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51. 发明专利

JP2013511141A Imaging optics 有权
公开(公告)号：JP2013511141A
公开(公告)日：2013-03-28
申请号：JP2012538273
申请日：2010-10-29
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ウルリッヒレーリンク , ラルフミューラー , ハンス−ユールゲンマン , ノーマンベア
IPC分类号： H01L21/027 , G02B13/14 , G02B13/24 , G02B17/08 , G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0657 , G02B5/005 , G02B27/0018 , G03F7/70233 , G03F7/70275
摘要：結像光学系（７）は、結像光（３）を反射して、物体平面の物体視野を像平面の像視野に結像する複数のミラー（Ｍ３；Ｍ５，Ｍ６，Ｍ８）を有する。ミラーのうちの少なくとも１つ（Ｍ８）のミラー本体（２２）は、結像光（３）が通過するための貫通開口部（２１）を有する。貫通開口部（２１）は、ミラー本体（２２）内に最小開口幅の内部領域（２３）を有する。貫通開口部（２１）は、内部領域（２３）からミラー本体（２２）の両方の縁部領域（２４，２５）に向けて拡大する。その結果、未使用光部分の憂慮される影響が低減又は完全に除去された結像光学系が得られる。
【選択図】図２

52. 发明专利

JP2012168541A High numerical aperture objective optical system with obscured pupil 有权
标题翻译：高数值光学目标光学系统
公开(公告)号：JP2012168541A
公开(公告)日：2012-09-06
申请号：JP2012054126
申请日：2012-03-12
申请人： Carl Zeiss Smt Gmbh , カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人： MANN HANS-JUERGEN , DAVID SHAFER , WILHELM ULRICH
IPC分类号： G02B17/06 , G02B13/18 , G02B17/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B13/143 , G02B17/0657 , G03F7/70225
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an objective optical system, particularly a projection objective optical system, preferably a microlithography projection objective optical system.SOLUTION: The invention relates to an objective optical system, particularly a microlithography projection objective optical system, particularly for operation wavelengths of 193 nm or less, comprising: a first partial objective optical system 100 which has at least one mirror S1 without any aperture through which a pencil of light rays can pass; and a second partial objective optical system 200 which has at least one primary concave mirror SK1 and a secondary concave mirror SK2, each having an aperture through which a pencil of light rays can pass.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种物镜光学系统，特别是投影物镜光学系统，优选微光学投影物镜光学系统。解决方案：本发明涉及一种物镜光学系统，特别是微光刻投影物镜光学系统，特别是对于193nm或更小的工作波长，包括：第一部分物镜光学系统100，其具有至少一个反射镜S1，没有任何一束光线可以通过的孔径; 以及第二部分物镜光学系统200，其具有至少一个初级凹面镜SK1和次级凹面镜SK2，每个具有一个光线可以通过的孔径。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

53. 发明专利

JP2012502490A Imaging optics 有权
公开(公告)号：JP2012502490A
公开(公告)日：2012-01-26
申请号：JP2011526392
申请日：2009-08-26
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：アルミンシェパッハ , ヨハネスツェルナー , ハンスユールゲンマン
IPC分类号： H01L21/027 , G02B13/18 , G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/181 , G02B17/0657 , G02B17/0663 , G02B21/04 , G02B26/06 , G02B26/0825 , G03F7/70233 , G03F7/70266
摘要：ａ）物体平面（５）に対して垂直で空間的に物体視野（４）に最も近く隣接するミラー（Ｍ２）の幾何学的中心点を通じて延びる接続軸（３２）上で、物体視野（４）に最も近く隣接するミラー（Ｍ２）が、結像光（３）のビーム経路内で物体視野（４）の上流にある結像光学系（３１）の入射瞳平面（３０）の物体視野（４）からの間隔（Ｂ）よりも大きい物体視野（４）からの間隔（Ａ）の位置に配置され、ｂ）物体平面（５）上で反射された結像光（３）のビーム経路内で物体視野（４）の上流に位置する入射瞳平面（３０）と、物体平面（５）に対して垂直で入射瞳の幾何学的中心点を通じて延びる接続軸（３２）とを有し、接続軸（３２）と入射瞳平面（３０）との交点（Ｃ）が、結像光（３）のビーム経路内で物体視野（４）の下流にある中心物体視野点の主ビーム（３３）と接続軸（３２）との第１の交点（Ｄ）よりも物体平面（５）に近く、ミラー（Ｍ５，Ｍ６）の少なくとも一方が、結像光（３）が通過するための貫通開口部（１８，１９）を有し、ｃ）２つの視野（４，８）の一方に最も近く隣接し、隣接ミラーと呼ぶ第１のミラー（Ｍ５）から離間して、結像光学系（７；３１）内で隣接ミラー（Ｍ５）の配列平面と光学的に共役な平面に配置された変形可能な更に別のミラー（Ｍ３）を有し、ｄ）２つの視野（４，８）の一方に最も近く隣接する隣接ミラーであるミラー（Ｍ５）の支持体（２１）が、他のミラー（Ｍ１からＭ４，Ｍ６）のうちの少なくとも１つの支持体（２２）の材料の弾性率の少なくとも２倍大きい弾性率を有する材料で作られるという構成のうちのいずれか１つに従う物体平面（５）の物体視野（４）を像平面（９）の像視野（８）内に結像する複数のミラー（Ｍ１からＭ６）を有する結像光学系（３１）。
【選択図】図３

