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61. 发明专利

JP3674793B2 Production method of ultraviolet laser for quartz glass optical member 失效
公开(公告)号：JP3674793B2
公开(公告)日：2005-07-20
申请号：JP30643895
申请日：1995-10-31
申请人：信越石英株式会社
发明人：利樹森 , 朗藤ノ木 , 裕幸西村
IPC分类号： C03B8/04 , C03B19/14 , C03B20/00 , C03C3/06 , C03C4/00 , C03C23/00 , G02B1/00 , H01S3/17
CPC分类号： C03B19/1453 , C03B19/1415 , C03B2201/21 , C03B2207/32 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C23/002 , C03C2201/21 , C03C2203/40 , C03C2203/50 , C03C2203/54 , G02B1/00 , Y02P40/57

62. 发明专利

JP2005029452A Synthetic quartz glass material for optical use and method for evaluating synthetic quartz glass for optical use 有权
标题翻译：用于光学使用的合成石英玻璃材料和用于评估用于光学使用的合成石英玻璃的方法
公开(公告)号：JP2005029452A
公开(公告)日：2005-02-03
申请号：JP2003273720
申请日：2003-07-11
申请人： Shinetsu Quartz Prod Co Ltd , 信越石英株式会社
发明人： UEDA TETSUJI , OUCHI MICHINARI , NISHIMURA HIROYUKI , FUJINOKI AKIRA
IPC分类号： G01N21/84 , C03B8/04 , C03B20/00 , C03C3/06 , C03C4/00 , G02B1/02
CPC分类号： C03B19/1453 , C03B32/00 , C03B2201/075 , C03B2201/21 , C03B2201/23
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a synthetic quartz glass material for an optical use whose refractive index variation caused by irradiating it with ultraviolet pulse laser beams having the same laser energy density as that at mounting in an aligner for semiconductor is very small and to provide a method for evaluating synthetic quartz glass for an optical use.
SOLUTION: The ultraviolet pulse laser beams having oscillation wavelength of 150 nm or more and 220 nm or less are used for the synthetic quartz glass material for the optical use within a range of 0.01 mJ/cm
2 or more and 0.3 mJ/cm
2 or less as an energy density per 1 pulse. When continuous light irradiated from an ultraviolet lamp having a light-emitting range of 150-300 nm irradiates the quartz glass at the illuminance of 0.01 mW/cm
2 or more and 100 mW/cm
2 or less, the refractive index at the irradiated part with the light from the ultraviolet lamp is reduced. When the total irradiation energy per unit area at the irradiated part with light from the ultraviolet lamp is expressed as A kJ/cm
2 and the refractive index variation at the irradiated part with light from the ultraviolet lamp is expressed as B, the range of the value B/A is denoted as -1×10
-6 ≤B/A≤-1×10
-7 .
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于光学用途的合成石英玻璃材料，其通过用与半导体对准器中安装相同的激光能量密度的紫外脉冲激光束照射其折射率变化非常小并提供一种用于评估用于光学用途的合成石英玻璃的方法。振荡波长为150nm以上且220nm以下的紫外脉冲激光用于光学用合成石英玻璃材料在0.01mJ / cm 2以下的范围内 > 0.3以上，0.3mJ / cm 2 / SP以下，作为1脉冲的能量密度。当从具有150-300nm的发光范围的紫外灯照射的连续光以0.01mW / cm 2以上且100mW / cm 2的照度照射石英玻璃时以下，来自紫外线灯的照射部分的折射率降低。当将来自紫外线灯的照射部分的照射部分的每单位面积的总照射能量表示为A kJ / cm 2 ，并且表示来自紫外线灯的照射部分的折射率变化作为B，值B / A的范围被表示为-1×10 -6 ≤B/A≤-1×10 -7 。版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI

63. 发明专利

JP2004530615A Oxygen doping of silicon oxyfluoride glass 审中-公开
公开(公告)号：JP2004530615A
公开(公告)日：2004-10-07
申请号：JP2002567872
申请日：2002-02-11
申请人：コーニングインコーポレイテッド
发明人：エムスミス，チャーリーン , エイムーア，リサ
IPC分类号： C03B19/14 , C03B20/00 , C03B32/00 , C03C3/06 , C03C4/00 , G03F1/00 , G03F7/20 , H01L21/027 , G03F1/14
CPC分类号： G03F7/70216 , C03B19/1407 , C03B19/1415 , C03B19/1423 , C03B19/1453 , C03B2201/07 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/20 , C03B2201/21 , C03B2207/30 , C03B2207/32 , C03B2207/36 , C03B2207/38 , C03C3/06 , C03C4/0085 , C03C2201/12 , C03C2201/20 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2201/30 , C03C2201/32 , C03C2203/54 , G03F1/60 , G03F7/70958
摘要：１９０ｎｍ未満のＶＵＶ波長領域におけるフォトリソグラフィー用途のためのフォトマスク基板として使用するのに適した高純度シリコン・オキシフルオライドガラスが開示されている。ドープガラス（２０）は、ドーピング容器（２８）中のシリコン・オキシフルオライドガラス（２２）にＯ
2 ドーピング雰囲気（２６）を提供することにより製造される。本発明のシリコン・オキシフルオライドガラスは、１５７ｎｍ辺りの波長で透過性であり、このため、１５７ｎｍ波長領域でのフォトマスク基板として特に有用である。本発明のフォトマスク基板は、ドープされたＯ
2 分子を含有し、真空紫外線（ＶＵＶ）波長領域において非常に高い透過率およびレーザ透過耐久性を示す「乾燥」シリコン・オキシフルオライドガラスである。フッ素を含有し、ＯＨ含有量がほとんどまたは全くないことに加え、本発明のシリコン・オキシフルオライドガラスは、レーザ露光に対する耐久性を改善する格子間Ｏ
2 分子を含有する。好ましくは、Ｏ
2 ドープシリコン・オキシフルオライドガラスは、１×１０
17 モル／ｃｍ
3 未満の水素分子および低レベルの塩素を有することにより特徴付けられる。

