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1. 发明专利

JPWO2017158937A1 被パターン形成体の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017158937A1
公开(公告)日：2019-01-24
申请号：JP2016085094
申请日：2016-11-28
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：新藤博之 , 奥村尚裕
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10
摘要：本発明の課題は、パターニングに用いるマスクの変形を抑制することができる被パターン形成体の製造方法を提供することである。本発明の被パターン形成体の製造方法は、マスクを使用してパターンが形成される被パターン形成体の製造方法であって、気体を吹き付けてマスクを冷却した状態で、マスクを隣接させた被パターン形成体にマスクと対向する位置から被パターン形成体に間欠的に光照射する工程を備え、被パターン形成体の光照射されたパターンが形成される範囲のうち最も端部に近い位置からの被パターン形成体の表面に対して垂直方向のマスクの反り変形量ΔZが、式(I)を満たすように、気体をマスクに吹き付ける速度(V)と光照射の1周期(T)の照射時間(t)及びデューティ比(D)を調整した条件下でパターニングすることを特徴とする。式(I):ΔZ≦70[μm]

2. 发明专利

JPWO2017158946A1 有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法及びパターニング装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017158946A1
公开(公告)日：2019-01-17
申请号：JP2016085680
申请日：2016-12-01
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：新藤博之 , 奥村尚裕 , 森川雅弘
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10
摘要：本発明の課題は、生産性が高く、寸法精度の高いパターニングが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法を提供することである。また、有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング装置を提供することである。本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法は、マスクを介して有機エレクトロルミネッセンス素子の有機機能層に光照射してパターンを形成する有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法であって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が前記マスクと密着し冷却台に載置された状態で、前記光照射を間欠的に行うことを特徴とする。

3. 发明专利

JPWO2017158925A1 マスク保持機構及びこれを備えるパターニング装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017158925A1
公开(公告)日：2019-01-24
申请号：JP2016084041
申请日：2016-11-17
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：奥村尚裕 , 新藤博之 , 森川雅弘
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10 , H01L21/683 , G03F7/20
摘要：本発明の課題は、パターニング用マスクの熱膨張を防止するとともに、位置ズレを防止するマスク保持機構を提供することである。本発明のマスク保持機構(1)は、パターニング用マスク(M)を保持可能な四角形状のマスクフレーム(2)を有し、マスクフレーム(2)の各辺に設けられ、マスク(M)に接触して、マスク(M)を側方から押圧する粘弾性体(4)と、粘弾性体(4)を固定する固定手段(6)と、を備え、粘弾性体(4)は、マスクフレーム(2)の各辺に1対以上対向して配置され、固定手段(6)は、対向して配置された粘弾性体(4)のうち、少なくとも一方の粘弾性体(4)を固定し、マスク(M)に一定圧力を加えてマスク(M)を保持可能とすることを特徴とする。

4. 发明专利

JP6380235B2 走査光学系及び走査装置审中-公开
公开(公告)号：JP6380235B2
公开(公告)日：2018-08-29
申请号：JP2015107146
申请日：2015-05-27
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：石川亮太 , 松田博幸 , 影山将史 , 米竹淳一郎 , 藤井英之 , 新藤博之
IPC分类号： G01S7/481 , G02B26/12
CPC分类号： G01S7/4817 , G01S17/42 , G01S17/936 , G02B26/129

