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71. 发明专利

JPWO2015093508A1 膜形成用組成物审中-公开
公开(公告)号：JPWO2015093508A1
公开(公告)日：2017-03-23
申请号：JP2015553570
申请日：2014-12-17
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：高大忰山 , 高大忰山 , 直也西村 , 直也西村 , 小澤　雅昭 , 雅昭小澤
IPC分类号： C09D179/04 , C08G73/02 , C09D7/12 , C09D179/02
CPC分类号： C09D179/04 , C08G73/026 , C08G73/0273 , C08G73/0644 , C08G73/065 , C08K5/103 , C08K5/3435 , C08K5/3492 , C09D5/00 , C09D7/48 , C08K5/3475
摘要：例えば、下記式(17)で表されるような、トリアジン環を有する繰り返し単位構造を含む重合体と、架橋剤と、紫外線吸収剤と、光安定剤とを含む光硬化型膜形成用組成物を用いることで、高屈折率で耐候性の良好な硬化膜を作製できる。

72. 发明专利

JPWO2014208499A1 ピロールノボラック樹脂を含むレジスト下層膜形成組成物审中-公开
标题翻译：抗蚀剂下层膜形成用组合物，其包括吡咯酚醛清漆树脂
公开(公告)号：JPWO2014208499A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2015524037
申请日：2014-06-23
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：徹也新城 , 安信染谷 , 涼柄澤 , 裕和西巻 , 貴文遠藤 , 圭祐橋本
IPC分类号： G03F7/11 , C08G12/26 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/11 , C08G12/26 , C08G16/0268 , C09D161/00 , C09D161/26 , C09D179/04 , G03F7/091 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/32 , H01L21/02271 , H01L21/0276 , H01L21/0332 , H01L21/3081
摘要：【課題】レジストに近いドライエッチング速度の選択比、レジストに比べて小さいドライエッチング速度の選択比や半導体基板に比べて小さいドライエッチング速度の選択比を持つ、優れたレジスト下層膜を提供することができる。【解決手段】下記式(1):【化1】(式(1)中、R3は水素原子、又はハロゲン基、ニトロ基、アミノ基、カルボニル基、炭素数6〜40のアリール基、若しくはヒドロキシ基で置換されていても良い炭素数6〜40のアリール基、又は複素環基であり、R4は水素原子、又はハロゲン基、ニトロ基、アミノ基、若しくはヒドロキシ基で置換されていても良い炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜40のアリール基、又は複素環基であり、R3とR4はそれらが結合する炭素原子と一緒になって環を形成していても良い。nは0乃至2の整数を示す。)の単位構造を含むポリマーを含むレジスト下層膜形成組成物。式(1)のR3がベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環又はピレン環であり、R4が水素原子である。【選択図】なし
摘要翻译：阿与所选择比的小干蚀刻速度和半导体基板的抗蚀剂附近的选定比的干蚀刻速度，在比较与抗蚀剂具有小的干蚀刻速度的选择比进行比较，以提供优异的抗蚀剂下层膜它可以是。下式（1）：（在式（1）中，R3是氢原子，或卤素基团，硝基，氨基，羰基，碳原子数为6〜40的芳基，或羟基任选取代的具有基团，或杂环基中有6〜40个碳原子的芳基，R 4是氢原子，或卤素基团，硝基，氨基，或可被羟基取代的碳原子数 C 1 -C 10烷基，具有6至40个碳原子，或杂环基芳基，R3和R4可以一起也与碳原子形成环它们所连接.N是 0以指示2点的整数。）的抗蚀剂下层膜形成用组合物包含含有的单元结构的聚合物。 R3是式（1），萘环，蒽环或芘环的苯环，R 4为氢原子。系统技术领域

