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    • 1. 发明专利
    • 真マイケル付加(RMA)反応により架橋可能な組成物
    • 真迈克尔加成(RMA)通过使可交联的组合物
    • JP2016514760A
    • 2016-05-23
    • JP2016506869
    • 2014-04-07
    • ヌプレクス レジンズ ビー.ブイ.ヌプレクス レジンズ ビー.ブイ.
    • ブリンクーイズ、リヒャルト・ヘンドリクス・ゲルリットタイズ、フェリー・ルドビクスデ・ウォルフ、エルウィン・アロイシウス・コルネリウス・アドリアヌス
    • C08L101/02
    • C08G63/916C08G63/181C08J3/24C08J2367/00C08K3/0033C08K3/013C09D167/02
    • 本発明は真マイケル付加(RMA)反応により架橋可能な架橋性組成物に関し、少なくとも2つの活性不飽和基(以下RMAアクセプター基という)を有する成分と、活性メチレン又はメチン基(以下RMAドナー基という)中に少なくとも2つの酸性プロトンC−Hを有する成分とを含み、これらの成分が反応して架橋ネットワークを形成できる。組成物は以下を含む:f.活性メチレン又はメチン中に少なくとも2つの酸性C−Hドナー基を有し、10.5〜14のpKa(A)を有する成分A;g.少なくとも2つの活性不飽和アクセプター基を有する成分B[アクセプター基対ドナー基のモル比Rが3:1〜1:6、成分Bは真マイケル付加(RMA)により成分Aと反応して架橋ネットワークを形成する];h.酸性X−H基含有化合物(式中XはN、P、O、S又はC)に由来の塩基性アニオンX−の塩である塩基性成分C[iv.0.001〜1meq/(1グラムの成分A、B、C、D)の量xc、v.アニオンX−は成分Bと反応可能なマイケル付加ドナー、vi.アニオンX−は主要な成分AのpKa(A)よりも2単位を超えて下回り10.5未満である対応する酸性X−HのpKa(C)によって特徴付けられる];i.1以上の酸性X’−H基(式中X’はN、P、O、S又はC)を含む任意の成分D[v.X’は成分C中の基Xと同じ又は異なる基、vi.X’−アニオンは成分Bと反応可能なマイケル付加ドナー、vii.成分D中のX’−H基のpKa(D)が主要な成分AのpKa(A)よりも2単位を超えて下回り10.5未満、viii.成分C中の塩基性アニオンX−に対する成分D中の酸性X’−H基の当量比Rd/cが1〜5000%]。【選択図】なし
    • 本发明涉及一种真迈克尔加成(RMA)通过具有至少两个活性不饱和基的组分反应可交联的可交联的组合物(以下简称为RMA受体基团),被称为活性亚甲基或次甲基(在下文中RMA供体基团 ),并具有至少两个酸性质子C-H中,一个组分,以形成交联网络由这些组分反应。 组合物,包括以下内容:.. F具有活性亚甲基或次甲基中的至少两个酸性C-H供体基团,组分A具有10.5的pKa,以图14(A);克至少两个活性不饱和受体 。具有基团成分B [受体基团的摩尔比率R供体基团是3:1至1:6,组分B通过由Shin迈克尔加成(RMA)与组分A反应形成交联网络]; H酸性 X-H化合物基的(其中X是N,P,O,S或C)在碱性阴离子X - 的盐从碱性组分C [iv.0.001〜1meq /(1克部件派生 ,B,C,D的量)XC,诉阴离子X - 是下面超过2个单位的pKa比(a)能够与迈克尔加成供体,VI。阴离子X-是主要部分的反应的组分B的 小于10.5的特征在于相应的酸X-H的pKa(C)]; I.1多个酸性X'-H基团(其中X“是N,P,O,S或C)的含 任选的组分D [V.X“是相同或不同的基团如X中组分C vi.X'-阴离子超过2个单位的比能与迈克尔加成供体VII反应,的组分B的pKa值(A)。在组分X'-H基团的pKa值ð(D)是主要成分的 小于小于10.5,VIII。当量比路/ C酸性X'-H基团的组分D来碱性阴离子在组分C X - 为1〜5000%。 系统技术领域