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41. 发明专利

JPWO2003016365A1 環状共役ジエン系共重合体有权
公开(公告)号：JPWO2003016365A1
公开(公告)日：2004-12-02
申请号：JP2003521689
申请日：2002-08-16
申请人：旭化成株式会社
发明人：淳一宍戸 , 淳一宍戸 , 健一実近 , 健一実近
IPC分类号： C08F232/06 , C08C19/02 , C08F8/00 , C08F8/04 , C08F8/08 , C08F8/42 , C08F212/08 , C08F232/00 , C08F236/04 , C08F236/10 , C08F287/00 , C08F297/04 , C08L51/00 , C08L53/02
CPC分类号： C08F236/10 , C08C19/02 , C08F8/00 , C08F232/00 , C08F232/06 , C08F236/04 , C08F287/00 , C08F297/04 , C08F297/048 , C08L51/006 , C08L53/02
摘要： (A)環状共役ジエン系単量体に由来する繰り返し単位と、(B)α位に水素を有するビニル芳香族系単量体に由来する繰り返し単位を少なくとも含有し、ランダム構造である環状共役ジエン系共重合体、および該環状共役ジエン系共重合体の水素化体、変性体、並びにそれらのリビングアニオン重合による製造方法。

42. 发明专利

JP2004530159A Photoresist composition for deep ultraviolet lithography 审中-公开
公开(公告)号：JP2004530159A
公开(公告)日：2004-09-30
申请号：JP2002589881
申请日：2002-04-25
申请人：クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
发明人：サカムリ・ライ , ダンメル・ラルフ・アール
IPC分类号： C08F220/42 , C08F232/00 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0382 , G03F7/0395 , Y10S430/106 , Y10S430/111
摘要：【解決手段】本発明は深紫外線域において感度のある新規のフォトレジスト組成物および新規のフォトレジストの加工方法に関し、その際にフォトレジストは新規のポリマー、光活性成分および溶剤を含有している。この新規のコポリマーは少なくとも１つのシアノ官能基を含むエチレン性不飽和化合物から誘導される単位および不飽和の環式非芳香族化合物から誘導される単位とよりなる。

43. 发明专利

JP3557274B2 Food packaging stress Tutsi film 失效
公开(公告)号：JP3557274B2
公开(公告)日：2004-08-25
申请号：JP6422595
申请日：1995-03-23
申请人：三菱樹脂株式会社
发明人：健次中村 , 佐々木　　秀樹
IPC分类号： B65D65/02 , A23L1/00 , B32B27/32 , C08F32/00 , C08F210/00 , C08F210/02 , C08F232/00 , C08J5/18 , C08L23/00 , C08L23/08 , C08L23/20 , C08L45/00 , C08L53/02

44. 发明专利

JP2004210868A Molding for automobile 审中-公开
公开(公告)号：JP2004210868A
公开(公告)日：2004-07-29
申请号：JP2002379678
申请日：2002-12-27
申请人： Jsr Corp , Jsr株式会社
发明人： KANAE KENTAROU , HAYAKAWA TOSHIYUKI , TANAKA MINORU , MORIKAWA AKIHIKO
IPC分类号： B60R13/04 , C08F8/44 , C08F232/00 , C08L23/04 , C08L23/08 , C08L23/10 , C08L23/16 , C08L101/00
CPC分类号： C08L23/16 , C08L23/04 , C08L23/10 , C08L2312/00 , Y10S525/919 , Y10T428/31645 , Y10T428/31692 , Y10T428/31696 , Y10T428/31931 , C08L2666/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a molding for automobile, excellent in marring resistance, having high gloss, and also excellent in weatherability.
SOLUTION: The molding for automobile has a part comprising an elastomer material containing an olefinic random copolymer prepared by copolymerizing ethylene, a 3-10C α-olefin, an unsaturated monomer having a functional group, and if necessary, a nonconjugated diene, and metal ions for crosslinking the olefinic random copolymer.
COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