73. 发明专利

JP6065003B2 膜形成用組成物有权
标题翻译：所述膜形成组合物
公开(公告)号：JP6065003B2
公开(公告)日：2017-01-25
申请号：JP2014514759
申请日：2013-05-10
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：西村直也 , 忰山高大 , 鹿内康史 , 村上なつ美 , 安部誠志 , 三井滋 , 小澤雅昭
IPC分类号： G02B1/04 , G02B5/02 , H05B33/02 , H01L51/50 , C08G73/06 , C08K3/22 , C08K3/36 , C08K9/00 , C08K5/29 , C08L61/28 , C08L79/04
CPC分类号： G02B1/04 , C08G73/026 , C08G73/0273 , C08G73/0644 , C09D179/04 , G02B5/0226 , H01L27/3241 , H01L51/5253 , H01L51/5268 , H01L51/5275 , C08J2379/04 , G02B5/0242

74. 发明专利

JPWO2014115233A1 樹脂組成物、パターン硬化膜の製造方法及び半導体素子审中-公开
标题翻译：树脂组合物，制造方法和半导体器件图案的固化膜
公开(公告)号：JPWO2014115233A1
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：JP2014558304
申请日：2013-12-27
申请人：日立化成デュポンマイクロシステムズ株式会社
发明人：由香里鯉渕 , 由香里鯉渕 , 智子河村 , 智子河村
IPC分类号： C08L79/08 , C08G73/10 , C08G73/22 , C08L79/04 , G03F7/004 , G03F7/023
CPC分类号： H01L21/311 , C08G73/18 , C09D179/04 , C09D179/08 , G03F7/0233 , H01L21/02118
摘要： (a)ポリイミド前駆体又はポリベンゾオキサゾール前駆体と、(b)下記一般式(1)で表される化合物、下記一般式(2)で表される化合物及び硫黄原子を含む化合物からなる群より選ばれる一種以上の極性溶媒と、(c)感光剤と、を含む樹脂組成物であり、樹脂組成物中のN−メチル−2−ピロリドン(NMP)の含有量が0.1質量%以下である、感光性樹脂組成物。(R1は炭素数2以上6以下の有機基である。R2、R3及びR4は、それぞれ、炭素数1以上6以下のアルキル基である。)
摘要翻译：（A）聚酰亚胺前体或聚苯并恶唑前体，选自含有由下述通式（1）中，由以下通式表示的化合物和硫原子表示的化合物（b）的化合物的组（2）和选定的一种或多种极性溶剂中的树脂组合物，其包括，（c）一种感光剂，在N-甲基-2-吡咯烷酮的树脂组合物的含量（NMP）不大于0.1质量％，光敏树脂组合物。（R1是具有2至6个碳原子.R2，R3和R4的有机基团，分别为碳原子数1〜6的烷基。）

75. 发明专利

JP2017014191A 化合物、有機膜組成物、有機膜、およびパターン形成方法审中-公开
标题翻译：化合物，有机涂料组合物，有机薄膜，和图案形成方法
公开(公告)号：JP2017014191A
公开(公告)日：2017-01-19
申请号：JP2016119307
申请日：2016-06-15
申请人：三星エスディアイ株式会社 , SAMSUNG SDI Co., LTD.
发明人：權孝英 , 姜善惠 , 南宮爛 , 南 ▲えん▼ 希 , 許柳美 , 金永 ▲びん▼ , 文秀賢
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/26 , G03F7/16 , C07D209/58 , C07D209/86 , C07D311/82 , C07D333/54 , C07D333/56 , C08G12/26 , H01L21/027 , C07D209/14
CPC分类号： C07D209/12 , C07D209/62 , C07D209/86 , C07D311/82 , C07D333/56 , C09D179/04 , G03F7/11 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/30
摘要：【課題】本発明は、スピンオンコーティング法で作製した場合においても、優れた耐エッチング性および耐熱性の少なくとも一方に優れる有機膜を提供する化合物、前記化合物を含む有機膜組成物、前記有機膜組成物から製造された有機膜、および前記有機膜組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】本発明の一実施形態に係る化合物は、下記の化学式1で表される。下記化学式1の定義は、明細書中の定義と同義である。【選択図】なし
摘要翻译：本发明涉及，在制造旋涂法的情况下也是，其提供耐蚀刻性和有机膜的耐热性优良的至少一种有机涂层组合物，包含所述化合物优异的化合物，所述有机膜的组合物提供使用有机薄膜，并从对象中制备的有机涂层组合物的图案形成方法。根据本发明的实施例的化合物由以下通式1表示。下式1的定义具有如说明书中所定义的相同的含义。系统技术领域

