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21. 发明专利

JP2013133281A New compound, and method for producing the same 有权
标题翻译：新化合物及其生产方法
公开(公告)号：JP2013133281A
公开(公告)日：2013-07-08
申请号：JP2011282950
申请日：2011-12-26
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： TAKEMOTO KAZUKI
IPC分类号： C07C309/17 , C07C303/22
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new compound having a photoacid generating group as a side chain, and to provide a method for producing the same.SOLUTION: The new compound represented by formula (I) is produced by reacting benzyl halide having an ethenyl group or 2-propenyl group on 4-position with a new sulfonic acid residue-containing compound. [In the formula, n represents 0 or 1; Uand Ueach independently represent an oxygen atom, a sulfur atom or -NR-; L represents a 1-20C divalent hydrocarbon group; a methylene group not adjacent to Uand Uin a hydrocarbon group may be replaced with an oxygen atom, a sulfur atom or the like; Yand Yeach independently represent a fluorine atom or a 1-4C perfluoroalkyl group; and Arepresents organic counter ion].
摘要翻译：要解决的问题：提供具有光酸产生基团作为侧链的新化合物，并提供其制备方法。溶液：由式（I）表示的新化合物通过使具有乙烯基的苄基卤反应在4-位上具有新的含磺酸残基的化合物或2-丙烯基。 [式中，n表示0或1; Uand Ueach独立地表示氧原子，硫原子或-NR-; L表示1-20C的二价烃基; 与Uand不相邻的亚甲基烃基可以被氧原子，硫原子等取代; Yand Yeach独立地表示氟原子或1-4C全氟烷基; 和有机反离子]。

22. 发明专利

JP5222632B2 Method for producing a biaryl compound 有权
公开(公告)号：JP5222632B2
公开(公告)日：2013-06-26
申请号：JP2008155059
申请日：2008-06-13
申请人：白鳥製薬株式会社
发明人：博吉野 , 司臼田 , 健太濱野
IPC分类号： C07C51/353 , B01J23/44 , C07B61/00 , C07C57/30 , C07C59/48 , C07C63/331 , C07C65/03 , C07C303/22 , C07C309/29 , C07D307/54 , C07D333/24
CPC分类号： Y02P20/52

23. 发明专利

JP2013041247A Resist composition and method for producing resist pattern 有权
标题翻译：耐蚀组合物及其制造方法
公开(公告)号：JP2013041247A
公开(公告)日：2013-02-28
申请号：JP2012139446
申请日：2012-06-21
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： ICHIKAWA KOJI , ADACHI YUKAKO , FUJITA SHINGO
IPC分类号： G03F7/004 , C07C67/08 , C07C67/14 , C07C69/54 , C07C303/22 , C07C309/17 , C07C381/12 , C08F20/26 , C09K3/00 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C303/32 , C07C309/06 , C07C309/12 , C07D333/46 , C07D335/02 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041 , G03F7/38 , Y10S430/108 , Y10S430/111 , Y10S430/122 , Y10S430/123
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resist composition which enables production of a resist pattern having superior CD uniformity and ensures reduced defects of the resultant resist pattern.SOLUTION: A resist composition contains a resin having a structural unit represented by the formula (I), a resin being insoluble or poorly soluble in alkali aqueous solution, but becoming soluble in an alkali aqueous solution by the action of an acid and not including the structural unit represented by the formula (I), and an acid generator represented by the formula (II).
摘要翻译：解决的问题：提供能够制造具有优异的CD均匀性的抗蚀剂图案的抗蚀剂组合物，并且确保所得到的抗蚀剂图案的缺陷减少。抗蚀剂组合物含有具有由式（I）表示的结构单元的树脂，树脂在碱性水溶液中不溶或难溶，但是通过酸的作用变得可溶于碱性水溶液，不包括由式（I）表示的结构单元和由式（II）表示的酸产生剂。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

24. 发明专利

JP5125057B2 Salts for acid generator for a chemically amplified resist composition 有权
标题翻译：空值
公开(公告)号：JP5125057B2
公开(公告)日：2013-01-23
申请号：JP2006292107
申请日：2006-10-27
申请人：住友化学株式会社
发明人：由香子原田 , 勲吉田 , 佳幸高田
IPC分类号： C07C309/17 , C07C303/22 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027