54. 发明专利

JP2011501448A A projection exposure apparatus for microlithography comprising an imaging optical system and the imaging optical system of this type 有权
公开(公告)号：JP2011501448A
公开(公告)日：2011-01-06
申请号：JP2010530321
申请日：2008-10-21
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ハンスユールゲンマン
IPC分类号： H01L21/027 , G02B17/00
CPC分类号： G02B17/0657 , G03F7/70233
摘要：結像光学系、反射結像光学系、更に別の結像光学系、この種の結像光学系を含む投影露光装置、この種の投影露光装置を用いた微細構造構成要素の生成の方法、及び本方法によって生成される微細構造構成要素を提供する。複数のミラー（Ｍ１からＭ１０）を有する結像光学系（７）は、物体平面（５）の物体視野（４）を像平面（９）の像視野（８）内に結像する。非掩蔽ミラー（Ｍ１からＭ８）間の光路では、結像光線（１５）は、物体平面（５）と平行に及び／又は像平面（９）と平行に配置された離間した平面の間の少なくとも１つの多重通過領域を通過する。結像光学系は、少なくとも１つの瞳平面（７６，７７，７８，１７）を有する。この瞳平面（７６，７７，７８，１７）は、非掩蔽ミラー（Ｍ１からＭ６）間の多重通過領域の外側に配置される。これは、容易な像誤差補正を提供する結像光学系をもたらす。相応に容易な像誤差補正を有する他の種類の結像光学系も同様に呈示する。
【選択図】図１６

55. 发明专利

JPWO2007023665A1 投影光学系、露光装置、およびデバイスの製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2007023665A1
公开(公告)日：2009-02-26
申请号：JP2007532048
申请日：2006-08-07
申请人：株式会社ニコン
发明人：高橋　友刀 , 友刀高橋
IPC分类号： H01L21/027 , G02B5/10 , G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0657 , G03F7/70275
摘要：円弧状の有効結像領域の幅寸法が比較的大きく確保され、たとえば露光装置に適用された場合に露光中も所望の性能を維持することのできる8枚ミラー反射型の投影光学系。第1面(4)の中間像を形成する第1反射結像光学系(G1)と、その中間像の像を第2面(7)上に形成する第2反射結像光学系(G2)とを備えている。第1反射結像光学系は、第1反射鏡M1と第2反射鏡M2と第3反射鏡M3と第4反射鏡M4とを有する。第2反射結像光学系は、第5反射鏡M5と第6反射鏡M6と第7反射鏡M7と第8反射鏡M8とを有する。第1反射鏡M1、第4反射鏡M4、第5反射鏡M5および第8反射鏡M8は凹面状の反射面を有し、第7反射鏡M7は凸面状の反射面を有する。第2反射鏡M2および第3反射鏡M3の一方は凹面状の反射面を有し、他方は凸面状の反射面を有する。円弧状の有効結像領域の幅寸法Dwは所定の条件式(1)を満足する。

