专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

11. 发明专利

JPWO2018164087A1 パターン描画装置、及びパターン露光装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2018164087A1
公开(公告)日：2020-01-09
申请号：JP2018008450
申请日：2018-03-06
申请人：株式会社ニコン
发明人：加藤正紀 , 中山修一
IPC分类号： G03F7/24
摘要：光源装置(LS)からのビーム(LB)を基板(P)上で走査する複数の描画ユニット(Un)が所定の配置関係で設けられ、描画ユニット(Un)の各々によって基板(P)にパターンを描画するパターン描画装置は、光源装置(LS)からのビームを複数の描画ユニット(Un)のいずれか1つに選択的に供給するために、光源装置(LS)からのビーム(LB)を順番に通すように配置され、電気的な制御によってビーム(LB)を回折させた主回折ビーム(LBn)を描画ユニット(Un)に向けるための複数の選択用光学部材(OSn)と、複数の選択用光学部材(OSn)のうちビーム(LB)の光路に沿った前段の選択用光学部材(OS1)と後段の選択用光学部材(OS2)とを共役関係にするリレー光学系(Ga、Gb)と、主回折ビーム(LBn)に対して角度をもって前段の選択用光学部材(OS1)から発生する副回折ビーム(LBn’)が後段の選択用光学部材(OS2)に入射することを阻止する阻止光学部材(IMn’)とを備える。

12. 发明专利

JP6621961B2 平版印刷版の作製方法有权
公开(公告)号：JP6621961B2
公开(公告)日：2019-12-18
申请号：JP2019502478
申请日：2017-12-26
申请人：富士フイルム株式会社
发明人：割石幸司 , 會津康平
IPC分类号： G03F7/00 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/20 , G03F7/24 , G03F7/32

13. 发明专利

JPWO2018150996A1 パターン描画装置、及びパターン描画方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2018150996A1
公开(公告)日：2019-12-12
申请号：JP2018004334
申请日：2018-02-08
申请人：株式会社ニコン
发明人：鈴木智也 , 石垣雄大
IPC分类号： G03F7/24 , G03F7/20
摘要：パターン描画方法は、パターンに応じてオン又はオフに変調される描画ビーム(LBn)をポリゴンミラー(PM)によって基板(P)上で主走査方向に走査しつつ、副走査方向に基板(P)を移動させて、基板(P)上にパターンを描画する。パターン描画方法は、ポリゴンミラー(PM)に入射する前の描画ビーム(LBn)を受光する光電センサ(SM1d)から描画ビーム(LBn)のオン状態での強度に対応して出力される光電信号(SS1)を、描画ビーム(LBn)が少なくとも主走査方向に1回走査される間に積算した実積分値(FXn)を計測する。そして、描画ビーム(LBn)がオン状態のときに設定されるべき適正強度と主走査方向に並ぶ全画素数中のオン状態の画素数との積に応じて予め定まる目標積分値と実積分値(FXn)との差に基づいて、描画ビーム(LBn)のオン状態での強度を調整する。

14. 发明专利

JP2019164380A パターン形成装置审中-公开
公开(公告)号：JP2019164380A
公开(公告)日：2019-09-26
申请号：JP2019107624
申请日：2019-06-10
申请人：株式会社ニコン
发明人：堀正和 , 鬼頭義昭 , 倉重貴広
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/677 , H05K3/00 , G03F7/24
摘要：【解決手段】パターン形成装置は、回転ドラムの外周面で支持された基板の部分領域に、電子デバイス用のパターンを形成するための設計情報に基づいてエネルギービームを投射する処理ユニットと、電子デバイス用のパターンを基板の長尺方向に複数のブロックに分割したとき、予め想定される部分領域の複数の変形形態に応じて、ブロック内に露光されるパターンを変形させるための複数の補正データを記憶する補正データ記憶部と、シート基板上に形成された複数のマークの配置状態に関する情報を検出するためのマーク検出部と、エネルギービームをシート基板に投射する際、ブロック毎に、補正データ記憶部に記憶された複数の補正データの中から配置状態に関する情報に応じた補正データを選択し、選択した補正データを用いてブロック内に形成すべきパターンが設計情報に対応した形状から変形されるように処理ユニットを制御する制御ユニットと、を備える。【選択図】図8

