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32. 发明专利

JPWO2018016066A1 狭帯域化KrFエキシマレーザ装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2018016066A1
公开(公告)日：2019-05-09
申请号：JP2016071508
申请日：2016-07-22
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：守屋正人
IPC分类号： H01S3/00 , H01S3/139
摘要：狭帯域化KrFエキシマレーザ装置は、レーザチャンバと、狭帯域化光学系と、アクチュエータと、出力結合ミラーと、波長検出器と、波長制御部と、を含む。アクチュエータは、狭帯域化光学系で選択される光の波長を変更可能に構成される。波長検出器は、水銀と、水銀の少なくとも一部を吸着するゲッタ材と、水銀の少なくとも一部を励起する熱陰極と、を内部に収容した低圧水銀ランプと、低圧水銀ランプから出射された基準光と、出力結合ミラーから出射された被検出光と、が入射する位置に配置されたエタロンと、基準光の干渉縞の波形と、被検出光の干渉縞の波形と、を検出する光分布センサと、を含む。波長制御部は、基準光の干渉縞の波形を積算して積算波形を計算し、積算波形と被検出光の干渉縞の波形とに基づいて被検出光の波長を計算し、被検出光の波長の計算結果に基づいてアクチュエータを制御する。

33. 发明专利

JPWO2017154528A1 極端紫外光生成装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017154528A1
公开(公告)日：2019-01-31
申请号：JP2017005996
申请日：2017-02-17
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：西村祐一 , 薮隆之
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
摘要：極端紫外光生成装置は、外部装置からの指令に基づいて極端紫外光の生成位置を移動させる極端紫外光生成装置であって、内部に供給されたターゲットに対してレーザ光が照射されることでターゲットから極端紫外光が生成されるチャンバと、ターゲットを出力しチャンバ内に供給するターゲット供給器と、チャンバ内に供給されたターゲットにレーザ光を集光する集光ミラーと、ターゲット供給器の位置を調整するステージと、集光ミラーの位置を調整するマニピュレータと、極端紫外光の生成中に生成位置を移動させる際、ステージ、マニピュレータ、及び、ターゲットに対するレーザ光の照射タイミングのうちの少なくとも1つをフィードフォワード方式で制御可能に構成された制御部と、を備える。

39. 发明专利

JP2018189970A 極端紫外光生成システム审中-公开
公开(公告)号：JP2018189970A
公开(公告)日：2018-11-29
申请号：JP2018124739
申请日：2018-06-29
申请人：ギガフォトン株式会社
发明人：柳田達哉 , 若林理
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： H05G2/008 , H01S3/005 , H01S3/0602 , H01S3/08054 , H01S3/107 , H01S3/1115 , H01S3/1611 , H01S3/1643 , H01S3/1673 , H01S3/2232 , H01S3/2308 , H01S3/2316 , H01S3/235 , H05G2/006
摘要：【課題】極端紫外光生成システムを提供する。【解決手段】チャンバ2と、チャンバ内のプラズマ生成領域に向けてターゲットを出力するように構成されたターゲット生成部26と、ターゲットに、第1プリパルスレーザ光P1、第2プリパルスレーザ光P2及びメインパルスレーザ光Mがこの順で照射されるように、第1プリパルスレーザ光、第2プリパルスレーザ光及びメインパルスレーザ光を生成するレーザシステムと、第2プリパルスレーザ光のフルーエンスが、1J/cm 2 以上、且つ、メインパルスレーザ光のフルーエンス以下となるように、レーザシステムを制御する制御部50と、を含む。【選択図】図2

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