25. 发明专利

JP4993462B2 Method for producing a fluorine compound 有权
公开(公告)号：JP4993462B2
公开(公告)日：2012-08-08
申请号：JP2006510769
申请日：2005-03-07
申请人：旭化成株式会社
发明人：秀夫斎藤 , 信之植松 , 池田　　正紀
IPC分类号： C07C303/22 , C07B61/00 , C07C303/02 , C07C309/80 , C07C309/82
CPC分类号： C07C303/22 , C07C309/80 , C07C309/82

26. 发明专利

JP2012072114A Method for producing biaryl compound 有权
标题翻译：生产二元化合物的方法
公开(公告)号：JP2012072114A
公开(公告)日：2012-04-12
申请号：JP2011134136
申请日：2011-06-16
申请人： Sumitomo Chemical Co Ltd , 住友化学株式会社
发明人： HIDA NORIYUKI , HIBINO HIROAKI
IPC分类号： C07C303/22 , C07B61/00 , C07C45/72 , C07C49/813 , C07C67/343 , C07C69/76 , C07C201/12 , C07C205/06 , C07C303/30 , C07C309/39 , C07C309/73 , C07D213/22 , C07D333/18
CPC分类号： C07D213/22 , C07C45/72 , C07C67/343 , C07C201/12 , C07C303/30 , C07C303/32 , C07D333/04 , C07C205/06 , C07C309/73 , C07C309/39 , C07C49/813 , C07C69/76
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To solve a problem that the acquisition of 2,2'-benzidine disulfonic acid which is a raw material is not necessarily easy in the conventional method of producing a biaryl compound.SOLUTION: The method for producing a biaryl compound represented by formula (2): Ar-Ar (wherein Ar represents an aromatic group that may have a substituent), comprises a step wherein a compound represented by formula (1) Ar-Cl (wherein Ar is as defined above), is coupled in the presence of an amine compound that has at least two tertiary amino groups in each molecule, a copper metal and a copper salt.
摘要翻译：要解决的问题为了解决生产联芳基化合物的常规方法中获得作为原料的2,2'-联苯胺二磺酸并不一定容易的问题。解决方案：由式（2）表示的联芳基化合物的制备方法：Ar-Ar（其中Ar表示可具有取代基的芳族基团）包括其中由式（1）表示的化合物Ar- Cl（其中Ar如上所定义）在各分子中具有至少两个叔氨基的胺化合物，铜金属和铜盐的存在下偶联。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

27. 发明专利

JP2012020952A Iodonium compound, method of producing the iodonium compound, functionalized spiro-cyclic compound and method of producing the spiro-cyclic compound 有权
标题翻译：碘化合物，制备碘化合物的方法，功能化的螺旋环化合物和生产螺环化合物的方法
公开(公告)号：JP2012020952A
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：JP2010158956
申请日：2010-07-13
申请人： Ritsumeikan , 学校法人立命館
发明人： KITA YASUYUKI , DOI TOSHIFUMI
IPC分类号： C07C309/29 , C07C45/63 , C07C49/697 , C07C303/22 , C07D209/54 , C07D209/96 , C07D307/94
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a novel iodonium compound that can introduce a variety of nucleophilic substitutuents into a spiro-cyclic compound.SOLUTION: The iodonium compound is expressed by formulae (2-1) and (2-2).
摘要翻译：待解决的问题：提供可以将各种亲核取代基引入螺环化合物的新型碘鎓化合物。解决方案：碘化合物由式（2-1）和（2-2）表示。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

