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1. 发明专利

JP2021134936A ロータリーキルン审中-公开
公开(公告)号：JP2021134936A
公开(公告)日：2021-09-13
申请号：JP2020028640
申请日：2020-02-21
申请人：株式会社島川製作所
发明人：橋本彰 , 松岡茂
IPC分类号： F27B7/34 , F27B7/28
摘要：【課題】ステンレス製のレトルトのCrが奪取されることを抑制し、また高温処理におけるニッケル層の劣化も防止することができるロータリーキルンを提供する。【解決手段】内側にニッケル層を有する管状ステンレスで構成されるレトルトと、前記レトルトを回転させるローターと、前記レトルトの外部に配置された加熱部を有するロータリーキルンであって、前記レトルトが、前記ニッケル層の純度が99%以上であり、前記加熱部が前記レトルト内を常温から500℃乃至600℃まで加熱する第1の加熱ゾーンと、前記ニッケル層の純度が70%〜90%であり、前記加熱部が前記レトルト内を常温から650℃乃至900℃まで加熱する第2の加熱ゾーンを有することを特徴とするロータリーキルンは、水酸基がなくなるまでは純ニッケルの内側層でCrの奪取、混入を抑制する。【選択図】図1

2. 发明专利

JP2021096069A 真空加熱炉审中-公开
公开(公告)号：JP2021096069A
公开(公告)日：2021-06-24
申请号：JP2021054982
申请日：2021-03-29
申请人：株式会社島川製作所
发明人：橋本彰 , 松岡茂
IPC分类号： F26B3/28 , F26B25/06 , F26B5/04
摘要：【課題】真空容器内で被処理物を乾燥させるには輻射熱を利用するが、防爆等の観点から、真空容器内および真空容器外に所定温度以上の加熱源を配置できない場合がある。【解決手段】開口を有する真空容器と、前記開口を開閉する扉と、前記真空容器内の雰囲気ガスを排出する真空ポンプと、加熱源に接触して加熱され、前記真空容器内で熱放射する輻射面を有する輻射体とを有し、少なくとも前記輻射体の前記加熱源に接している面と反対の面に形成される輻射面上で、前記加熱源と接触している領域に相当する第1輻射面に高輻射層が形成された真空加熱炉であって、前記加熱源が前記真空容器内に設けられ、前記真空容器の内壁面にも高輻射層が形成されていることを特徴とする真空加熱炉。【選択図】図8

3. 发明专利

JP6513972B2 ロータリーキルン装置有权
公开(公告)号：JP6513972B2
公开(公告)日：2019-05-15
申请号：JP2015039488
申请日：2015-02-27
申请人：株式会社島川製作所
发明人：橋本彰 , 松岡茂
IPC分类号： F27B7/33 , F27B7/32 , F27B7/36 , F27D7/06 , F27B7/06

4. 发明专利

JP2004081980A Gas cleaning equipment and gas cleaning method 审中-公开
公开(公告)号：JP2004081980A
公开(公告)日：2004-03-18
申请号：JP2002246304
申请日：2002-08-27
申请人： Miura Co Ltd , Shimakawa Seisakusho:Kk , 三浦工業株式会社 , 株式会社島川製作所
发明人： NAKAI TETSUSHI , MATSUOKA SHIGERU
IPC分类号： A61L2/20 , B01D53/72 , B01D53/77 , B01D53/86
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To easily suppress below a specified amount the content of a harmful gas component remaining in the gas after being passed through a liquid, in a method wherein a gas containing the harmful gas component is passed through the liquid capable of dissolving the harmful gas component and releasing the dissolved gas component for removing the the harmful gas component contained in the gas. SOLUTION: Exhaust gas containing the harmful gas component is fed to the liquid 7 stored in a container 3 through an exhaust gas path 4, and a part of the harmful gas component is dissolved into the liquid 7 when the exhaust gas containing the harmful gas component is passed through the liquid 7, and the exhaust gas with an adjusted concentration of the harmful gas is fed to a cleaner 5 from the container 3. The liquid 7 is controlled below a predetermined temperature by a cooling device 6, and thus is kept in a state to dissolve the harmful gas component easily. Accordingly, the cleaner 5 is fed with the harmful gas component with a concentration within a limit of cleaning treatment capacity and consequently, the harmful gas component is stably removed. COPYRIGHT: (C)2004,JPO

5. 发明专利

JPWO2019097637A1 有機溶剤含有ガス処理システム审中-公开
公开(公告)号：JPWO2019097637A1
公开(公告)日：2019-11-14
申请号：JP2017041311
申请日：2017-11-16
申请人：株式会社島川製作所
发明人：橋本彰 , 松岡茂
IPC分类号： F23G7/06 , B01D53/04
摘要：エネルギーの効率化が可能な有機溶剤含有ガス処理システムを提供する。脱離用ガスAを送風するブロア10と、有機溶剤を含有している原ガスと前記脱離用ガスAが供給され、浄化ガスと濃縮ガスを排出する濃縮脱離装置20と、前記濃縮ガスを取り込む第1蓄熱部31と、前記第1蓄熱部31に連通し前記濃縮ガスを燃焼する連通部33と、前記連通部33から燃焼した濃縮ガスが送り出される第2蓄熱部32を有する蓄熱式燃焼装置30を有し、前記脱離用ガスAが前記濃縮脱離装置20に供給される前に熱を付与する熱交換機構34を前記蓄熱式燃焼装置30の前記連通部33に有することを特徴とする有機溶剤含有ガス処理システム。