64. 发明专利

JP2004269287A Synthetic quartz glass member for optics and method of manufacturing the same 审中-公开
公开(公告)号：JP2004269287A
公开(公告)日：2004-09-30
申请号：JP2003059381
申请日：2003-03-06
申请人： Shinetsu Quartz Prod Co Ltd , 信越石英株式会社
发明人： NISHIMURA HIROYUKI , FUJINOKI AKIRA
IPC分类号： G02B1/00 , C03B8/04 , C03B19/14 , C03B20/00 , C03B32/00 , C03C3/06 , C03C4/00
CPC分类号： C03B32/00 , C03B19/1453 , C03B2201/075 , C03B2201/12 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03C3/06 , C03C4/0071 , C03C2201/12 , C03C2201/23 , C03C2203/40 , C03C2203/42 , Y02P40/57
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a synthetic quartz glass member for optics which can be suitably used as an optical material for an exposing machine when ArF excimer laser is emitted with an energy density used in the practical exposing machine, concretely ≤0.3 mJ/cm 2 p energy density per one pulsing and has high laser resistance and a method of manufacturing the same. SOLUTION: The synthetic quartz glass obtained by a flame hydrolysis method using a silicon compound as a raw material contains >10 wt.ppm to ≤400 wt.ppm SiOH, 30-1,000 wt.ppm fluorine and 0.1×10 17 -10×10 17 (molecule number /cm 3 ) hydrogen molecule and when the quantity of SiOH is expressed by (a) and the quantity of fluorine is expressed by (b), total sum of (a) and (b) is controlled to ≥100 wt.ppm and b/a is controlled to satisfies 0.25-25. COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

65. 发明专利

JPWO2002085808A1 石英ガラス部材及び投影露光装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2002085808A1
公开(公告)日：2004-08-12
申请号：JP2002583345
申请日：2002-04-19
申请人：株式会社ニコン
发明人：典男小峰 , 典男小峰 , 明子吉田 , 明子吉田 , 神保　宏樹 , 宏樹神保 , 藤原　誠志 , 誠志藤原
IPC分类号： C03B20/00 , C03C3/06 , C03C4/00 , C03C23/00 , G02B1/00 , G02B1/02 , G02B13/14 , G02B13/24 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： C03C4/0071 , C03B19/1423 , C03B19/1453 , C03B19/1492 , C03B2201/07 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , C03B2207/00 , C03C3/06 , C03C2201/11 , C03C2201/21 , C03C2201/23 , C03C2203/40 , C03C2203/44 , C03C2203/46 , C03C2203/52 , C03C2203/54 , G02B1/02 , G02B13/143 , G03F7/70241 , G03F7/70958
摘要：本発明の石英ガラス部材は、組成をSiOxと表すときxが1.85以上1.95以下であり、含有される水素分子濃度が1×1016分子/cm3以上5×1018分子/cm3以下であり、且つArFエキシマレーザ光を平均ワンパルスエネルギー密度2mJ/cm2で1×104パルス照射したときの照射終了直前の吸収係数Aと、前記ArFエキシマレーザ光の照射停止後600秒経過時における第2の吸収係数Bとの差A−Bが0.002cm−1以下のものである。この石英ガラス部材を投影露光装置の照明光学系や投影光学系に用いることにより、レチクル面やウェハ上の露光領域内での照度変動を低減して均一な露光を行うことが可能となる。

