专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

21. 发明专利

JP2008221150A Peeling method of metal and rubber 审中-公开
标题翻译：金属和橡胶的剥离方法
公开(公告)号：JP2008221150A
公开(公告)日：2008-09-25
申请号：JP2007064300
申请日：2007-03-14
申请人： Toshio Kimura , 利夫木村
发明人： KIMURA TOSHIO
IPC分类号： B09B5/00 , B09B3/00 , B29B17/02 , C23G5/02
CPC分类号： Y02W30/68
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a separation method of metal and rubber capable of separating a composite of metal and rubber bonded with an adhesive while keeping good quality by using a solvent corresponding to a kind of metal or the like and especially capable of recycling the metal. SOLUTION: The composite of stainless and rubber is immersed into a solution 2 containing dichloromethane (Methachlene (R)) and formic acid so as to be suited for peeling of the composite of stainless and rubber, thereby, the stainless and rubber is peeled and both are separated. Therein, the metal part is made of stainless material, the rubber part is made of chlorinated rubber as synthetic rubber and the composite prepared by bonding both of the parts with a curing adhesive is separated into stainless and chlorinated rubber, wherein the solvent 2 has a weight compounding ratio of the dichloromethane and formic acid in the range of 2:8 to 8:2, preferably has the weight compounding ratio of 5:5, and the temperature of the solvent 2 is controlled in the range of 10°C to 38°C and the composite is immersed into such a solvent 2. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种金属和橡胶的分离方法，其能够通过使用对应于一种金属等的溶剂，并且特别是能够分离使用粘合剂粘合的金属和橡胶的复合材料，同时保持良好的质量的回收金属。解决方案：将不锈钢和橡胶的复合材料浸入含有二氯甲烷（Methachlene）和甲酸的溶液2中，以适用于剥离不锈钢和橡胶的复合材料，从而不锈钢和橡胶是剥皮，两者分开。其中，金属部分由不锈钢材料制成，橡胶部分由合成橡胶氯化橡胶制成，通过将两种部件与固化胶粘合剂制成的复合材料分离成不锈钢和氯化橡胶，其中溶剂2具有二甲苯和甲酸的重量配比在2:8至8:2的范围内，优选重量配混比为5:5，溶剂2的温度控制在10℃至38℃的范围内 ℃，将复合材料浸入这种溶剂中。版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

22. 发明专利

JP4104439B2 Composition comprising a 1,3-dicarbonyl compound chelating agent and copper corrosion inhibitor for removing residues from a semiconductor substrate containing copper structures 有权
公开(公告)号：JP4104439B2
公开(公告)日：2008-06-18
申请号：JP2002350780
申请日：2002-12-03
申请人：アドバンスドテクノロジーマテリアルズ,インコーポレイテッド
发明人：エー．ボゼザックウィリアム , バーンハードデービッド , セイジョマ．ファチィマ , ヌエンロング
IPC分类号： C11D7/08 , H01L21/304 , C11D3/20 , C11D7/02 , C11D7/26 , C11D7/28 , C11D7/32 , C11D7/34 , C11D7/50 , C11D7/60 , C11D11/00 , C23G5/02 , G03F7/42 , H01L21/02 , H01L21/306 , H01L21/311 , H01L21/3213
CPC分类号： H01L21/02063 , C11D3/2072 , C11D7/02 , C11D7/261 , C11D7/264 , C11D7/265 , C11D7/266 , C11D7/32 , C11D7/3209 , C11D7/3218 , C11D7/3245 , C11D7/3263 , C11D7/3272 , C11D7/3281 , C11D7/34 , C11D7/5009 , C11D7/5013 , C11D11/0047 , C23G5/02 , G03F7/425 , H01L21/02052 , H01L21/02071 , H01L21/31133 , H01L21/31138
摘要： A semiconductor wafer cleaning formulation, including 2-98% wt. organic amine, 0-50% wt. water, 0.1-60% wt. 1,3-dicarbonyl compound chelating agent, 0-25% wt. of additional different chelating agent(s), 0.1-40% wt. nitrogen-containing carboxylic acid or an imine, and 2-98% wt polar organic solvent. The formulations are useful to remove residue from wafers following a resist plasma ashing step, such as inorganic residue from semiconductor wafers containing delicate copper interconnecting structures.

