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61. 发明专利

JP5749546B2 鉄、錫含有銅処理炉の炉底堆積物の除去方法有权
标题翻译：铁，除去炉含锡铜处理炉的底部沉积物的方法
公开(公告)号：JP5749546B2
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：JP2011089594
申请日：2011-04-13
申请人： JX日鉱日石金属株式会社
发明人：宮本和明 , 高橋一也 , 宮永洋 , 沼田誠
IPC分类号： C22B7/04 , B09B3/00 , C22B15/06
CPC分类号： Y02P10/22 , Y02P10/228 , Y02P10/236

62. 发明专利

JP2015127438A 電子部品用チタン銅有权
标题翻译：电子元器件用铜
公开(公告)号：JP2015127438A
公开(公告)日：2015-07-09
申请号：JP2013272854
申请日：2013-12-27
申请人： JX日鉱日石金属株式会社
发明人：堀江弘泰
IPC分类号： H01B1/02 , C22C9/00
摘要：【課題】チタン銅において、Ti濃度のゆらぎを従来とは別の観点で制御し、強度及び曲げ加工性の向上を図る。【解決手段】Tiを2.0〜4.0質量%含有し、第三元素としてFe、Co、Mg、Si、Ni、Cr、Zr、Mo、V、Nb、Mn、B、及びPからなる群から選択された1種以上を合計で0〜0.5質量%含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなる電子部品用チタン銅であって、圧延方向に平行な断面における方位の結晶粒について母相中のTiをEDXによりライン分析したときに得られるTi濃度ゆらぎ曲線及びTi濃度平均線が、Ti濃度平均線に占めるTi濃度ゆらぎ曲線の各山部の長さの平均が5〜20nmとなる関係を満たし、且つ、圧延方向に平行な断面の組織観察における大きさが3μm以上の第二相粒子の観察視野10000μm 2 当たりの個数が35個以下であるチタン銅。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：通过从常规方法不同的角度控制Ti浓度的波动来提高钛铜的强度和弯曲性。解决方案：提供一种含有2.0〜4.0质量％的Ti的电子部件用钛钢，总计 0〜0.5质量％的由Fe，Co，Mg，Si，Ni，Cr，Zr，Mo，V，Nb，Mn，B和P组成的组中的一种或多种，作为第三元素，余量为具有不可避免的杂质，并且当通过EDX对母相中的Ti进行线分析时，在与方向平行的横截面上的<100>取向的晶粒和Ti浓度平均线上获得的T浓度的波动曲线满足关系，使得Ti浓度平均线中的T浓度的波动曲线的每个波峰部分的长度的平均值为5至20nm，并且具有在结构观察中的尺寸的第二相颗粒的数量平行于轧制方向的3段或3层以上，每10000观察场为35以下。

63. 发明专利

JP5746876B2 電子回路の形成方法有权
标题翻译：形成电子电路的方法
公开(公告)号：JP5746876B2
公开(公告)日：2015-07-08
申请号：JP2011031129
申请日：2011-02-16
申请人： JX日鉱日石金属株式会社
发明人：古澤秀樹
IPC分类号： C23C14/14 , C23C14/20 , H05K3/00 , H05K1/09

64. 发明专利

JP2015113252A 亜鉛還元法による多結晶シリコンの製造に用いられる反応容器审中-公开
标题翻译：用于通过锌减少方法生产多晶硅的反应容器
公开(公告)号：JP2015113252A
公开(公告)日：2015-06-22
申请号：JP2013256088
申请日：2013-12-11
申请人： JNC株式会社 , JX日鉱日石金属株式会社 , 東邦チタニウム株式会社
发明人：花田和彦 , 川合隆博 , 佐藤賢次 , 田中亨
IPC分类号： C01B33/033
摘要：【課題】太陽電池の特性に影響を及ぼす不純物の混入量の少ない多結晶シリコンを製造することができる亜鉛還元法用の反応容器の提供。【解決手段】シリカ、炭化珪素およびアルミナからなる群から選択された少なくとも1つの化合物を含有する材料からなり、リン濃度が150ppmw以下またはホウ素濃度が1500ppmw以下、かつ、鉄濃度が3000ppmw以下であり、四塩化珪素ガスを亜鉛ガスで還元することにより多結晶シリコンを製造する亜鉛還元反応に用いられる反応容器とする。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够制造具有对太阳能电池的特性有影响的杂质含量低的多晶硅的锌还原法的反应容器。解决方案提供一种用于锌还原法的反应容器通过用含有至少一种选自二氧化硅，碳化硅和氧化铝的化合物的材料由锌气体还原四氯化硅气体制成多晶硅，其磷浓度为150ppmw以下，硼浓度为 1500ppmw以下，铁浓度3000ppmw以下。

65. 发明专利

JP2015107598A 樹脂基板を互いに剥離可能に密着させた積層体有权
标题翻译：与树脂衬底的层压板在每个其他的可接受的人中接触
公开(公告)号：JP2015107598A
公开(公告)日：2015-06-11
申请号：JP2013251563
申请日：2013-12-05
申请人： JX日鉱日石金属株式会社
发明人：森山晃正 , 古曳倫也 , 石井雅史
IPC分类号： H05K3/46 , H05K1/03 , B32B27/00
摘要：【課題】多層金属張積層板やビルドアップ基板などの多層配線基板の製造に好適に使用できる積層体を提供する。【解決手段】二つの樹脂基板の間に、離型剤を介在させてなり、これら樹脂基板が互いに剥離可能に密着されている積層体。【選択図】図2
摘要翻译：要解决的问题：提供可以适用于多层敷层层叠板和积层基板等多层布线基板的制造中的层压体。解决方案：本发明提供一种层压体，其中，脱模剂插入在两个树脂基板之间，树脂基板以可剥离的方式彼此紧密接触。

