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31. 发明专利

JP6287369B2 フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物及び重合体有权
公开(公告)号：JP6287369B2
公开(公告)日：2018-03-07
申请号：JP2014045775
申请日：2014-03-07
申请人： JSR株式会社
发明人：生井準人 , 藤澤友久
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , C07C309/19 , C07C381/12 , C09K3/00 , C08F220/38 , G03F7/004

32. 发明专利

JP2017156728A 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物审中-公开
公开(公告)号：JP2017156728A
公开(公告)日：2017-09-07
申请号：JP2016042890
申请日：2016-03-04
申请人： JSR株式会社
发明人：生井準人
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/20 , C08F20/18 , C08F20/26 , G03F7/039
摘要：【課題】リソグラフィー性能及び膜減り抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、酸解離性基、及びこの酸解離性基により保護されたオキソ酸基又はこの酸解離性基により保護されたフェノール性水酸基を含む第1構造単位を有する重合体と、感放射線性酸発生体と、溶媒とを含有する感放射線性樹脂組成物であって、上記酸解離性基が、式(1)で表されることを特徴とする。式(1)中、Yは、置換若しくは非置換の環員数3〜20の2価の脂環式炭化水素基、又は置換若しくは非置換の環員数4〜20の2価の脂肪族複素環基である。Lは、炭素数1〜20の2価の有機基である。Zは、環員数3〜20の環構造を有する1価の基である。*は、上記保護されたオキソ酸基又は保護されたフェノール性水酸基におけるオキシ基への結合部位を示す。式(1)におけるLが、置換又は非置換の炭素数1〜20のアルカンジイル基であるとよい。【選択図】なし

33. 发明专利

JP2017156592A 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017156592A
公开(公告)日：2017-09-07
申请号：JP2016040535
申请日：2016-03-02
申请人： JSR株式会社
发明人：生井準人
IPC分类号： G03F7/038 , C08F220/34 , G03F7/20 , G03F7/039
摘要：【課題】LWR性能、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度、MEEF性能、現像欠陥抑制性及び膜収縮抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物、及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。【解決手段】式(1)で表される構造単位を有する第1重合体、感放射線性酸発生体、及び溶媒を含有する感放射線性樹脂組成物。[Lは、炭素数2〜8のアルキレン鎖であって、アルキレン鎖が有する水素原子の一部又は全部を置換基で置換した基、又はアルキレン鎖の炭素−炭素間に硫黄原子若しくは窒素原子を含む基である。] 【選択図】なし

34. 发明专利

JP6183199B2 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法及び化合物有权
公开(公告)号：JP6183199B2
公开(公告)日：2017-08-23
申请号：JP2013258740
申请日：2013-12-13
申请人： JSR株式会社
发明人：生井準人
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/038 , G03F7/32 , C08F220/28 , C08F220/22 , C07D319/06 , C07D309/32 , C07D307/33 , C07D307/00 , C07D493/18 , C07D327/04 , C07D295/22 , C07D295/08 , G03F7/004

35. 发明专利

JP2017044874A 感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：辐射敏感树脂组合物和抗蚀图案形成方法
公开(公告)号：JP2017044874A
公开(公告)日：2017-03-02
申请号：JP2015167289
申请日：2015-08-26
申请人： JSR株式会社
发明人：生井準人
IPC分类号： G03F7/038 , C08F220/10 , G03F7/20 , G03F7/039
摘要：【課題】焦点深度、MEEF性能、LWR性能、解像性、断面形状の矩形性及び膜収縮抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物の提供。【解決手段】式(1)で表される第1構造単位及び式(2)で表される第2構造単位を有し、第1構造単位として式(1−1)で表されるマレイミド構造単位を有し、第1構造単位の含有割合が50モル%以下、かつマレイミド構造単位の含有割合が4モル%以上である重合体、感放射線性酸発生体、並びに溶媒を含有する、感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
摘要翻译：焦深，MEEF性能，LWR性能，提供的分辨率，对辐射敏感的树脂组合物具有优异的横截面形状的矩形度和薄膜收缩抑制。 A具有通过将式（1-1）表示的式第一结构单元和由（1）（2），马来酰亚胺结构表示下式表示作为第一结构单元的第二结构单元具有单位，所述第一结构单元50摩尔％以下的含有比例，并且聚合物的含量为4摩尔％以上的马来酰亚胺结构单元，所述辐射敏感产酸剂，和含有溶剂，对辐射敏感的树脂组合物。系统技术领域

37. 发明专利

JP6036545B2 フォトレジスト組成物、レジストパターン形成方法、重合体及び化合物有权
标题翻译：光致抗蚀剂组合物，抗蚀剂图案形成方法，所述聚合物和化合物
公开(公告)号：JP6036545B2
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：JP2013107521
申请日：2013-05-21
申请人： JSR株式会社
发明人：生井準人 , 古川泰一 , 佐藤光央
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/32 , G03F7/039 , C08F220/28 , G03F7/038