56. 发明专利

JP2008541439A euv projection optical system having a six reflecting mirrors 有权
公开(公告)号：JP2008541439A
公开(公告)日：2008-11-20
申请号：JP2008510488
申请日：2006-05-10
申请人：カールツァイスエスエムテーアーゲー
发明人：ハンス−ユルゲンマン
IPC分类号： H01L21/027 , G02B17/00 , G02B21/16 , G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0657 , G03F7/70233
摘要：本発明は、光学軸（ＨＡ）を中心として、光学軸（ＨＡ）に沿って配置された、第１の鏡（Ｍ１）、第２の鏡（Ｍ２）、第３の鏡（Ｍ３）、第４の鏡（Ｍ４）、第５の鏡（Ｍ５）、第６の鏡（Ｍ６）を少なくとも備え、光が物体面（１）から第１の鏡（Ｍ１）へ、第１の鏡（Ｍ１）から第２の鏡（Ｍ２）へ、第２の鏡（Ｍ２）から第３の鏡（Ｍ３）へ、第３の鏡（Ｍ３）から第４の鏡（Ｍ４）へ、第４の鏡（Ｍ４）から第５の鏡（Ｍ５）へ、第５の鏡（Ｍ５）から第６の鏡（Ｍ６）へ進む、波長が１９３ｎｍ以下の光を物体面（１）から像面（３）へ導く投影光学系に関する。本発明は、第１の鏡（Ｍ１）が光学軸（ＨＡ）に沿って、幾何学的に第５の鏡（Ｍ５）と第６の鏡（Ｍ６）の間に配置され、第３の鏡（Ｍ３）が凸面鏡であることを特徴とする。
【選択図】図１

57. 发明专利

JP4125506B2 A projection optical system for microlithography with eight reflecting mirrors 有权
公开(公告)号：JP4125506B2
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：JP2001322741
申请日：2001-10-19
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・アーゲー
发明人：ヴィルヘルム・ウルリッヒ , ギュンター・ザイツ , ハンス−ユルゲン・マン
IPC分类号： G02B17/00 , G02B13/24 , G02B17/06 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0657 , G03F7/70275

58. 发明专利

JPWO2006049233A1 反射型投影光学系および該反射型投影光学系を備えた露光装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2006049233A1
公开(公告)日：2008-05-29
申请号：JP2006542436
申请日：2005-11-04
申请人：株式会社ニコン
发明人：高橋　友刀 , 友刀高橋
IPC分类号： G02B17/06 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B13/18 , G02B17/0657 , G03F7/70275
摘要： 8つの反射鏡を備え、第1面の縮小像を第2面上に形成する投影光学系。第1面の中間像を形成するための第1反射結像光学系(G1)と、中間像の像を第2面上に形成するための第2反射結像光学系(G2)とを備えている。第1反射結像光学系は、第1面側から光の入射順に、第1反射鏡(M1)と第2反射鏡(M2)と第3反射鏡(M3)と第4反射鏡(M4)とを有する。第2反射結像光学系は、第1面側から光の入射順に、第5反射鏡(M5)と第6反射鏡(M6)と第7反射鏡(M7)と第8反射鏡(M8)とを有する。8枚の前記反射鏡のうち少なくとも一つの反射面は球面で構成されている。

59. 发明专利

JP3949178B2 Scanning lithographic apparatus including a dedicated mirror projection system 有权
公开(公告)号：JP3949178B2
公开(公告)日：2007-07-25
申请号：JP55511899
申请日：1999-04-22
申请人：コーニンクレッカ、フィリップス、エレクトロニクス、エヌ、ヴィ
发明人：ジョセフス、ジェー．エム．ブラート
IPC分类号： G02B17/00 , H01L21/027 , G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0657 , G03F7/70275 , G03F7/70358

60. 发明专利

JP2004525398A Euv projection system for lithography 审中-公开
公开(公告)号：JP2004525398A
公开(公告)日：2004-08-19
申请号：JP2002556308
申请日：2002-01-04
申请人：カールツァイスエスエムテーアーゲー
发明人：ハンス−ユルゲン・マン , ラッセル・ハディマ
IPC分类号： G02B17/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G02B17/0657 , G03F7/70233 , G03F7/70275 , G03F7/70308
摘要：物体ＯＢを像ＩＭに結像するための少なくとも６枚の反射鏡Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６を備えるＥＵＶ投影光学系。少なくとも一つの反射鏡対が好適にも少なくとも部分的に位相を補償する反射鏡対として構成されている。この光学系は、第１の反射鏡Ｍ１及び第２の反射鏡Ｍ２が第１の光学群Ｇ１を形成し、第３の反射鏡Ｍ３、第４の反射鏡Ｍ４、第５の反射鏡Ｍ５、及び第６の反射鏡Ｍ６が第２の光学群Ｇ２を形成するようにして、第２の反射鏡Ｍ２と第３の反射鏡Ｍ３との間における物体ＯＢから像ＩＭに至る光路の途中に中間像ＩＭＩを形成するように構成されている。また、光学系は、好ましくも、第１の反射鏡Ｍ１と第２の反射鏡Ｍ２との間に、物体ＯＢから像ＩＭに至る光路沿いに配置された開口絞りＡＰＥをさらに備えている。上記第２の反射鏡Ｍ２は好ましくは凸面状とされ、上記第３の反射鏡Ｍ３は好ましくは凹面状とされている。

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