66. 发明专利

JP2015105440A 表面処理銅箔、積層板、プリント配線板、プリント回路板及び電子機器审中-公开
标题翻译：表面处理铜箔，层压板，印刷线路板，印刷电路板和电子设备
公开(公告)号：JP2015105440A
公开(公告)日：2015-06-08
申请号：JP2014236812
申请日：2014-11-21
申请人： JX日鉱日石金属株式会社
发明人：森山晃正
IPC分类号： C25D5/10 , H05K1/09 , H05K3/38 , C25D7/06
摘要：【課題】高周波回路基板に用いても伝送損失が良好に抑制される表面処理銅箔、積層板、プリント配線板、プリント回路板及び電子機器の提供。【解決手段】少なくとも一方の表面に表面処理層が形成された表面処理銅箔であって、表面処理層が粗化処理層を含み、表面処理層におけるCo、Ni、Feの合計付着量が、986μg/dm 2 以下、好ましくは300μg/dm 2 以下であり、より好ましくは0μg/dm 2 である表面処理銅箔。表面処理層がZn金属層又はZnを含む合金処理層を有し、表面処理層表面におけるレーザー顕微鏡で測定された二次元表面積に対する三次元表面積の比が1.0〜1.9であり、少なくとも一方の表面の表面粗さRz JISが2.2μm以下である表面処理銅箔。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供：即使用于高频电路板，也能够有利地抑制传输损耗的表面处理铜箔; 层压板印刷线路板; 印刷电路板; 和电子设备。解决方案：表面处理铜箔具有形成在至少一个表面上的表面处理层。表面处理层包括粗糙层，表面处理层中的Co，Ni和Fe的总涂层重量为986μg/更小，优选为300μg/分钟，更优选为0μg/ dm 2。表面处理层具有Zn金属层或包含Zn的合金层。通过激光显微镜在表面处理层的表面上测量的三维表面积与二维表面积的比例为1.0-1.9，至少一个表面的表面粗糙度Rz JIS为2.2μm，减。

67. 发明专利

JP5721691B2 メタルマスク材料及びメタルマスク有权
标题翻译：金属掩模材料和金属掩模
公开(公告)号：JP5721691B2
公开(公告)日：2015-05-20
申请号：JP2012253848
申请日：2012-11-20
申请人： JX日鉱日石金属株式会社
发明人：黒崎郁也
IPC分类号： C21D9/46 , C22C38/00

68. 发明专利

JP2015086416A 導電性、耐応力緩和性および成形性に優れる銅合金板有权
标题翻译：铜合金表面电导率，耐应力松弛电阻和可变形性
公开(公告)号：JP2015086416A
公开(公告)日：2015-05-07
申请号：JP2013224385
申请日：2013-10-29
申请人： JX日鉱日石金属株式会社
发明人：波多野隆紹
IPC分类号： C22C9/10 , C22C9/01 , C22C9/02 , C22C9/04 , C22C9/05 , C22C9/00 , H01B5/02 , H01B1/02 , C22C9/06
摘要：【課題】高強度、高導電性および優れた応力緩和特性を兼ね備えた銅合金板並びにこの銅合金板を用いた大電流用電子部品及び放熱用電子部品を提供する。【解決手段】Ni及びCoのうち一種以上を合計で0.8〜5.0質量%、Siを0.2〜1.5質量%含有し、残部が銅及び不可避的不純物からなり、500MPa以上の0.2%耐力および30%IACS以上の導電率を有し、250℃で30分加熱した際の圧延方向の熱伸縮率が50ppm以下であることを特徴とする銅合金板である。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供一种具有高强度，高导电性和优异的应力松弛性能的铜合金板以及用于大电流的电子部件和使用铜合金板的放热用电子部件。解决方案：提供铜合金含有一种或多种Ni和Co的总量为0.8-5.0质量％的Si，0.2-1.5质量％的Si，余量为不可避免的杂质的铜，具有500MPa或更高的0.2％屈服应力和30％IACS或更高的的导电性和在250℃下加热30分钟时的轧制方向的热收缩率为50ppm以下。

69. 发明专利

JP5711225B2 ヨウ化物イオンと鉄イオンを含有する酸性溶液の処理方法有权
标题翻译：的含碘化物离子和铁离子处理的酸性溶液的方法
公开(公告)号：JP5711225B2
公开(公告)日：2015-04-30
申请号：JP2012515930
申请日：2011-05-19
申请人： JX日鉱日石金属株式会社
发明人：桑野兼一 , 阿部温子 , 真鍋学 , 三浦彰
IPC分类号： C02F1/28 , C02F1/72 , C22B3/04 , C22B15/00 , C02F3/34
CPC分类号： C12P3/00 , C01B7/14 , C02F3/346 , C22B15/0063 , C22B3/18 , C02F1/283 , C02F2101/12 , C02F2101/203 , Y02P10/234 , Y02P10/236 , Y02P20/582

70. 发明专利

JP5710845B2 表面処理電解銅箔、積層板、プリント配線板、及び電子機器有权
标题翻译：表面处理电解铜箔，层压板，印刷电路板和电子设备
公开(公告)号：JP5710845B2
公开(公告)日：2015-04-30
申请号：JP2014531008
申请日：2013-11-26
申请人： JX日鉱日石金属株式会社
发明人：古曳倫也 , 犬飼賢二
IPC分类号： C25D1/04 , H05K1/09 , C25D7/06
CPC分类号： C25D3/38 , C25D1/04 , C25D3/58 , C25D7/0614 , H05K1/09 , H05K3/384 , H05K2201/0355

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