45. 发明专利

JP2004512396A Microlithography for composition 审中-公开
公开(公告)号：JP2004512396A
公开(公告)日：2004-04-22
申请号：JP2002536611
申请日：2001-10-16
申请人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニーE.I.Du Pont De Nemours And Company
发明人：ジェラルド　フェルドマン , フランク　エル．シャド　ザ　サード , フレドリック　クラウス　ザムステグ　ジュニア , マイケル　カール　クロフォード , ラリー　エル．バーガー , リンダ　ケイ　ジョンソン
IPC分类号： C08F232/00 , C08F232/08 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C08F232/08 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0395
摘要：少なくとも、エチレン、α−オレフィン、１，１'−二置換オレフィン、ビニルアルコール、ビニルエーテルおよび１，３−ジエンからなる群から選択されるスペーサー基と、次の構造：
−Ｃ（Ｒ
ｆ）（Ｒ
ｆ
' ）Ｏｒ
ｂ
（式中、Ｒ
ｆおよびＲ
ｆ
' は、１〜約１０の炭素原子を有する同一または異なるフルオロアルキル基であるか、あるいは一緒になって（ＣＦ
２）
ｎであり、ｎは２〜約１０の範囲の整数であり、Ｒ
ｂは水素原子、または酸もしくは塩基に不安定な保護基であり、ｒは、０〜４の範囲の整数である）を含有する官能基を含有するノルボルニル基と、から調製されるフッ素含有ポリマー。このフッ素含有ポリマーは、１５７ｎｍの波長において４．０ｍｍ
−１未満の吸収係数を有する。これらのポリマーは、マイクロリソグラフィー用フォトレジスト組成物において有用である。それらはこの短波長において高い透過性を示し、良好なプラズマエッチ抵抗および粘着特性を含む他の主要な特性も有する。

46. 发明专利

JPWO2002014392A1 高軟化点芳香族石油樹脂の製造法およびその石油樹脂を含む印刷インキ审中-公开
公开(公告)号：JPWO2002014392A1
公开(公告)日：2004-04-08
申请号：JP2002519528
申请日：2001-08-13
申请人：新日本石油化学株式会社
发明人：柳下　等 , 添田　博信 , 川井　和男
IPC分类号： C08F240/00 , C08F232/00 , C09D11/02 , C09D11/10
CPC分类号： C09D11/108 , C08F240/00
摘要：非芳香族系溶剤への溶解性が良好な高軟化点芳香族石油樹脂の製造法およびその石油樹脂を含む印刷インキに係り、該製造法は、石油類の熱分解により得られる沸点140〜220℃の範囲の留分およびジエン価が20cg/g以上のテレビン油を、酸触媒の存在下に重合することからなる。

47. 发明专利

JP2004107563A Method for producing alpha-olefin-cyclic olefin copolymer 有权
公开(公告)号：JP2004107563A
公开(公告)日：2004-04-08
申请号：JP2002274810
申请日：2002-09-20
申请人： Mitsui Chemicals Inc , 三井化学株式会社
发明人： YOSHIDA IKUNORI , SAITO JUNJI , TAKAGI YUKIHIRO , SUZUKI YASUHIKO , FUJITA TERUNORI
IPC分类号： C08F4/605 , C08F210/00 , C08F232/00
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing an α-olefin-cyclic olefin copolymer in high polymerization activity. SOLUTION: The method for producing the α-olefin-cyclic olefin copolymer comprises carrying out a copolymerization of the corresponding monomers in the presence of a polymerization catalyst comprising (A) a transition metal compound of the general formula(IV), (V) or (VI) and (D) at least one compound selected from an organometallic compound, organoaluminumoxy compound and ionized ionic compound. In the general formula(IV), (V) or (VI), M 1 , M 2 and M 3 are each a group 3-11 transition metal atom; m, p, r, k, k' and k" are each 1-6; A and G are each O, S or the like; D, J, T, L, Q and R are each N, P or the like; E is a substituent -R 13 , -R 14 or =C(R 15 )R 16 ; R 1 to R 21 are each H, a halogen atom, hydrocarbon group or the like; when n, q and s are each 1, X 1 , X 2 and X 3 are each O, when n, q and s are each ≥2, at least one of X 1 , X 2 and X 3 is O or the like. COPYRIGHT: (C)2004,JPO

