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1. 发明专利

JP4660995B2 Hydrogen storage and release characteristic measuring method and apparatus 有权
公开(公告)号：JP4660995B2
公开(公告)日：2011-03-30
申请号：JP2001226217
申请日：2001-07-26
申请人：周山口 , 山里産業株式会社 , 宏湯川
发明人：周山口 , 秀雄木村 , 宏湯川
IPC分类号： G01N27/406 , G01N27/26 , G01N27/416 , H01M4/38
CPC分类号： Y02E60/12

2. 发明专利

JP5634929B2 スクラッチ印刷用インク及びスクラッチ印刷物有权
标题翻译：刮油墨和耐擦伤印刷品
公开(公告)号：JP5634929B2
公开(公告)日：2014-12-03
申请号：JP2011074536
申请日：2011-03-30
申请人：ムラセ印刷株式会社 , 湯川宏 , 宏湯川
发明人：湯川　宏 , 宏湯川 , 慎一村瀬 , 慎一村瀬
IPC分类号： C09D11/02 , B42D25/378

3. 发明专利

JP4130562B2 Hydrogen permeability measurement method and apparatus of metal 有权
公开(公告)号：JP4130562B2
公开(公告)日：2008-08-06
申请号：JP2002255936
申请日：2002-08-30
申请人：周山口 , 山里産業株式会社 , 東京瓦斯株式会社 , 正彦森永 , 宏湯川
发明人：勇安田 , 周山口 , 秀雄木村 , 正彦森永 , 宏湯川
IPC分类号： G01N27/28 , G01N27/416 , B01D65/10 , B01D71/02 , C01B3/56

4. 发明专利

JP2003042998A Hydrogen absorption/desorption characteristic measuring method and apparatus thereof 有权
标题翻译：氢吸收/解吸特性测量方法及装置
公开(公告)号：JP2003042998A
公开(公告)日：2003-02-13
申请号：JP2001226217
申请日：2001-07-26
申请人： Shu Yamaguchi , Yamari Sangyo Kk , Hiroshi Yugawa , 周山口 , 山里産業株式会社 , 宏湯川
发明人： YAMAGUCHI SHU , YUGAWA HIROSHI , KIMURA HIDEO
IPC分类号： G01N27/406 , G01N27/26 , G01N27/416 , H01M4/38
CPC分类号： Y02E60/12
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a hydrogen absorption/desorption characteristic measuring apparatus, having high reliability, capable of absorbing hydrogen quantitatively and accurately compared with a conventional device such as Sieverts' apparatus, and measuring a low equilibrium hydrogen pressure. SOLUTION: This apparatus is constituted from a vessel, containing an electrolyte and keeping the electrolyte at a prescribed temperature, a sample electrode, a counter electrode and a reference electrode formed with palladium as the main material, a temperature measuring means, a hydrogen absorption/ desorption quantity calculation means, and an equilibrium hydrogen pressure calculation means.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种具有高可靠性的氢吸收/解吸特性测量装置，能够与Sieverts装置等常规装置相比定量准确地吸收氢，并测量低平衡氢气压力。解决方案：该装置由含有电解质并将电解质保持在规定温度的容器，样品电极，对电极和以钯为主要成分的参比电极构成，温度测量装置，吸氢/ 解吸量计算装置和平衡氢气压力计算装置。

5. 发明专利

JP2012207146A Ink for scratch-printing and scratch-printed matter 有权
标题翻译：用于打印和打印打印的墨水
公开(公告)号：JP2012207146A
公开(公告)日：2012-10-25
申请号：JP2011074536
申请日：2011-03-30
申请人： Murase Insatsu Kk , Hiroshi Yugawa , ムラセ印刷株式会社 , 宏湯川
发明人： YUGAWA HIROSHI , MURASE SHINICHI
IPC分类号： C09D11/02 , B41M3/00 , B42D15/10
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an ink for scratch-printing, capable of holding a concealing property against the light of a specific light source, e.g., black light, simple in the constitution, producible in a few steps and easy to produce, and to provide scratch-printed matter.SOLUTION: This ink for scratch-printing contains a substance having, in an ink base agent for offset-printing, a wider band gap than that of the energy of irradiation light, e.g., a substance having a band gap of >4.1 eV and ≤20 eV, or a substance having a band gap of >4.88 eV and ≤20 eV. Concretely, as such substances, magnesium oxide, tantalum oxide, calcium oxide, lithium fluoride and sodium chloride are suitable. The scratch-printed matter 10 is provided by applying the ink for scratch-printing onto a printing substrate material and installing a printing layer 13 for forming concealed characters 12 as a concealed image.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供用于刮擦印刷的墨水，能够保持针对特定光源的光的隐蔽性，例如黑光，结构简单，可以在几个步骤中生产，并且易于生产，并提供划痕的物品。解决方案：用于划痕印刷的油墨含有在胶版印刷用油墨基剂中具有比照射光能量更宽的带隙的物质，例如具有> 4.1的带隙的物质 eV和≤20eV，或具有> 4.88eV的带隙和≤20eV的物质。具体地，作为这样的物质，氧化镁，氧化钽，氧化钙，氟化锂和氯化钠是合适的。刮擦印刷物10通过将印刷油墨用于印刷基板材料并安装用于形成隐藏字符12的印刷层13作为隐藏图像来提供。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

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