专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

21. 发明专利

JP2020066755A 下地膜形成装置、成膜装置、下地膜形成方法、及び成膜方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020066755A
公开(公告)日：2020-04-30
申请号：JP2018198616
申请日：2018-10-22
申请人：キヤノントッキ株式会社
发明人：水野彰
IPC分类号： C23C14/54 , C23C14/24
摘要：【課題】成膜レートの安定した検知を可能にする技術を提供する。【解決手段】チャンバ200内に配置され、蒸発源容器301から蒸発した成膜材料400によって下地膜が形成される第1の水晶振動子13と、チャンバ200内に配置され、下地膜の成膜レートを取得するために用いられる第2の水晶振動子13cと、第2の水晶振動子13cの共振周波数の変化に基づいて、下地膜の成膜レートを取得する取得部233と、蒸発源容器301を加熱する加熱源302を有し、加熱源302へ供給する電力を制御する加熱制御部22であって、取得部233が取得する下地膜の成膜レートに基づいて、加熱源302へ供給する電力を制御する加熱制御部22と、を備える。【選択図】図1

22. 发明专利

JP2020050953A 吸着装置、成膜装置、吸着方法、成膜方法及び電子デバイスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020050953A
公开(公告)日：2020-04-02
申请号：JP2019172226
申请日：2019-09-20
申请人：キヤノントッキ株式会社
发明人：柏倉一史 , 石井博 , 神野紘隆
IPC分类号： C23C14/04 , H01L51/50 , H05B33/10 , H01L21/683 , C23C14/50
摘要：【課題】被吸着体を良好に静電チャックに吸着すること。【解決手段】本発明の吸着装置は、被吸着体を支持するための被吸着体支持ユニットと、前記被吸着体支持ユニットに対向するように設置されて、前記被吸着体を吸着するための静電チャックと、前記被吸着体支持ユニットと前記静電チャックとの距離を調整するための距離調整手段と、前記静電チャックへの電圧印加、及び前記距離調整手段による前記被吸着体支持ユニットと前記静電チャックとの距離の調整を制御するための制御部とを含み、前記制御部は、前記静電チャックと前記被吸着体支持ユニットとの間の距離が所定の間隔になるように、前記距離調整手段を制御し、前記被吸着体支持ユニットと前記静電チャックとが前記所定の間隔に離隔された状態で、前記被吸着体支持ユニットによって支持された被吸着体を前記静電チャックに向かう方向に吸引するための電圧が前記静電チャックに印加されるように制御する。【選択図】図5

23. 发明专利

JP2020023737A 成膜レートモニタ装置及び成膜装置审中-公开
公开(公告)号：JP2020023737A
公开(公告)日：2020-02-13
申请号：JP2018149341
申请日：2018-08-08
申请人：キヤノントッキ株式会社
发明人：住谷利治
IPC分类号： C23C14/54 , G01B21/08 , C23C14/24
摘要：【課題】装置の長寿命化を図りつつ製造タクトの向上を図ることができる成膜レートモニタ装置を提供する。【解決手段】水晶振動子13に蒸発源300から昇華又は気化された成膜材料400を付着させたときの水晶振動子13aの共振周波数の変化に基づいて成膜対象物100に対する成膜材料400の成膜レートを検知する成膜レートモニタ装置であって、蒸発源300と水晶振動子13との間に遮蔽部12bが位置する遮蔽状態と、蒸発源300と水晶振動子13との間に開口部12aが位置する非遮蔽状態と、を取り得るように回転する遮蔽部材12を備え、所定の期間において非遮蔽状態となる期間が第1の長さとなるように遮蔽部材12を回転させる第1遮蔽モードと、所定の期間において非遮蔽状態となる期間が第1の長さよりも長い第2の長さとなるように遮蔽部材12を回転させる第2遮蔽モードと、を有することを特徴とする。【選択図】図4

24. 发明专利

JP2020019991A 成膜装置及び電子デバイスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020019991A
公开(公告)日：2020-02-06
申请号：JP2018143735
申请日：2018-07-31
申请人：キヤノントッキ株式会社
发明人：菅原洋紀 , 内田敏治
IPC分类号： C23C14/54 , H01L51/50 , H05B33/10 , C23C14/35
摘要：【課題】ターゲット材料の利用率を向上させることができる技術を提供する。【解決手段】成膜対象物10およびターゲット30が配置されるチャンバ2と、チャンバ2内の、ターゲット30を介して成膜対象物10と対向する位置に配置される磁場発生手段31と、を備えた成膜装置1であって、配置されるターゲット30の長手方向に並んで配置された複数の導電部材4A、4Bと、複数の導電部材4A、4Bのうちの少なくとも2つの導電部材の電位が異なるように、複数の導電部材4A、4Bの少なくとも1つに電位を印加する電位印加手段26A、26Bと、を有することを特徴とする。【選択図】図1

25. 发明专利

JP2020019990A 成膜装置、および、電子デバイスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020019990A
公开(公告)日：2020-02-06
申请号：JP2018143588
申请日：2018-07-31
申请人：キヤノントッキ株式会社
发明人：菅原洋紀 , 内田敏治
IPC分类号： C23C14/00 , H05H1/46 , C23C14/34
摘要：【課題】プリスパッタを生産性良く、簡便に行うことができる成膜装置および電子デバイスの製造方法を提供する。【解決手段】成膜装置1は、成膜対象物6および円筒形のターゲット2が内部に配置されるチャンバ10と、ターゲット2の内部に設けられ、ターゲット2の外周面から漏洩する磁場を生成する磁場発生手段3と、ターゲット2を回転駆動するターゲット駆動手段11と、を備える。成膜装置1は、磁場発生手段3とターゲット2の内周面との間に移動可能に設けられる磁気遮蔽部材5と、磁気遮蔽部材5を駆動する遮蔽部材駆動手段12と、を有する。【選択図】図1