15. 发明专利

JP2019144596A 円筒状マスクユニット审中-公开
公开(公告)号：JP2019144596A
公开(公告)日：2019-08-29
申请号：JP2019096890
申请日：2019-05-23
申请人：株式会社ニコン
发明人：鈴木智也 , 小宮山弘樹
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/68 , G03F7/24
摘要：【課題】マスクと基板とを高精度に同期駆動可能な円筒状マスクユニットを提供する。【解決手段】所定の回転軸線から一定半径の外周面に沿って透過型のマスクパターンが形成された円筒状の回転マスクの内側に回転軸線の方向に延設されて、回転マスクを回転軸線の回りに回転可能に支持する内筒と、内筒の回転軸線の方向の両端部の各々に、回転軸線と直交した方向に延びて設けられ、先端部に回転ドラムに湾曲して支持された基板の表面の半径とほぼ同じ半径で円弧状に切り欠けられた保持部と、保持部に円弧状に設けられてエアを噴出するエアパッドとが形成された一対の第1のフランジ部と、を備え、回転ドラムに湾曲して支持された基板の表面に一対の第1のフランジ部の各々のエアパッドを対向させることにより、回転マスクの回転軸線を回転ドラムの第1の軸線とほぼ平行に配置する。【選択図】図1

16. 发明专利

JP6540406B2 ビーム走査装置並びにパターン描画装置有权
公开(公告)号：JP6540406B2
公开(公告)日：2019-07-10
申请号：JP2015179372
申请日：2015-09-11
申请人：株式会社ニコン
发明人：鈴木智也 , 加藤正紀 , 小宮山弘樹
IPC分类号： G02B26/12 , G03F7/24 , G02B7/00 , G03F7/20

17. 发明专利

JP6520590B2 パターン描画装置およびパターン描画方法有权
公开(公告)号：JP6520590B2
公开(公告)日：2019-05-29
申请号：JP2015179367
申请日：2015-09-11
申请人：株式会社ニコン
发明人：加藤正紀
IPC分类号： G02B26/12 , G03F7/24 , G03F7/20

18. 发明专利

JP2019061279A 基板処理装置及びデバイス製造方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019061279A
公开(公告)日：2019-04-18
申请号：JP2018237782
申请日：2018-12-19
申请人：株式会社ニコン
发明人：鈴木智也
IPC分类号： G03F7/20 , H05K3/00 , G03F7/24
摘要：【課題】基板の伸縮を抑制し、処理の精度を向上させる基板処理装置及びデバイス製造方法を提供する。【解決手段】基板処理装置は、進入位置と離脱位置との間の特定位置で、回転ドラムの外周面に支持された前記基板の表面に所定の処理を施す処理装置と、回転ドラムの外周面を第1の温度に調整する第1の温度調節装置と、基板の搬送方向に関して進入位置の上流側に位置する基板を、第1の温度と異なる第2の温度に調整する第2の温度調節装置と、第1の温度と第2の温度とが、特定位置における基板の伸縮状態を安定させるような所定の温度差を持つように、第1の温度調節装置又は第2の温度調節装置を制御する制御装置と、を備える。【選択図】図2

19. 发明专利

JP6493595B2 走査露光装置、及びデバイス製造方法有权
公开(公告)号：JP6493595B2
公开(公告)日：2019-04-03
申请号：JP2018078902
申请日：2018-04-17
申请人：株式会社ニコン
发明人：小松宏一郎
IPC分类号： G03F7/20 , G02B13/26 , G02B13/00 , G02B13/18 , G03F7/24

20. 发明专利

JPWO2017199658A1 基板支持装置、露光装置、および、パターニング装置审中-公开
公开(公告)号：JPWO2017199658A1
公开(公告)日：2019-03-14
申请号：JP2017015416
申请日：2017-04-17
申请人：株式会社ニコン
发明人：加藤正紀 , 鬼頭義昭 , 堀正和 , 木内徹 , 倉重貴広
IPC分类号： G03F7/24 , H01L21/68 , G03F7/20
摘要：可撓性を有する長尺のシート基板(P)の一部分を、円筒状の外周面の周方向に沿って巻き付けて支持する回転ドラム(DR)であって、中心軸(AXo)から一定の半径の円筒状の外周面を有する円筒体(50)と、円筒体(50)の外周面に向けて投射されて、円筒体(50)の外周面の一部に形成された開口部(501)に入射したビーム(LBn)の強度に対応した信号を出力する光電センサ(PD1〜3)と、光電センサ(PD1〜3)からの信号を入力して、ビーム(LBn)の強度変化或いはビーム位置を計測するための信号処理を行うセンサ回路基板(60)と、を備える。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式