28. 发明专利

JP2011251961A Photoacid generator, method for producing the same, and resist composition containing the same 审中-公开
标题翻译：光致发电机及其制造方法以及含有它们的电阻组合物
公开(公告)号：JP2011251961A
公开(公告)日：2011-12-15
申请号：JP2011105329
申请日：2011-05-10
申请人： Korea Kumho Petrochemical Co Ltd , コリアクンホペトロケミカルカンパニーリミテッド
发明人： HAN JOON HEE , KIM JIN-HO , CHO SEUNG DUK , SHIN DAE-HYEON
IPC分类号： C07C309/17 , C07C303/22 , C07C381/12 , C09K3/00 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a photoacid generator, to provide a method for producing the same, and to provide a resist composition containing the same.SOLUTION: The photoacid generator is a compound represented by chemical formula (wherein, Y is either one group selected from the category consisting of 3C-30C cycloalkyl and 3C-30C cycloalkenyl; Qand Qare each independently a halogen atom; X is either one group selected from the category consisting of alkanediyl, alkenediyl, NR', S, O, CO, and combination thereof, wherein R' is either one group selected from the category consisting of H and alkyl; n is an integer of 0-5; and Ais an organic counterion). This photoacid generator, which is low in the diffusive speed of an acid generated under exposure and short in the acid's diffusive distance and has an appropriate acidity, therefore can improve LWR (line width roughness) characteristics and can suppress its own seeping into a solvent such as pure water used in a process.
摘要翻译：要解决的问题：提供光致酸发生剂，以提供其制备方法，并提供含有该光致酸产生剂的抗蚀剂组合物。光解酸产生剂是由化学式表示的化合物（其中，Y为选自3C-30C环烷基和3C-30C环烯基的一个基团; Q 1 < / SB>和Q 2 各自独立地为卤素原子; X为选自烷二基，亚烯基，NR'，S，O，CO和其组合，其中R'为选自由H和烷基组成的类别中的一个基团; n为0-5的整数;并且A + 为有机抗衡离子）。该光酸产生剂在曝光时产生的酸的扩散速度低，酸扩散距离短，具有适当的酸度，因此可以提高LWR（线宽粗糙度）特性，并且可以抑制其自身渗入溶剂中作为一个过程中使用的纯水。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

29. 发明专利

JP4835055B2 A method of manufacturing a proton dissociative functional molecule, and a method for manufacturing of the precursor 有权
公开(公告)号：JP4835055B2
公开(公告)日：2011-12-14
申请号：JP2005210890
申请日：2005-07-21
申请人：ソニー株式会社
发明人：修一瀧澤
IPC分类号： C07C303/22 , C01B31/02 , C07B61/00 , C07C309/10 , C07C309/82 , H01M8/02 , H01M8/10
CPC分类号： Y02E60/521
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method by which a thermally and chemically stable proton conductor material can be synthesized in more mild conditions, whereby the addition reaction can efficiently be advanced with minimum limit amounts of addition reaction reagents. SOLUTION: A spherical carbon molecule such as fullerene C 60 is addition-reacted with an addition reaction molecule such as ICF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 SO 2 F in the presence of a radical initiator such as 2,2'-azoisobutyronitrile at 70 to 100°C for 120 hours to obtain a precursor such as C 60 -CF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 SO 2 F, and the precursor is further hydrolyzed in the presence of an alkali and then exchanged with hydrogen ion to obtain a proton-conductive fullerene derivative such as C 60 -CF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 SO 2 H. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

30. 发明专利

JP2011529480A Polymorphism of rasagiline mesylate 审中-公开
公开(公告)号：JP2011529480A
公开(公告)日：2011-12-08
申请号：JP2011520598
申请日：2009-07-29
申请人：ジェネリクス・(ユーケー)・リミテッド
发明人：コカネ，ダッタトレイ , ゴレ，ビナーヤク , ソナワネ，サンディープ , タンク，シンデルパル , マノージクマール，ビンドゥ
IPC分类号： C07C211/42 , A61K31/135 , A61P3/12 , A61P9/10 , A61P25/00 , A61P25/14 , A61P25/16 , A61P25/18 , A61P25/24 , A61P25/28 , C07C209/00 , C07C303/22 , C07C309/04
CPC分类号： C07C211/42 , C07B2200/13 , C07C309/04 , C07C2602/08
摘要：本発明は、ラサジリンメシレートの新規な結晶形およびラサジリンメシレートの純粋な形態およびこれらの調製方法に関する。さらに、本発明は、当該結晶形および形態を含有する医薬組成物ならびにパーキンソン病、痴呆、アルツハイマー病、うつ、多動性症候群、脳卒中、脳虚血、神経外傷、統合失調症および多発性硬化症を患っている患者の治療における当該組成物の使用に関する。

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