26. 发明专利

JP6641242B2 蒸着装置及び蒸発源有权
公开(公告)号：JP6641242B2
公开(公告)日：2020-02-05
申请号：JP2016133685
申请日：2016-07-05
申请人：キヤノントッキ株式会社
发明人：田村博之
IPC分类号： C23C14/24

27. 发明专利

JP2020002458A 成膜装置、有機デバイスの製造装置および有機デバイスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2020002458A
公开(公告)日：2020-01-09
申请号：JP2018221513
申请日：2018-11-27
申请人：キヤノントッキ株式会社
发明人：有坂卓也
IPC分类号： C23C14/06 , H01L51/50 , H05B33/26 , H05B33/10 , H05B33/02 , C23C14/56
摘要：【課題】機能層が露出したまま滞留する基板の数を減らし、歩留まりの低下を抑制できる成膜装置、有機デバイスの製造装置および有機デバイスの製造方法を提供する【解決手段】本発明は、基板を搬送手段により順次搬送しながら、前記基板上に有機物からなる層と無機物からなる層を成膜する成膜装置であって、前記基板上に有機物からなる層を形成する第1成膜室と、前記第1成膜室より前記基板の搬送経路の下流側に配置され、前記基板上に無機物からなる層を形成する第2成膜室と、前記第2成膜室より前記基板の搬送経路の下流側に配置され、前記基板を一時的に滞留させる滞留室とを備えることを特徴とする。【選択図】図2

28. 发明专利

JP6627181B1 蒸発源及び蒸着装置有权
公开(公告)号：JP6627181B1
公开(公告)日：2020-01-08
申请号：JP2018144097
申请日：2018-07-31
申请人：キヤノントッキ株式会社
发明人：藤中幸治
IPC分类号： C23C14/24
摘要：【課題】第1線状部材と第2線状部材とが絡まってしまったり、これらと回転台との接続部に支障を来してしまったりすることを抑制する。【解決手段】チャンバの底板11に形成された取付孔11aの位置に固定される固定台110と、固定台110に対して回転可能に設けられる回転台120と、回転台120に備えられる複数の蒸発源ユニット150と、貫通孔210を通るように設けられる複数の第1配管L11が接続される複数の第1接続部160と、貫通孔210を通るように設けられる複数の第1配線L21が接続される複数の第2接続部170と、を備える蒸発源100であって、複数の第1接続部160は、複数の第2接続部170よりも、回転台120の回転中心側に偏った位置であって、かつ、鉛直方向上方に設けられると共に、複数の第1配管L11と複数の第2接続部170との間を仕切るガイド部材180が備えられている。【選択図】図4

29. 发明专利

JP6605657B1 成膜装置、成膜方法及び電子デバイスの製造方法有权
公开(公告)号：JP6605657B1
公开(公告)日：2019-11-13
申请号：JP2018099463
申请日：2018-05-24
申请人：キヤノントッキ株式会社
发明人：阿部可子 , 菅原洋紀
IPC分类号： C23C14/12 , H01L51/50 , H05B33/10 , H05B33/04 , H01L21/677 , C23C14/56
摘要：【課題】成膜装置の成膜処理における生産性の向上を図ることができる技術を提供する。【解決手段】真空に維持される基板搬送室12と、基板10を搬入及び搬出するための搬入出口22a、22bを有する第1真空成膜室20a、20bと、基板10を搬入するための搬入口32と、基板10を搬出するための搬出口34と、を別々に有する第2真空成膜室30と、を備え、第1真空成膜室20a、20bは、搬入出口22a、22bを介して基板搬送室12との間で基板10が搬入及び搬出され、第2真空成膜室30は、搬入口32を介して基板搬送室12から基板10が搬入され、搬入口10を介して基板搬送室12へ基板10が搬出されないことを特徴とする。【選択図】図1

30. 发明专利

JP2019192898A 基板搬送システム、電子デバイスの製造装置及び電子デバイスの製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019192898A
公开(公告)日：2019-10-31
申请号：JP2018221949
申请日：2018-11-28
申请人：キヤノントッキ株式会社
发明人：佐藤功康
IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/50 , C23C16/54 , C23C16/44 , H01L21/677 , H05B33/10 , H01L51/50 , H01L21/68
摘要：【課題】基板の搬送精度を向上する。【解決手段】本発明の基板搬送システムは、第1装置から中継装置に基板が搬送され、前記中継装置から第2装置に基板が搬送される基板搬送システムであって、前記中継装置は、容器と、前記容器内に設けられた、基板を載置するための基板ステージと、前記基板ステージを移動させるための基板ステージ駆動機構とを含み、前記基板搬送システムは、前記中継装置と、前記容器に対する基板の位置を示す基板位置情報を取得する位置情報取得手段と、前記基板位置情報に基づいて、前記基板ステージ駆動機構を制御するための制御手段とを含む。【選択図】図6

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式