76. 发明专利

JP2016164241A 導電性材料及び基板有权
标题翻译：导电材料和基材
公开(公告)号：JP2016164241A
公开(公告)日：2016-09-08
申请号：JP2015045289
申请日：2015-03-06
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：畠山潤 , 長澤賢幸
IPC分类号： C08L65/00 , C08L33/16 , C08K3/08 , C08F212/14 , C08F220/38 , H01B1/22 , H01B1/12 , H01B5/14 , C08L25/18
CPC分类号： H01B3/301 , C08K3/08 , C09D133/14 , C09D179/02 , C09D179/04 , H01B1/122 , H01B1/127 , C08G2261/1424 , C08G2261/228 , C08G2261/3223 , C08G2261/43 , C08G2261/51 , C08G2261/794 , C08G2261/90 , C08G73/0266 , C08K2003/0806 , C08K2003/0831 , C08K2201/003 , C08K2201/011 , H01L51/5206
摘要：【課題】成膜性が良く、膜形成した際には、透明性、導電性が高く、フレキシブル性に優れ、平坦性が良好な導電膜を形成することができる導電性材料を提供する。【解決手段】(A)π共役系ポリマー、及び(B)下記一般式(1)で示される繰り返し単位a1〜a4から選ばれる1種以上の繰り返し単位を含み、重量平均分子量が1,000〜500,000の範囲のものであるドーパントポリマー、(C)粒子径が1〜200nmの金、銀、及び白金から選ばれるナノ粒子を含む導電性材料。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供具有良好成膜性的导电材料，并且能够形成透明性和导电性高的导电性，柔软性优异，并且在形成膜时具有良好的表面平滑性。导电材料包括：（A）π共轭聚合物; （B）含有一个或多个重复单元的掺杂剂聚合物，所述重复单元选自由以下通式（1）表示的重复单元a1-a4，重均分子量为1,000-500,000; 和（C）选自金，银和铂的纳米颗粒，并且具有1-200nm的粒度。选择图：无

77. 发明专利

JP5978624B2 光導波路形成用樹脂組成物、ドライフィルム、およびこれらを用いてなる光導波路有权
标题翻译：光波导形成用树脂组合物，通过使用干膜形成的光学波导，而这些
公开(公告)号：JP5978624B2
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：JP2011550767
申请日：2011-11-22
申请人：東洋紡株式会社
发明人：藤森有紀子 , 吉野賢二 , 曽田泰宏 , 松岡豪
IPC分类号： G02B6/12
CPC分类号： G02B1/045 , C08G73/0655 , C08L79/04 , C09D179/04 , C09D4/06 , C08K5/0025

78. 发明专利

JP5977361B2 光硬化性および熱硬化性を有する樹脂組成物と、ドライフィルムソルダレジスト有权
标题翻译：具有光固化和热固化性的干膜阻焊剂的树脂组合物
公开(公告)号：JP5977361B2
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：JP2014544685
申请日：2013-02-20
申请人：エルジー・ケム・リミテッド
发明人：セ−ジン・ク , ビュン−ジュ・チェ , ウー−ジェ・ジョン , ボ−ユン・チェ , クァン−ジュ・イ , ミン−ス・ジョン
IPC分类号： G03F7/031 , G03F7/004 , C08F2/50 , G03F7/027
CPC分类号： G03F7/029 , C08G73/0644 , C08G73/065 , C08G73/0655 , C09D179/04 , G03F7/032