23. 发明专利

JP4025119B2 A method of cleaning the welding member 有权
公开(公告)号：JP4025119B2
公开(公告)日：2007-12-19
申请号：JP2002149355
申请日：2002-05-23
申请人：本田技研工業株式会社
发明人：克幸中島 , 勇三吉岡 , 剛吉村 , 優一長尾
IPC分类号： B23K31/00 , C23G5/02

24. 发明专利

JPWO2005040324A1 新規な洗浄剤及び洗浄方法有权
公开(公告)号：JPWO2005040324A1
公开(公告)日：2007-03-15
申请号：JP2005514927
申请日：2004-10-13
申请人：和光純薬工業株式会社
发明人：水田　浩徳 , 浩徳水田 , 政彦柿沢 , 政彦柿沢 , 林田　一良 , 一良林田
IPC分类号： C11D7/60 , C11D7/26 , C11D7/32 , C11D7/36 , C11D11/00 , C23G5/02 , C23G5/032 , H01L21/304 , H01L21/306
CPC分类号： H01L21/02052 , C11D7/261 , C11D7/262 , C11D7/263 , C11D7/264 , C11D7/3245 , C11D7/36 , C11D11/0047 , C23G5/02 , C23G5/032
摘要：基板、特に半導体基板の表面荒れを起こすことなく、また、基板表面に施された金属配線、特に銅配線の腐食や酸化を起こすことなく、基板表面に存在する微細粒子(パーティクル)や各種金属由来の不純物(金属不純物)を有効に除去し得、更には、金属腐食防止剤-Cu皮膜、特にCu-BTA皮膜を除去することなく、基板表面に存在するカーボン・ディフェクトをも同時に除去し得る、基板用洗浄剤及び洗浄方法の提供本発明は、〔I〕カルボキシル基を少なくとも1個有する有機酸、〔II〕錯化剤及び〔III〕(1)1価アルコール類、(2)アルコキシアルコール類、(3)グリコール類、(4)グリコールエーテル類、(5)ケトン類及び(6)ニトリル類からなる群より選ばれる有機溶媒とを含んでなる基板用洗浄剤、並びに当該洗浄剤で基板表面を処理することを特徴とする、基板表面の洗浄方法を提供する。

26. 发明专利

JP3748004B2 Washing soap 有权
公开(公告)号：JP3748004B2
公开(公告)日：2006-02-22
申请号：JP358699
申请日：1999-01-11
申请人：信越化学工業株式会社
发明人：道博菅生 , 寿青木
IPC分类号： C11D7/50 , C11D7/22 , C23G5/02 , G02C13/00

27. 发明专利

JP3582404B2 Stabilized 1-bromopropane composition 有权
公开(公告)号：JP3582404B2
公开(公告)日：2004-10-27
申请号：JP14385099
申请日：1999-05-24
申请人：東ソー株式会社
发明人：良和小田 , 俊二阿萬
IPC分类号： C11D7/50 , C11D7/26 , C11D7/30 , C11D7/32 , C23G5/02

28. 发明专利

JP2004238442A Cleanser composition 有权
公开(公告)号：JP2004238442A
公开(公告)日：2004-08-26
申请号：JP2003027306
申请日：2003-02-04
申请人： Tokuyama Corp , 株式会社トクヤマ
发明人： IMAI TETSUO , OIZUMI JUNICHI
IPC分类号： B08B3/08 , C11D7/32 , C11D7/50 , C11D7/60 , C23G1/36 , C23G5/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semi-aqueous cleanser which can well cleanse the surface of a metal foil or the like without needing a drying process, when the metal foil or the like is cleansed and then subjected to a plating treatment or a chromate treatment.
SOLUTION: This cleanser composition is characterized by adding 0.01 to 1 pt.wt. of an evaporable basic compound such as tetramethylammonium hydroxide to 100 pts.wt. of a mixture liquid comprising 10 to 95 wt.% of water and 5 to 90 wt.% of an organic solvent having a solubility parameter δ of 8 to 16, such as dipropylene glycol monomethyl ether or propylene glycol monopropyl ether, and substantially not containing a surfactant.
COPYRIGHT: (C)2004,JPO&NCIPI

29. 发明专利

JP2004149658A Solvent composition 审中-公开
公开(公告)号：JP2004149658A
公开(公告)日：2004-05-27
申请号：JP2002315956
申请日：2002-10-30
申请人： Asahi Glass Co Ltd , 旭硝子株式会社
发明人： HANADA TAKESHI
IPC分类号： C11D7/30 , C11D7/28 , C11D7/50 , C11D17/00 , C23G5/02
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a new solvent composition having a strong dissolving power and a wide application.
SOLUTION: This solvent composition contains 1,1-dichloro-2,2,3,3,3-pentafluoropropane (R225ca) and/or 1,3-dichloro-1,1,2,2,3-pentafluoropropane (R225cb) and 1,1,2,2-tetrafluoroethyl-2,2,2 trifluoroethyl ether (HFE347). The amount of HFE347 accounts for 20-80% (on the basis of mass) of the total amount of R225ca and/or R225cb and HFE347.
COPYRIGHT: (C)2004,JPO

30. 发明专利

JP3518061B2 The cleaning liquid penetrant method non-destructive inspected object 失效
公开(公告)号：JP3518061B2
公开(公告)日：2004-04-12
申请号：JP15789695
申请日：1995-06-23
申请人：三菱化学株式会社
发明人：俊明副島 , 敏相馬 , 良剛荒木
IPC分类号： C11D7/26 , C11D7/30 , C11D7/50 , C23G5/02 , C23G5/036

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式