5. 发明专利

JP2015180956A 走査光学系及びレーダー审中-公开
标题翻译：扫描光学系统和雷达
公开(公告)号：JP2015180956A
公开(公告)日：2015-10-15
申请号：JP2015107146
申请日：2015-05-27
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：石川亮太 , 松田博幸 , 影山将史 , 米竹淳一郎 , 藤井英之 , 新藤博之
IPC分类号： G01S7/481 , G02B26/12
CPC分类号： G01S7/4817 , G01S17/42 , G01S17/936 , G02B26/129
摘要：【課題】対象物に照射されるスポット光の縦歪曲とスポット回転を抑制し、広い視野範囲を持ちつつ分解能の変化を抑制できる走査光学系及びレーダーを提供する。【解決手段】光源から出射された光束は、ミラーユニットの第1ミラー面で反射した後、回転軸に沿って進行し、更に第2ミラー面で反射され、ミラーユニットの回転に応じて走査角中心で走査角方向に沿って前記対象物に対して走査されつつ投光されるようになっており、投光系から出射された光束は、対象物の測定範囲で走査角方向よりも副走査角方向に長く、下記条件式を満足する。 |θ1−90|×|α|≦225・・・(1) 但し、θ1:第1ミラー面と第2ミラー面との交差角(°) α:回転角(°:前記走査角の1/2) 【選択図】図5
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够抑制辐射到目标和点旋转的点波束的纵向应变的扫描光学系统和雷达，并且在确保宽的观看范围的同时抑制分辨率的变化。解决方案：一束光线从光源发射的光由反射镜单元的第一镜面反射，沿着旋转轴线行进，被第二镜面进一步反射，并且在扫描时沿着扫描角度方向扫描靶，被辐射到目标上角度中心响应于镜单元的旋转。从投影系统发射的一束光线在副扫描角度方向上比目标测量范围内的扫描角度方向更长，并且满足以下条件表达式（1）| | thetas; 1-90 |×|α |≤225，其中＆amp; tt; 1表示第一镜面和第二镜面之间的交角（°） α表示旋转角度（°，扫描角度的一半）。

6. 发明专利

JP2019079593A 有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019079593A
公开(公告)日：2019-05-23
申请号：JP2016054617
申请日：2016-03-18
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：新藤博之 , 奥村尚裕 , 森川雅弘
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10
摘要：【課題】生産性が高く、寸法精度の高いパターニングが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法、及び、パターニング装置を提供する。【解決手段】マスク10を介して有機エレクトロルミネッセンス素子11の有機機能層に光照射してパターンを形成する有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法であって、マスクは有機エレクトロルミネッセンス素子と間隙hを有して配置され、間隙に気流発生部8から気体9を流しながら光照射する。【選択図】図1

7. 发明专利

JPWO2017158943A1 パターニング装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017158943A1
公开(公告)日：2019-01-24
申请号：JP2016085369
申请日：2016-11-29
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：新藤博之 , 奥村尚裕 , 森川雅弘
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10
摘要：本発明の課題は、有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング時間を大幅に短縮できるパターニング装置を提供することである。当該パターニング装置は、有機エレクトロルミネッセンス素子にマスクを介して光を照射し発光パターンを形成するパターニング装置であって、波長が特定の範囲内の光を1W/cm 2 以上の放射照度で照射する光照射部を備え、光照射エリア内における前記波長の範囲内の光の放射照度が、当該光照射エリア内における前記放射照度の平均値に対し±10%の範囲内であり、前記光照射エリア内における前記波長の範囲内の光のコリメーション半角が、45°以下であることを特徴とする。

9. 发明专利

JP6358250B2 有機エレクトロルミネッセンス素子のパターン形成方法审中-公开
公开(公告)号：JP6358250B2
公开(公告)日：2018-07-18
申请号：JP2015513704
申请日：2014-04-16
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：森川雅弘 , 新藤博之
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： H01L51/0031 , H01L51/00 , H01L51/0014 , H01L51/0015 , H01L51/50 , H01L51/504 , H01L51/56 , H05B33/10

10. 发明专利

JP5754564B2 走査光学系及びレーダー有权
标题翻译：扫描光学系统和雷达
公开(公告)号：JP5754564B2
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：JP2015511262
申请日：2014-04-08
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：石川亮太 , 松田博幸 , 影山将史 , 米竹淳一郎 , 藤井英之 , 新藤博之
IPC分类号： G02B26/10 , G01S7/481 , G01S17/93 , B60R21/00 , G02B26/12
CPC分类号： G01S7/4817 , G01S17/42 , G01S17/936 , G02B26/129

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