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21. 发明专利

JP2013543540A Method and apparatus for multi-channel pulsed gas supply system 有权
公开(公告)号：JP2013543540A
公开(公告)日：2013-12-05
申请号：JP2013531758
申请日：2011-09-28
申请人：エムケーエスインストルメンツインコーポレーテッドMks Instruments,Incorporated
发明人：ディング，ユンフワ , ベネディクト，スコット , ピセラ，ヤロスラフ
IPC分类号： C23C16/455 , H01L21/3065
CPC分类号： G05D7/0635 , C23C16/45523 , C23C16/45557 , G05D7/0623
摘要： A pulse gas delivery system for delivering a sequence of pulses of prescribed amounts of gases to a process tool, comprises: (a) a plurality of channels, each including (i) a gas delivery chamber; (ii) an inlet valve connected so as to control gas flowing into the corresponding gas delivery chamber; and (iii) an outlet valve connected so as to control the amount of gas flowing out of the corresponding gas delivery chamber; and (b) a dedicated multiple channel controller configured so as to control the inlet and outlet valves of each of the channels so that pulses of gases in prescribed amounts can be provided to the process tool in a predetermined sequence in accordance with a pulse gas delivery process.

22. 发明专利

JP2006330851A Improved pressure type flow rate controller 有权
标题翻译：改进型压力流量控制器
公开(公告)号：JP2006330851A
公开(公告)日：2006-12-07
申请号：JP2005150057
申请日：2005-05-23
申请人： Fujikin Inc , 株式会社フジキン
发明人： HIROSE TAKASHI , DOI RYOSUKE , NISHINO KOJI , SHINOHARA TSUTOMU , IKEDA SHINICHI
IPC分类号： G05D7/06
CPC分类号： G05D7/0623 , H01L21/67017
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To easily and accurately measure any real gas other than nitrogen by using a pressure type flow rate controller calibrated based on nitrogen gas, and be easily replaced with a thermal type flow rate controller(mass flow controller).
SOLUTION: This pressure flow rate controller for calculating the flow rate of fluid flowing through an orifice 8 using Qc=KP
1 (K is proportional constant) or Q
c =KP
2
m (P
1 -P
2 )
n (K is proportional constant, m and n are constant) by using an orifice upstream side pressure P
1 and an orifice downstream pressure P
2 is configured to adjust a conversion rate(Qe'/Qer) as the rate of a set flow rate signal Qer and a set input signal Qe' of an input/output converter 25 and a conversion rate(Qo'/Qor') as the rate of the flow rate output signal Qor and the control flow rate output Qo'.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：通过使用基于氮气校准的压力式流量控制器，容易且准确地测量除氮气之外的任何实际气体，并且可以容易地用热式流量控制器（质量流量控制器）替换。解决方案：该压力流量控制器用于计算使用Qc = KP 1 （K为比例常数）或Q c 的孔8流动的流体的流量。 = KP 2 m （P 1 -P 2 比例常数，m和n是常数），并且孔口下游压力P 2 被配置为调节转化率（Qe'/ Qer）作为输入/输出转换器25的设定流量信号Qer和设定输入信号Qe'的速率和作为流量输出信号Qor和控制的速率的转换速率（Qo'/ Qor'）的速率流量输出Qo'。版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

23. 发明专利

KR20210032285A KR20210032285A - Method of drying a radioactive-waste transport/storage container 审中-公开
公开(公告)号：KR20210032285A
公开(公告)日：2021-03-24
申请号：KR1020200117568A
申请日：2020-09-14
申请人： 게엔에스 게젤샤프트 퓌어 누클레아프-서비스 엠베하
发明人： 크리스토프 리르슐 , 콘라트 드레에젠
IPC分类号： G21F5/06 , B65D88/74 , G21F9/34
CPC分类号： F26B21/14 , G21F5/10 , B65D88/747 , F26B5/12 , G05D7/0623 , G05D7/0676 , G21F5/06 , G21F9/34
摘要： 방사성 폐기물, 특히 사용된 핵연료 요소(spent fuel elements)를 위한 운송 및/또는 저장 컨테이너를 건조하는 방법이 제공되고, 컨테이너는 우선 배수되거나(drained) 또는 펌핑 아웃된다(pumped out). 그 후, 컨테이너 내부는 연속적으로 배기되거나 또는 부압으로(subatmospheric) 유지되고, 동시에 불활성 가스, 바람직하게는 헬륨이 컨테이너 내부로 연속적으로 공급된다. 컨테이너 내부의 불활성 가스 함량 또는 헬륨 함량이 50 내지 95 체적 %, 특히 55 내지 90 체적 %가 되도록 배기 및/또는 불활성 가스 또는 헬륨의 도입이 수행된다.

25. 发明专利

JP2018037091A プロセスチャンバに結合された流量コントローラをモニタする方法审中-公开
公开(公告)号：JP2018037091A
公开(公告)日：2018-03-08
申请号：JP2017199297
申请日：2017-10-13
申请人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド , APPLIED MATERIALS,INCORPORATED
发明人：モハメド, バラレイブエヌ. , レイン, ジョンダブリュ. , グレーゴール, マリウス , ヒーリー, ダンジョセフ
IPC分类号： G05D7/06
CPC分类号： G05D7/0623 , G01F25/0053 , Y10T137/0324
摘要：【課題】流量コントローラのインシトゥ較正のための方法および装置を提供する。【解決手段】ガスを流す方法は、標準ガスを使用することによって決定された計算された第1の関係に基づいて流量の第1の値で第1のガスを供給するように構成された流量コントローラ110Aを用意することと、第1のガスの流量と設定点との間の実際の第1の関係を、流量コントローラの設定点の対応する複数の値で決定された第1のガスの流量の複数の値から決定することであり、流量の複数の値の各々が、設定点の複数の値の対応する値で第1のガスを流量コントローラを通して流すことから決定される、実際の第1の関係を決定することと、実際の第1の関係に基づいて流量の第1の値で第1のガスを流すこととを含む。【選択図】図1

26. 发明专利

JP2017067585A 流量演算装置、流量演算方法および流量制御装置审中-公开
公开(公告)号：JP2017067585A
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：JP2015192770
申请日：2015-09-30
申请人：アズビル株式会社
发明人：大橋智文 , 染谷秀明
IPC分类号： F16K37/00 , G01F1/42
CPC分类号： G05D7/0635 , G01F1/00 , G05B15/02 , G05D7/0623
摘要：【課題】流量の計測精度を高める。高精度な流量制御を実現する。【解決手段】弁体14に結合された弁軸17の回転位置から検出される弁体の弁開度θpvを弁開度実測値とし、弁体14の1次側の流体の圧力P1と2次側の流体の圧力P2との圧力差として検出される弁体の前後差圧ΔPを差圧検出値とし、この弁開度実測値θpvと差圧検出値ΔPとからその時の弁軸17のねじれ量に対応する補正値αを求め、この補正値αを用いて弁開度実測値θpvを補正し、補正された弁開度θpv’と差圧検出値ΔPとに基づいて管路13を流れる流体の流量を算出する。この算出された流体の流量を計測流量Qpvとし、計測流量Qpvが設定流量Qspに一致するように、弁軸17の回転量を制御する。【選択図】図2

27. 发明专利

JP5727596B2 流量モニタ付圧力式流量制御装置の実ガスモニタ流量初期値のメモリ方法及び実ガスモニタ流量の出力確認方法有权
标题翻译：存储器的方法和流量监测的压力式流量控制装置中的实际气体监测器流量的初始值的实际气体监测器流量输出确认方法
公开(公告)号：JP5727596B2
公开(公告)日：2015-06-03
申请号：JP2013513905
申请日：2012-04-05
申请人：株式会社フジキン
发明人：平田薫 , 杉田勝幸 , 土肥亮介 , 西野功ニ , 池田信一
IPC分类号： G05D7/06
CPC分类号： G05D7/0623 , G01F1/36 , G01F1/363 , G01F1/50 , G01F1/6842 , G01F1/6965 , G01F15/005 , G01F25/0007 , G01F5/00 , G05D7/0617 , G05D7/0635 , Y10T137/0368 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761

28. 发明专利

JP2012033150A Mass flow controller, mass flow controller system, substrate processing apparatus and gas flow rate adjustment method 审中-公开
标题翻译：质量流量控制器，质量流量控制系统，基板处理装置和气体流量调整方法
公开(公告)号：JP2012033150A
公开(公告)日：2012-02-16
申请号：JP2011122390
申请日：2011-05-31
申请人： Toshiba Corp , 株式会社東芝
发明人： ETO HIDEO , SAITO MAKOTO , NISHIYAMA NOBUYASU
IPC分类号： G05D7/06 , H01L21/3065
CPC分类号： G05D7/0623 , Y10T137/0368 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/87314 , Y10T137/87322
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mass flow controller capable of changing a gas flow rate more quickly than conventional ones.SOLUTION: According to the embodiment, a mass flow controller 100 includes a gas passage composing member 110, a flow rate adjustment part 130, a displacement magnitude storage part 144 and a setting circuit 145. The flow rate adjustment 130 has a valve 131 arranged in a gas passage 113 for adjusting a gas flow rate and an actuator 133 for controlling the displacement magnitude of the valve 131. The displacement magnitude storage part 144 stores information of the displacement magnitudes of the valve 131 calculated for every processing procedure before performing any processing procedure, which shows its displacement magnitude when allowing gas of a flow rate regulated by the processing procedure to flow into the gas passage 113. The setting circuit 145 obtains the displacement magnitude corresponding to the processing procedure from the displacement magnitude storage part 144 to control the actuator 133 based on the displacement magnitude obtained.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够比常规气体流量更快地改变气体流量的质量流量控制器。解决方案：根据实施例，质量流量控制器100包括气体通道组成部件110，流量调节部分130，位移量存储部分144和设置电路145.流量调节器130具有阀 131设置在用于调节气体流量的气体通道113中，以及用于控制阀131的位移大小的致动器133.位移大小存储部144存储在执行之前针对每个处理过程计算的阀131的位移量值的信息其显示当允许由处理程序调节的流量的气体流入气体通道113时的位移量的设置。设定电路145从位移大小存储部分144获得对应于处理程序的位移量，基于获得的位移大小来控制致动器133。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

29. 发明专利

JP2009534756A Fluid specific amount of the flow control device delivery 审中-公开
公开(公告)号：JP2009534756A
公开(公告)日：2009-09-24
申请号：JP2009506745
申请日：2007-04-18
申请人：アドバンスドエナジーインダストリーズ, インコーポレイテッド
发明人：アレクセイスミルノフ， , マイケルジェイ．ゾロック， , マイクマクドナルド， , ブライアンリー，
IPC分类号： G05D7/00
CPC分类号： G05D7/0635 , G05D7/0623 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要：流体送達プロファイルに基づいて流れ制御器を使用することにより、流体の特定量を送達するためのシステムおよび方法を説明する。一実施形態は、送達時間ウィンドウ内の時間における特定の瞬間とそれぞれ対応する複数の設定値を有する、送達時間ウィンドウを含む流体送達プロファイルを含む。この方法はまた、流れ制御器と、流れセンサからのフィードバック信号とを使用して、可変弁を介して流体送達プロファイルに従って流体を送達するステップを含む。

30. 发明专利

JP4195837B2 Gas shunt supply device and gas diverted supply method 有权
公开(公告)号：JP4195837B2
公开(公告)日：2008-12-17
申请号：JP2003177134
申请日：2003-06-20
申请人：東京エレクトロン株式会社 , 株式会社フジキン
发明人：豊己上野山 , 亮介土肥 , 一彦杉山 , 信一池田 , 功二西野
IPC分类号： F17D1/04 , G05D7/06 , H01L21/02 , H01L21/31
CPC分类号： G05D7/00 , G05D7/0623 , G05D7/0652 , G05D7/0658 , G05D7/0664 , G05D11/132 , Y10T137/0379 , Y10T137/0396 , Y10T137/2521 , Y10T137/2529 , Y10T137/2562 , Y10T137/263 , Y10T137/2663 , Y10T137/7761 , Y10T137/8175
摘要： The present invention is for supplying a specified quantity Q of processing gas while dividing at a desired flow rate ratio Q 1 /Q 2 accurately and quickly from a gas supply facility equipped with a flow controller into a chamber. With the present invention, a total quantity Q=Q 1 +Q 2 of gas while dividing is supplied into a chamber C at a desired flow rate Q 1 and Q 2 through shower plates 3 and 4 fixed to the ends of branch supply lines GL 1 and GL 2 by providing open/close valves OV 1 and OV 2 with a plurality of branch supply lines GL 1 and GL 2 respectively to supply a specified quantity Q of gas G from a gas supply facility 1 equipped with a flow controller QCS into a chamber, and by utilizing a bypass line BL 1 on the downstream side of the afore-mentioned open/close valve OV 1 and branched from GL 1 , a bypass line BL 2 on the downstream side of the open/close valve OV 2 and branched from GL 2 , a pressure type division quantity controller FV connected to the bypass line BL 1 and the bypass line BL 2 , a pressure sensor PS 1 to measure pressure inside the branch supply line GL 1 , and a pressure sensor PS 2 to measure pressure inside the branch supply line GL 2 .

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