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1. 发明专利

JPWO2017158937A1 被パターン形成体の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017158937A1
公开(公告)日：2019-01-24
申请号：JP2016085094
申请日：2016-11-28
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：新藤博之 , 奥村尚裕
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10
摘要：本発明の課題は、パターニングに用いるマスクの変形を抑制することができる被パターン形成体の製造方法を提供することである。本発明の被パターン形成体の製造方法は、マスクを使用してパターンが形成される被パターン形成体の製造方法であって、気体を吹き付けてマスクを冷却した状態で、マスクを隣接させた被パターン形成体にマスクと対向する位置から被パターン形成体に間欠的に光照射する工程を備え、被パターン形成体の光照射されたパターンが形成される範囲のうち最も端部に近い位置からの被パターン形成体の表面に対して垂直方向のマスクの反り変形量ΔZが、式(I)を満たすように、気体をマスクに吹き付ける速度(V)と光照射の1周期(T)の照射時間(t)及びデューティ比(D)を調整した条件下でパターニングすることを特徴とする。式(I):ΔZ≦70[μm]

2. 发明专利

JPWO2017158925A1 マスク保持機構及びこれを備えるパターニング装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017158925A1
公开(公告)日：2019-01-24
申请号：JP2016084041
申请日：2016-11-17
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：奥村尚裕 , 新藤博之 , 森川雅弘
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10 , H01L21/683 , G03F7/20
摘要：本発明の課題は、パターニング用マスクの熱膨張を防止するとともに、位置ズレを防止するマスク保持機構を提供することである。本発明のマスク保持機構(1)は、パターニング用マスク(M)を保持可能な四角形状のマスクフレーム(2)を有し、マスクフレーム(2)の各辺に設けられ、マスク(M)に接触して、マスク(M)を側方から押圧する粘弾性体(4)と、粘弾性体(4)を固定する固定手段(6)と、を備え、粘弾性体(4)は、マスクフレーム(2)の各辺に1対以上対向して配置され、固定手段(6)は、対向して配置された粘弾性体(4)のうち、少なくとも一方の粘弾性体(4)を固定し、マスク(M)に一定圧力を加えてマスク(M)を保持可能とすることを特徴とする。

3. 发明专利

JP2015203787A 調整装置审中-公开
标题翻译：调整设备
公开(公告)号：JP2015203787A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：JP2014083393
申请日：2014-04-15
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：奥村尚裕 , 武中健一 , 町田哲治
IPC分类号： G02B7/00 , G02B3/00 , G02B7/02
摘要：【課題】例えば光学素子の組み付け時や測定時などにおいて、光学素子を安定した状態で光軸直交方向移動および回転を行って所望の位置に位置決めすることが可能な調整装置を提供する。【解決手段】アレイレンズAL1は、第1爪部材21cと、第2爪部材22c、22c’とにより、X方向に対向する方向に適正な付勢力で付勢されると共に、固定されたアレイレンズAL2側に向かって付勢されているので、アレイレンズAL2に対して浮き上がることなく、またレンズAL1bの歪みや変形が生じないようになっている。またアレイレンズAL1は、第3爪部材23cと、第4爪部材24c、24c’とにより、Y方向に対向する方向に適正な付勢力で付勢されると共に、固定されたアレイレンズAL2側に向かって付勢されているので、アレイレンズAL2に対して浮き上がることなく、またレンズAL1bの歪みや変形が生じないようになっている。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种调节装置，其保持光学元件的稳定性，并且使光学元件沿与光轴正交的方向移动和旋转以定位在期望位置，例如当安装光学元件并且测量是解决方案：阵列透镜AL1利用第一棘爪构件21c和第二棘爪构件22c，22c'通过适当的偏置力而在与X方向相反的方向上被偏压，并且朝向固定的阵列透镜AL2偏置。因此，阵列透镜AL1没有从阵列透镜AL2升起，透镜AL1b既不翘曲也不变形。此外，通过适当的偏置力，阵列透镜AL1通过第三爪构件23c和第四棘爪构件24c，24c'在与Y方向相反的方向上被偏压，并且朝向固定阵列透镜AL2偏置。因此，阵列透镜AL1没有从阵列透镜AL2提起，并且透镜AL1b既不翘曲也不变形。

4. 发明专利

JP6891625B2 画像処理装置、X線撮影システム及びX線撮影システムによる被写体の撮影方法有权
公开(公告)号：JP6891625B2
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：JP2017094338
申请日：2017-05-11
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：奥村尚裕 , 北村光晴
IPC分类号： G01N23/041 , A61B6/00

5. 发明专利

JPWO2017158946A1 有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法及びパターニング装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017158946A1
公开(公告)日：2019-01-17
申请号：JP2016085680
申请日：2016-12-01
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：新藤博之 , 奥村尚裕 , 森川雅弘
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10
摘要：本発明の課題は、生産性が高く、寸法精度の高いパターニングが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法を提供することである。また、有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング装置を提供することである。本発明の有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法は、マスクを介して有機エレクトロルミネッセンス素子の有機機能層に光照射してパターンを形成する有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法であって、前記有機エレクトロルミネッセンス素子が前記マスクと密着し冷却台に載置された状態で、前記光照射を間欠的に行うことを特徴とする。

