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1. 发明专利

JP4034668B2 Ultra-pure water production system and method operation 有权
公开(公告)号：JP4034668B2
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：JP2003056874
申请日：2003-03-04
申请人：オルガノ株式会社 , 株式会社ルネサステクノロジ
发明人：吉夫宮本 , 一博宮田 , 和彦川田 , 修荒木 , 平長舟 , 健二高橋
IPC分类号： C02F1/42 , C02F1/44 , C02F1/00

2. 发明专利

JP4032496B2 Cmp process wastewater treatment equipment 失效
公开(公告)号：JP4032496B2
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：JP11386398
申请日：1998-04-23
申请人：オルガノ株式会社
发明人：和彦川田 , 広菅原
IPC分类号： B01D61/14 , C02F1/44 , B01D61/16 , B01D61/18 , B01J41/04 , C02F1/28 , C02F1/42 , H01L21/304
CPC分类号： C02F2103/346

3. 发明专利

JP5081690B2 Method for producing ultra-pure water 有权
公开(公告)号：JP5081690B2
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：JP2008089464
申请日：2008-03-31
申请人：オルガノ株式会社
发明人：朋貢大橋 , 和彦川田 , 美和伊藤
IPC分类号： C02F1/42 , B01J49/00

4. 发明专利

JP4693268B2 Water quality evaluation method of sample water 有权
公开(公告)号：JP4693268B2
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：JP2001103584
申请日：2001-04-02
申请人：オルガノ株式会社
发明人：和彦川田 , 由紀子鳥山
IPC分类号： G01N1/10 , G01N33/18 , H01L21/304
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To accurately measure a concentration of an impurity contained in sample water, and to correctly evaluate an influence onto a substrate, by sampling the impurity contained in the sample water of high purity such as ultrapure water on the substrate using a special container. SOLUTION: A container 4 having a substrate fixing part 12 is used to fix a substrate 10. A substrate take in/out ports, a sample water inlet 20 and a sample water outlet are provided in the container. The container is movable in a sealed condition. The sample water is introduced from the sample water inlet into the container, the sample water is discharged from the sample water outlet to an outside of the container, and the sample water is thereby brought into contact with the substrate fixed to the substrate fixing part. The substrate after the contact with the sample water is dried under a condition fixed to the fixing part. An operation for putting the substrate from the substrate take in/out ports into the container to be fixed to the substrate fixing part, and an operation for taking out the substrate from the substrate take in/out ports to the outside of the container are carried out under a highly clean atmosphere.

5. 发明专利

JP4508469B2 Method of manufacturing electronic parts cleaning for ultra-pure water 有权
公开(公告)号：JP4508469B2
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：JP2001145050
申请日：2001-05-15
申请人：オルガノ株式会社
发明人：紀子大信 , 和彦川田 , 紀久浦井
IPC分类号： B01D61/02 , C02F1/42 , B01D61/14 , B01J47/12 , C02F1/44

6. 发明专利

JP5615026B2 超純水製造装置用のステンレス及びその製造方法、並びに超純水製造装置有权
标题翻译：不锈钢及其制造方法，其用于超纯水生产装置中，和超纯水生产系统
公开(公告)号：JP5615026B2
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：JP2010097743
申请日：2010-04-21
申请人：オルガノ株式会社
发明人：亮輔寺師 , 亮輔寺師 , 川田　和彦 , 和彦川田
IPC分类号： C02F1/00 , C02F1/32 , C02F1/42 , C02F1/44 , C02F9/00 , C23G1/08

7. 发明专利

JP4480061B2 Method for cleaning ultra-pure water manufacturing supply system in ultrapure water production system and the device 有权
公开(公告)号：JP4480061B2
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：JP2002291136
申请日：2002-10-03
申请人：オルガノ株式会社
发明人：和彦川田 , 広菅原
IPC分类号： B08B9/027 , C02F1/00 , B08B3/08 , C02F1/28 , C02F1/42 , C02F1/44

8. 发明专利

JP4609675B2 Metal polishing cmp process waste water treatment apparatus and method 有权
公开(公告)号：JP4609675B2
公开(公告)日：2011-01-12
申请号：JP2007212056
申请日：2007-08-16
申请人：オルガノ株式会社
发明人：和彦川田 , 広菅原
IPC分类号： C02F1/44 , B01D61/14 , B01D61/16 , B01D61/18 , B01D71/02 , B24B57/02 , C02F1/28 , H01L21/304

9. 发明专利

JP4508701B2 Electronic parts member class manufacturing equipment water treatment system 有权
公开(公告)号：JP4508701B2
公开(公告)日：2010-07-21
申请号：JP2004111073
申请日：2004-04-05
申请人：オルガノ株式会社
发明人：孝之今岡 , 和彦川田
IPC分类号： B01D61/02 , C02F9/00 , C02F1/42 , C02F1/44

10. 发明专利

JP3963319B2 Ultrapure water production system 有权
公开(公告)号：JP3963319B2
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：JP2002324252
申请日：2002-11-07
申请人：オルガノ株式会社
发明人：紀子大信 , 和彦川田 , 広菅原
IPC分类号： B01D61/00 , C02F1/42 , B01D19/00 , B01J47/12 , C02F1/20 , C02F1/32 , C02F1/44 , C02F9/00

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