48. 发明专利

JP2004504635A The photoresist compositions and methods of producing it for deep UV 审中-公开
公开(公告)号：JP2004504635A
公开(公告)日：2004-02-12
申请号：JP2002512748
申请日：2001-07-11
申请人：クラリアント・インターナシヨナル・リミテッド
发明人：ダンメル・ラルフ・アール , パドマナバン・ムニラトーナ , ラーマン・エム・ダリル
IPC分类号： C08F220/10 , C08F222/06 , C08F232/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0045 , G03F7/0395 , Y10S430/115
摘要：本発明は、ａ）水性アルカリ性溶液中に不溶性でありかつ少なくとも一種の酸感応性基を含むポリマー及びｂ）露光時に酸を生成することができる化合物を含んでなり、そして３００ｎｍ〜１００ｎｍの波長に感度を示す化学増幅型の系に関する。本発明は、脂環式炭化水素オレフィン、環状側鎖部を有するアクリレート及び環状酸無水物から製造されるポリマーを含む。また本発明は、このようなフォトレジストの像形成方法にも関する。

49. 发明专利

JP2004004965A POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME 审中-公开
公开(公告)号：JP2004004965A
公开(公告)日：2004-01-08
申请号：JP2003290249
申请日：2003-08-08
申请人： FUJI PHOTO FILM CO LTD
发明人： SATO KENICHIRO , NAKAO HAJIME
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/10 , C08F232/00 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a positive photoresist composition whose development defects are reduced in manufacturing of the positive photoresist composition and a pattern forming method using the same. SOLUTION: The positive photoresist composition contains a resin which includes a specific repeating constitutional unit and whose dissolution rate in an alkaline developing solution is increased by the effect of an acid and a compound which generates the acid by irradiation with active rays or radiations and patterns are formed by using the positive photoresist composition. COPYRIGHT: (C)2004,JPO

50. 发明专利

JP2003335826A Copolymer, method for manufacturing the same, and radiation-sensitive resin composition 审中-公开
标题翻译：共聚物，其制备方法和辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：JP2003335826A
公开(公告)日：2003-11-28
申请号：JP2002144897
申请日：2002-05-20
申请人： Jsr Corp , Jsr株式会社
发明人： NISHIMURA YUKIO , NISHIMURA ISAO
IPC分类号： G03F7/039 , C08F4/32 , C08F232/00 , C08F234/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive resin composition, particularly a copolymer useful as a resin component of the same, high in transparency to radiation; excellent in basic characteristics of a resist such as sensitivity, resolution, and pattern configuration; concurrently high in dry etching resistance and adhesion to the substrate; and excellent in developability and conservation stability. SOLUTION: The copolymer has a repeating unit derived from a monomer represented by 1-ethylcyclopentyl ester or by 2-ethyladamantan-2-yl ester, etc., of a carboxy group-containing norbornene compound; and another repeating unit derived from a lactone monomer represented by 2(5H)-furanone or by its derivative, etc. In the copolymer, the content of the former repeating unit accounts for more than 30 mol% of the repeating units in total. The radiation- sensitive resin composition contains the copolymer and a radiation-sensitive acid generator. COPYRIGHT: (C)2004,JPO
摘要翻译：要解决的问题：提供一种辐射敏感性树脂组合物，特别是可用作其树脂组分的共聚物，对辐射透明度高; 抗蚀剂的基本特性如灵敏度，分辨率和图案配置优异; 同时具有高耐干蚀刻性和对基材的粘合性; 并具有优异的可开发性和保存稳定性。解决方案：共聚物具有衍生自含1-羧基的降冰片烯化合物的1-乙基环戊基酯或2-乙基金刚烷-2-基酯等的单体的重复单元; 和由2（5H） - 呋喃酮或其衍生物等表示的内酯单体衍生的另一重复单元。在共聚物中，前者重复单元的含量总共占重复单元的30摩尔％以上。辐射敏感树脂组合物含有共聚物和辐射敏感性酸产生剂。版权所有（C）2004，JPO

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