66. 发明专利

JP2004518274A Method of increasing the light transmittance of the optical lithography and optical lithography preform 审中-公开
公开(公告)号：JP2004518274A
公开(公告)日：2004-06-17
申请号：JP2002539846
申请日：2001-09-27
申请人：コーニングインコーポレイテッド
发明人：エムシャーマーホーン，ポール , エムスミス，チャーリーン , エスダニエルソン，ポール , アールヘスリン，マイケル , エフボレリ，ニコラス , モル，ヨハネス , エルログノフ，ステファン
IPC分类号： C03B8/04 , C03B20/00 , G02B1/00 , G02B13/14 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70941 , C03B19/1423 , C03B19/1469 , C03B2201/21 , C03B2207/36 , C03B2207/50 , C03C3/06 , C03C2201/21 , C03C2203/54 , G02B13/143 , G03F7/70958
摘要：紫外光リソグラフィ方法／システムが提供される。リソグラフィ方法及びシステムは、２００ｎｍより短波長光の光源を提供する工程、光分解により透過率が向上した石英ガラスリソグラフィ光学素子を提供する工程及び、印画されたリソグラフィパターンを形成するために感光性リソグラフィ印画材料上に縮小投影されるリソグラフィパターンを形成するために、２００ｎｍより短波長の光子に光分解により透過率が向上した石英ガラスリソグラフィ光学素子を透過させる工程を含む。光分解により透過率が向上した石英ガラスリソグラフィ光学素子を提供する工程はプリフォーム体を提供する工程及び光分解により透過率が向上した石英ガラスリソグラフィ光学素子プリフォーム体からリソグラフィ光学素子を形成する工程を含む。

67. 发明专利

JP2004142997A Method and apparatus for manufacturing synthetic quartz glass 审中-公开
公开(公告)号：JP2004142997A
公开(公告)日：2004-05-20
申请号：JP2002310508
申请日：2002-10-25
申请人： Nikon Corp , 株式会社ニコン
发明人： FUSHIMI KOICHI , FUJIWARA MASASHI
IPC分类号： C03B8/04 , H01L21/027
CPC分类号： C03B19/1423 , C03B2201/21 , C03B2207/54
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for manufacturing synthetic quartz glass in which resistance to ultraviolet rays is easily improved.
SOLUTION: The apparatus for manufacturing the synthetic quartz glass is provided with: a synthesis furnace 11; a synthesis burner 12 for forming a synthesis flame by jetting a gaseous starting material containing an organic silicon compound, a combustion supporting gas containing oxygen and a combustion gas burned by oxygen into the synthesis furnace 11; and a target 14 for forming an ingot 15 by depositing quartz glass fine particles produced by the synthesis flame. The apparatus is constituted so that the synthesis surface 20 of the ingot 15 is heated to a fusing and vitrifying temperature by the synthesis flame. A sub-burner 22 is provided at a position different from that of the synthesis burner 12 for blowing a hydrogen-containing gas to the non-hardened region around the region heated to the fusing and vitrifying temperature.
COPYRIGHT: (C)2004,JPO

68. 发明专利

JP2004107170A Silica glass 审中-公开
公开(公告)号：JP2004107170A
公开(公告)日：2004-04-08
申请号：JP2002274950
申请日：2002-09-20
申请人： Fujikura Ltd , 株式会社フジクラ
发明人： SHAMOTO NAOKI , KAJIMA TAKAFUMI , HARADA KOICHI , MORIYAMA TAKASHI
IPC分类号： C03B20/00 , C03B8/04
CPC分类号： C03B19/1461 , C03B2201/07 , C03B2201/12 , C03B2201/21
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a silica glass without a deterioration in transmittance of light in the vacuum ultraviolet region and having a lifetime prolonged by improving the durability against ultraviolet ray or radiation.
SOLUTION: The silica glass consists mainly of silicon oxide SiO
2 and is doped with fluorine of ≤10 ppm. Dissolved hydrogen is controlled to be preferably 1×10
17 -1×10
19 molecule/cm
3 and the each content of transition metals, alkaline earth metals and alkali metals is ≤50 ppb in the silica glass. As a result, the vacuum ultraviolet characteristic and radiation resistant characteristic are improved.
COPYRIGHT: (C)2004,JPO

69. 发明专利

JP2004107169A Silica glass 审中-公开
公开(公告)号：JP2004107169A
公开(公告)日：2004-04-08
申请号：JP2002274949
申请日：2002-09-20
申请人： Fujikura Ltd , 株式会社フジクラ
发明人： SHAMOTO NAOKI , KAJIMA TAKAFUMI , HARADA KOICHI , MORIYAMA TAKASHI
IPC分类号： C03B20/00 , C03B8/04
CPC分类号： C03B19/1461 , C03B2201/07 , C03B2201/12 , C03B2201/21 , C03B2201/23 , Y02P40/57
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain silica glass free from the deterioration of transmittance of light in vacuum ultraviolet region and having a lifetime prolonged by improving the durability against ultraviolet ray or radiation. SOLUTION: The silica glass consists essentially of silicon oxide SiO 2 and contains transition metals, alkaline earth metals and alkali metals respectively by ≤50 ppb, and the vacuum ultraviolet characteristic and radiation resistant characteristic are improved by incorporating OH group by ≤100 ppm and controlling dissolved hydrogen to 1×10 17 -1×10 19 molecule/cm 3 and oxygen discharge quantity under vacuum at 1000°C to ≤1×10 18 molecule/cm 3 and is further improved preferably by doping 100-1,000 ppm fluorine. COPYRIGHT: (C)2004,JPO

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