藤 , 雅之纐纈
IPC分类号： B01D1/22 , B01J7/00 , H01L21/027
CPC分类号： B01B1/005
摘要：液体材料の残留の問題を解消しつつ、液体材料の気化の促進を図ることができる液体気化システムを提供する。
液体気化システム１０には、液体気化装置２０が設けられている。本装置２０は、ポンプ１１と、気化器１２とを備えている。気化器１２は、ケース２１と、ケース２１の内部に設けられたヒータと、ヒータにより加熱される蓄熱板２３と、蓄熱板２３上に設けられたメッシュ２４とを備えている。メッシュ２４は、線材２４ａが編み込まれることにより形成され、全体としては平板状をなしている。蓄熱板２３の上面にメッシュ２４が重ねられることで蓄熱板２３上にはメッシュ２４により微細な凹凸が設けられている。メッシュ２４の上方にはノズル２７が設けられ、ノズル２７から液体材料が蓄熱板２３（メッシュ２４）上に滴下される。液体材料は蓄熱板２３上を薄膜状に拡がり蓄熱板２３の上面で加熱され気化される。
【選択図】図２

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB