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    • 29. 发明专利
    • 薄膜の成膜装置及び成膜方法
    • 膜形成薄膜的设备和成膜方法
    • JPWO2014103677A1
    • 2017-01-12
    • JP2014554284
    • 2013-12-09
    • 麒麟麦酒株式会社
    • 弘幸 大島弘幸 大島藤本 圭一圭一 藤本博康 田渕博康 田渕中谷 正樹正樹 中谷
    • C23C16/54B65D23/02C23C16/44
    • C23C16/045B65D23/02C23C16/4581C23C16/46C23C16/54
    • 本発明は、ペットボトル等の容器の内面、外面のいずれか一方、または両方にDLC(Diamond Like Carbon)膜等のガスバリア性の高い薄膜を成膜する成膜装置を提供する。成膜装置は、内部が真空に保たれ、内部に配置された発熱体を用いて複数の容器の成膜を行う成膜チャンバ(6)と、成膜チャンバ(6)に連通し、内部が真空引きされる少なくとも1つのゲートチャンバ(2),(4),(8),(10)と、ゲートチャンバ(2),(4),(8),(10)を経由して複数の容器を保持した取扱容器(56)を成膜チャンバ(6)に搬入し、成膜チャンバ(6)から搬出する搬送機構(41)〜(45)とを備え、成膜チャンバ(6)での成膜は、複数の容器が取扱容器(56)に保持された状態で行われる。
    • 本发明中,容器如PET瓶的内表面,而一个的外表面的,或用于形成DLC(类金刚石碳)阻气性高的薄膜提供一种成膜装置,诸如薄膜两者。 薄膜形成装置中,内部保持真空,利用布置在所述沉积室(6)内形成多个容器中的膜的加热元件,它与所述沉积腔室(6),内部连通 至少一个栅极室抽真空(2),(4),(8),和(10),栅极室(2),(4),(8),经由多个容器(10) 运送到沉积室(6)的处理容器(56)保持的输送机构用于从膜形成卸载室(6)(41)至(45),形成在所述成膜室(6) 膜在其中的多个容器中的处理容器(56)被保持的状态下进行。
    • 30. 发明专利
    • 複合発熱体並びにそれを用いた薄膜を備える成形体の製造方法及び発熱体CVD装置
    • 复合加热元件,以及在生产过程的成形,并且包括使用该方法的薄膜加热元件CVD系统
    • JPWO2013168747A1
    • 2016-01-07
    • JP2014514736
    • 2013-05-08
    • 麒麟麦酒株式会社
    • 博康 田渕博康 田渕栄太朗 松井栄太朗 松井中谷 正樹正樹 中谷
    • C23C16/44
    • C23C16/44C23C16/045C23C16/401
    • 本発明の目的は、発熱体の表層で炭化反応が起こっても、所定の温度まで確実に発熱して、触媒活性を発揮できる耐久性が向上した複合発熱体を提供することである。また、本発明の目的は、炭素を含有する原料ガスを用いた発熱体CVD法で長期間、安定して各成形体の表面に成膜を行うことが可能な、薄膜を備える成形体の製造方法及び発熱体CVD装置を提供することである。本発明に係る複合発熱体1Aは、炭素、レニウム、イリジウム、ロジウム、炭化珪素又は二珪化モリブデンのいずれかを主成分とする線状の抵抗発熱体2Aと、抵抗発熱体2Aの外表面に配置した原料ガス接触部3Aと、を備え、原料ガス接触部3Aが、発熱体CVD法の原料ガスを分解する分解部である。
    • 本发明的目的,甚至碳化反应发生在加热元件的表面层,并且可靠地加热到预定的温度,耐用性和催化活性可以表现出是提供改进的复合加热元件。 本发明的另一个目的,生产使用含有碳的原料气体,能够将每个模制产品的表面上稳定地形成膜的具有在发热体CVD法很长一段时间的模制品,薄膜 它是提供一种方法和加热元件的CVD系统。 根据本发明,碳,铼,铱,铑的布置,和线性电阻加热元件2A主要由任一碳化硅或二硅化钼,所述电阻加热元件2A的外表面的复合热发生器1A 设置有原料气体接触部分3A具有,一个原料气体接触部分3A是一个分解部分分解的原材料气体的发热体CVD法。