79. 发明专利

JP2016511288A 改善された流束を有する膜および前記膜の製造方法审中-公开
标题翻译：用于制造薄膜和薄膜方法具有改进的磁通
公开(公告)号：JP2016511288A
公开(公告)日：2016-04-14
申请号：JP2015548413
申请日：2013-12-16
申请人：ビーエーエスエフソシエタス・ヨーロピアBasf Se , ビーエーエスエフソシエタス・ヨーロピアBasf Se
发明人：コンラディルパート , コンラディルパート , ハートナーゲルクリスティーネ , ハートナーゲルクリスティーネ
IPC分类号： C08F26/06 , A61L27/00 , B01D69/12 , B01D71/10 , B01D71/12 , B01D71/16 , B01D71/26 , B01D71/30 , B01D71/34 , B01D71/36 , B01D71/38 , B01D71/40 , B01D71/42 , B01D71/44 , B01D71/48 , B01D71/50 , B01D71/52 , B01D71/54 , B01D71/56 , B01D71/62 , B01D71/64 , B01D71/68 , B01D71/70 , B01D71/78 , B01D71/82 , C02F1/44 , C08J5/18 , C08J7/04 , C09D5/00 , C09D5/14 , C09D201/06
CPC分类号： C08G73/06 , A61M1/1621 , B01D61/002 , B01D61/08 , B01D61/145 , B01D61/147 , B01D61/18 , B01D65/08 , B01D67/0002 , B01D67/0088 , B01D67/009 , B01D67/0093 , B01D69/02 , B01D69/12 , B01D69/125 , B01D71/12 , B01D71/40 , B01D71/48 , B01D71/52 , B01D71/56 , B01D71/58 , B01D71/62 , B01D71/68 , B01D2321/168 , B01D2323/02 , B01D2323/32 , B01D2325/48 , C02F1/44 , C02F1/441 , C02F2103/08 , C02F2103/32 , C02F2303/20 , C07D211/46 , C07D213/20 , C07D233/56 , C07D233/58 , C07D263/00 , C07D295/185 , C07F7/1836 , C08F2/48 , C08F4/44 , C08F226/06 , C08G73/0233 , C08J3/07 , C08J7/047 , C08J2353/00 , C08L79/02 , C08L79/04 , C09D179/04
摘要：式(A)[式中、R1、R2、R3およびR4は、独立して、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、フェニル基または置換フェニル基を示し、かつR5は、ラジカル重合で反応性の不飽和結合を有する非環式の有機基を示す]による少なくとも1種のオキサゾリンi)、任意に、少なくとも1種の粘着防止性モノマーii)、任意に、少なくとも1種の殺生物性モノマーiii)、任意に、少なくとも1種の更なるモノマーiv)を含むポリマーであって、前記ポリマーは、モノマーii)およびiii)から選択される少なくとも1種のモノマーを含む前記ポリマー。
摘要翻译：式（A）[式中，R1，R2，R3和R4独立地为氢原子，卤素原子，烷基，芳烷基，苯基或取代的苯基，且R 5为反应性自由基聚合至少一个恶唑啉i由于]表示具有性不饱和键）的非环状有机基团，任选地，至少一种抗粘连单体ii）中，任选地，至少一种杀生物单体 ⅲ），任选的聚合物，其包含单体ⅳ）纳鲁至少一个另外，聚合物，单体ii）和iii）包含至少一种单体的聚合物选自。

80. 发明专利

JP5874637B2 膜形成用組成物有权
公开(公告)号：JP5874637B2
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：JP2012530670
申请日：2011-08-23
申请人：日産化学工業株式会社
发明人：加藤拓 , 村上なつ美 , 小山欣也 , 西村直也 , 小澤雅昭
IPC分类号： C08G73/06 , C08K3/00 , C08L79/04
CPC分类号： C09D179/02 , C08G73/026 , C08G73/0273 , C08G73/0644 , C08K3/22 , C09D179/04 , C09D201/005 , H01L31/02327 , C08K2003/2231 , C08K2003/2241 , C08K2003/2244

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