6. 发明专利

JP6776890B2 X線撮影システム有权
公开(公告)号：JP6776890B2
公开(公告)日：2020-10-28
申请号：JP2016253683
申请日：2016-12-27
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：奥村尚裕
IPC分类号： A61B6/00 , G01N23/041

7. 发明专利

JP2019079593A 有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法及び有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019079593A
公开(公告)日：2019-05-23
申请号：JP2016054617
申请日：2016-03-18
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：新藤博之 , 奥村尚裕 , 森川雅弘
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10
摘要：【課題】生産性が高く、寸法精度の高いパターニングが可能な有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法、及び、パターニング装置を提供する。【解決手段】マスク10を介して有機エレクトロルミネッセンス素子11の有機機能層に光照射してパターンを形成する有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング方法であって、マスクは有機エレクトロルミネッセンス素子と間隙hを有して配置され、間隙に気流発生部8から気体9を流しながら光照射する。【選択図】図1

8. 发明专利

JPWO2017158943A1 パターニング装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017158943A1
公开(公告)日：2019-01-24
申请号：JP2016085369
申请日：2016-11-29
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：新藤博之 , 奥村尚裕 , 森川雅弘
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10
摘要：本発明の課題は、有機エレクトロルミネッセンス素子のパターニング時間を大幅に短縮できるパターニング装置を提供することである。当該パターニング装置は、有機エレクトロルミネッセンス素子にマスクを介して光を照射し発光パターンを形成するパターニング装置であって、波長が特定の範囲内の光を1W/cm 2 以上の放射照度で照射する光照射部を備え、光照射エリア内における前記波長の範囲内の光の放射照度が、当該光照射エリア内における前記放射照度の平均値に対し±10%の範囲内であり、前記光照射エリア内における前記波長の範囲内の光のコリメーション半角が、45°以下であることを特徴とする。

9. 发明专利

JP2018187244A X線撮影システム及びX線撮影システムによる被写体の撮影方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018187244A
公开(公告)日：2018-11-29
申请号：JP2017094338
申请日：2017-05-11
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：奥村尚裕 , 北村光晴
IPC分类号： G01N23/20 , A61B6/00
摘要：【課題】撮影画像データと付帯情報データとの紐付け作業を簡易に行うことができるようにする。【解決手段】X線タルボ撮影装置1と、X線タルボ撮影装置1で読み取られたモアレ画像Moに基づいて、微分位相画像、吸収画像、小角散乱画像の少なくとも3種類を含む複数種類の再構成画像を生成する画像処理装置2と、を備えるX線撮影システムであって、被写体30,31の表面に対し、複数種類の再構成画像のうち少なくとも一種類の再構成画像によって認識可能な識別情報30a,31aが付されており、画像処理装置2は、当該画像処理装置2に記憶された付帯情報データと識別情報30a,31aとを紐付けする紐付け手段を有する。【選択図】図5

10. 发明专利

JP2015232606A アレイレンズユニット組付方法およびアレイレンズユニット組付装置审中-公开
标题翻译：阵列镜头组装方法和阵列镜头组件装置
公开(公告)号：JP2015232606A
公开(公告)日：2015-12-24
申请号：JP2014118718
申请日：2014-06-09
申请人：コニカミノルタ株式会社
发明人：武中健一 , 奥村尚裕 , 町田哲治
IPC分类号： B23P21/00 , G03B15/00 , G02B3/00
摘要：【課題】本発明は、被組付用アレイレンズに組付用レンズを組み付ける際に、最適な偏心調整を行うことができ、光学精度の高いアレイレンズユニットを得ることができるアレイレンズユニット組付方法およびアレイレンズユニット組付装置の提供を目的とする。【解決手段】本発明のアレイレンズユニット組付方法は、組付用アレイレンズ101の個眼レンズ121の全部について被組付用アレイレンズ101の対応する個眼レンズ111との初期位置での偏心量を検出し、その検出した初期位置偏心量検出量のデータに基づいて、組付用アレイレンズ102が中心軸O回りに回転した場合における回転後位置に応じた回転後位置偏心量情報を得、その回転後位置偏心量情報から偏心調整情報として、偏心量のばらつきの範囲が最小となる回転位置情報とばらつき範囲中心情報とを取得する。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供一种阵列透镜组合方法，其能够进行最佳的偏心调整，并且在将用于组装的透镜组装到要组装的阵列透镜时获得具有高光学精度的阵列透镜，并且还提供阵列透镜组件装置。解决方案：阵列透镜组合方法检测在初始位置上与其组装的阵列透镜的组件101的阵列透镜的所有单眼透镜121和与其对应的阵列透镜111的单眼透镜111之间的偏心量，根据检测到的初始位置偏心量检测量的数据，当组装用阵列透镜102围绕中心轴线O旋转时，根据后旋转位置的旋转位置偏心量信息，并获取旋转位置信息和变化范围中心作为偏心调整信息，偏心量的变化范围最小的信息从后转位置偏心量信息。

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