38. 发明专利

JP2016099483A 感放射線性樹脂組成物、重合体及び化合物有权
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，聚合物和化合物
公开(公告)号：JP2016099483A
公开(公告)日：2016-05-30
申请号：JP2014236049
申请日：2014-11-20
申请人： JSR株式会社
发明人：生井準人
IPC分类号： G03F7/038 , H01L21/027 , C08F20/28 , C07D307/94 , C07D311/96 , C07D307/32 , C07D307/93 , C07D493/08 , G03F7/039
摘要：【課題】LWR性能、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度、レジスト膜収縮抑制性及び欠陥発生抑制性に優れる感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】式(1)で表される第1構造単位を有する重合体と、感放射線性酸発生体とを含有する感放射線性樹脂組成物。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供LWR（线宽粗糙度）性能，分辨率，截面形状的矩形度，焦深，抗蚀剂膜收缩抑制特性和缺陷发生抑制性能优异的辐射敏感性树脂组合物。：辐射敏感性树脂组合物包含具有由式（1）表示的第一结构单元和辐射敏感性酸发生剂的聚合物。选择图：无

39. 发明专利

JP2015194703A 感放射線性樹脂組成物、レジストパターン形成方法、感放射線性酸発生剤及び化合物审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物，形成耐药性图案的方法，辐射敏感酸发生器和化合物
公开(公告)号：JP2015194703A
公开(公告)日：2015-11-05
申请号：JP2015002710
申请日：2015-01-08
申请人： JSR株式会社
发明人：齊藤隆一 , 生井準人
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027 , C07C309/19 , C07C309/23 , C07C381/12 , C09K3/00 , C08F20/12 , C08F12/22 , C07D493/08 , C07D495/08 , C07D309/10 , C07D307/33 , C07D317/72 , G03F7/004
CPC分类号： C07C309/19 , C07C309/23 , C07D307/33 , C07D317/72 , C07D327/04 , C07D333/50 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要：【課題】LWR性能、CDU性能、解像性、断面形状の矩形性、焦点深度、露光余裕度、MEEF性能及び感度に優れる感放射線性樹脂組成物の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、酸解離性基を含む構造単位を有する重合体、及び感放射線性酸発生剤を含有し、上記感放射線性酸発生剤が下記式(A)で表される化合物を含む感放射線性樹脂組成物である。式(A)中、R x は、脂環式炭化水素基、上記脂環式炭化水素基の炭素−炭素間に−O−、−COO−、−OCOO−、−S−、−SO 2 O−、−NHCOO−、−SiR S 2 −を含む脂肪族複素環基、又は上記脂環式炭化水素基及び上記脂肪族複素環基が有する水素原子を−OH、−CN、炭化水素基、オキシ炭化水素基、ハロゲン原子で置換した基であり、R t 及びR y は、R x の環構造上の同一炭素原子又は互いに隣接する2つの炭素原子にそれぞれ結合している。M + は、感放射線性オニウムカチオンである。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供LWR（线宽粗糙度）性能优异的辐射敏感性树脂组合物，CDU（临界尺寸均匀性）性能，分辨率，截面轮廓的矩形度，焦深，曝光宽容度，MEEF（掩模误差增强因子）性能和灵敏度。解决方案：辐射敏感性树脂组合物包含具有含有酸解离基团的结构单元的聚合物和辐射敏感性酸发生剂。辐射敏感发生器包含由下式（A）表示的化合物。在式（A）中，R代表脂环族烃基，在碳 - 碳上含有-O-，-COO-，-OCOO-，-S-，-SOO - ， - NHCOO-或-SiR-的脂族杂环基或上述脂环族烃基或上述脂肪族杂环基的氢原子取代-OH，-CN，烃基，羟基烃基或卤原子取代的基团; Rand Rare各自键合到相同的碳原子上或分别键合在R的环状结构中的相邻的两个碳原子上; 并且M表示辐射敏感的阳离子。

40. 发明专利

JP2015189840A 重合体、感放射線性樹脂組成物及びレジストパターン形成方法有权
标题翻译：聚合物，辐射敏感性树脂组合物和形成耐火图案的方法
公开(公告)号：JP2015189840A
公开(公告)日：2015-11-02
申请号：JP2014067288
申请日：2014-03-27
申请人： JSR株式会社
发明人：生井準人 , 大▲崎▼ 仁視
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027 , C08F20/38
摘要：【課題】放射線感度、LWR性能、CDU性能、EL性能及び欠陥抑制性に優れるレジストパターンを形成できる感放射線性樹脂組成物及びこの感放射線性樹脂組成物に含有される重合体の提供を目的とする。【解決手段】本発明は、下記式(1)で表される基を含む構造単位を有する重合体である。式(1)中、Aは、スルフィニル基とその両側に結合する炭素原子とを含む炭素数2〜50の2価の有機基である。Xは、* 1 −COO−又は* 1 −OCO−である。* 1 は、Aに結合する部位を示す。R 3 は、炭素数1〜20の1価の有機基である。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：为了提供对辐射具有优异的敏感性，LWR（线宽粗糙度）性能，CDU（临界尺寸均匀性）性能，EL（曝光宽容度）性能，可以形成抗蚀剂图案的辐射敏感性树脂组合物，和缺陷抑制性，以及包含在辐射敏感性树脂组合物中的聚合物。溶液：聚合物具有含有由下式（1）表示的基团的结构单元。式（1）中，A表示碳原子数为2〜50的二价有机基团，其包含与亚磺酰基的两面键合的亚磺酰基和碳原子。 X表示* -COO-或* -OCO-，其中*表示与A键合的部分; 并且R表示具有1至20个碳原子的一价有机基团。

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