6. 发明专利

JP2016121859A 有害成分加熱浄化装置审中-公开
标题翻译：有害组分加热和净化装置
公开(公告)号：JP2016121859A
公开(公告)日：2016-07-07
申请号：JP2014263340
申请日：2014-12-25
申请人：株式会社島川製作所
发明人：橋本彰 , 松岡茂
IPC分类号： F23G7/06 , B01D53/86 , B01J23/42 , F23G7/07
摘要：【課題】各種ガス中の一CO(一酸化炭素)、HC(炭化水素)、細菌、ダニ等の有害成分を加熱し酸化浄化する、コンパクトで簡素な機構で、省エネで高い浄化効率を実現できる有害成分加熱浄化装置を提供する。【解決手段】上方で連通する連通部30と、下方には開口部21が形成された底面を有し、連通部以外は壁によって仕切られた3つ以上の室と、室に開口部側から連通部に向かって連設された蓄熱体層12および触媒層14と、触媒層に隣接して設けられた加熱装置24を有し、開口部には、有害ガスを室内に導入する流入流路32に連通する連通口と、室から浄化ガスを排出する流出流路34に連通する連通口と、室にパージガスを導入するパージ流路36に連通する連通口が設けられ、底面上と摺動可能に密着載置され、連通口の1つを連通状態にする選択孔が形成されたダンパー18と、ダンパーによる連通口の開閉を制御する制御装置50を設ける。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够通过紧凑且简单的加热，氧化和净化-CO（一氧化碳），HC [...]的有害成分的机构，实现节能状态下的高净化效率的有害成分加热和净化装置，碳氢化合物]，细菌，螨虫等。解决方案：本发明包括与上部连通的通信部分30; 三个以上的室具有在下部形成有开口部21的底面，除了被壁分隔的连通部以外的其他部分; 储藏体层12和催化剂层14从其开口侧朝向连通部配合配置在室内; 以及设置成与催化剂层相邻的加热器装置24，开口部设置有与用于将有害气体送入室的流入通路32连通的连通口，与流出通路34连通的连通口用于从腔室排出净化气体的通气口与吹扫通道36连通，用于将吹扫气体送入腔室。设置有可滑动地紧密接触并安装在底表面上的阻尼器18，并形成有选择孔，以使一个连通孔彼此连通;以及控制装置50，用于控制通信的打开或关闭端口与阻尼器。选择图：图1

7. 发明专利

JPWO2010024216A1 排ガスの処理方法および処理装置有权
公开(公告)号：JPWO2010024216A1
公开(公告)日：2012-01-26
申请号：JP2010526693
申请日：2009-08-24
申请人：公立大学法人大阪府立大学 , 株式会社島川製作所
发明人：智之黒木 , 智之黒木 , 大久保　雅章 , 雅章大久保 , 松岡　茂 , 茂松岡 , 鍾列金 , 鍾列金
IPC分类号： B01D53/44 , B01D53/02 , B01D53/04 , B01D53/74 , B01D53/86 , B01J23/34
CPC分类号： B01D53/04 , B01D2257/2064 , B01D2257/708 , B01D2259/40086 , B01D2259/403 , B01D2259/818 , H05H1/2406 , H05H2001/2418 , H05H2245/1215
摘要：工場などからの排ガスの処理方法において、(a)排ガスを吸着剤充填部内の吸着剤と接触させて排ガス中の有害成分を吸着剤に吸着させ、有害成分が吸着除去された後の排ガスを排出する工程、(b)大気圧非熱プラズマ発生装置により活性ガスを発生させ、該活性ガスを前記吸着剤に吸着された有害成分と常温〜100℃の温度範囲で接触させて、該有害成分を分解すると同時に該吸着剤を再生する工程、および(c)有害成分分解処理後の処理済みガスを排出する工程を含む、排ガスの処理方法。

8. 发明专利

JP3961639B2 Purifying apparatus and method for purifying harmful gas with a buffer 失效
公开(公告)号：JP3961639B2
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：JP25024597
申请日：1997-09-16
申请人：株式会社島川製作所
发明人：憲三島川
IPC分类号： B01D53/34 , B01D53/30 , B01D53/81 , B01D53/86

9. 发明专利

JP3523594B2 Harmful gas purification equipment and purification method 有权
公开(公告)号：JP3523594B2
公开(公告)日：2004-04-26
申请号：JP2000550585
申请日：1999-05-25
申请人：株式会社島川製作所
发明人：憲三島川
IPC分类号： B01D53/14 , B01D53/18 , B01D53/86 , B01D53/34 , B01D53/72 , B01D53/77
CPC分类号： B01D53/8687 , B01D53/14 , B01D53/1487 , B01D53/18 , B01D53/86

10. 发明专利

JP6347007B1 有機溶剤含有ガス処理システム有权
公开(公告)号：JP6347007B1
公开(公告)日：2018-06-20
申请号：JP2018514920
申请日：2017-11-16
申请人：株式会社島川製作所
发明人：橋本彰 , 松岡茂
IPC分类号： F23G7/06 , B01D53/06
摘要：エネルギーの効率化が可能な有機溶剤含有ガス処理システムを提供する。脱離用ガスAを送風するブロア10と、有機溶剤を含有している原ガスと前記脱離用ガスAが供給され、浄化ガスと濃縮ガスを排出する濃縮脱離装置20と、前記濃縮ガスを取り込む第1蓄熱部31と、前記第1蓄熱部31に連通し前記濃縮ガスを燃焼する連通部33と、前記連通部33から燃焼した濃縮ガスが送り出される第2蓄熱部32を有する蓄熱式燃焼装置30を有し、前記脱離用ガスAが前記濃縮脱離装置20に供給される前に熱を付与する熱交換機構34を前記蓄熱式燃焼装置30の前記連通部33に有することを特徴とする有機溶剤含有ガス処理システム。

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