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11. 发明专利

JP2015131259A 排液処理装置および排液処理方法有权
标题翻译：排水处理设备和排水处理方法
公开(公告)号：JP2015131259A
公开(公告)日：2015-07-23
申请号：JP2014003128
申请日：2014-01-10
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：瀧昭彦 , 池田昌秀 , 秀浦伸二
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/027 , C02F1/04 , C02F1/02
摘要：【課題】 SPMの排液を正確に温度制御することにより、排液を効率的に処理することが可能な排液処理装置および排液処理方法を提供する。【解決手段】基板処理装置2の各処理ユニット11からの排液が第1タンク21または第2タンク22に排出される貯留モード(第1モード)においては、第1タンク21または第2タンク22内の排液を摂氏125度となるように温度制御する。そして、各処理ユニット11からの排液が第1タンク21または第2タンク22には排出されない分解モード(第2モード)となった時点で、第1タンク21または第2タンク22内の排液を摂氏150度となるように温度制御する。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供排水处理装置和排水处理方法，能够通过对排水进行精确的温度控制来有效地处理SPM排水。解决方案：在储层模式（第一模式）中，将基板处理装置2的处理单元11排出到第一罐21或第二罐22，将第一罐21或第二罐22中的排水温度控制在125℃。当处于从处理单元11排出的排水未被排出到第一箱21或第二箱22的分解模式（第二模式）时，第一箱21中的排水温度罐22被控制在150摄氏度。

12. 发明专利

JP6674679B2 基板保持回転装置およびそれを備えた基板処理装置、ならびに基板処理方法有权
公开(公告)号：JP6674679B2
公开(公告)日：2020-04-01
申请号：JP2016030154
申请日：2016-02-19
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：蒲裕充 , 瀧昭彦
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/683

13. 发明专利

JP2017147408A 基板処理装置および基板処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017147408A
公开(公告)日：2017-08-24
申请号：JP2016030153
申请日：2016-02-19
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：蒲裕充 , 瀧昭彦 , 岩田智巳 , 江戸徹 , 山田邦夫
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/02052 , B08B1/04 , B08B11/02 , B08B3/08 , B08B7/04 , H01L21/6704
摘要：【課題】基板の回転処理中において、支持ピンで基板の周縁部を接触支持しながら、基板の周縁部における接触支持位置を周方向にずらすことができ、これにより、基板の周縁部を処理残りなく良好に処理できる基板処理装置および基板処理方法を提供する。【解決手段】スピンチャック5は、基板Wを水平に支持するための複数本の可動ピン110と、各可動ピン110に対応して設けられた駆動用永久磁石156A,156Aと、駆動用永久磁石156A,156Aとの間に吸引磁力または反発磁力を与えるような磁極を有する開閉切換え永久磁石121,122と、駆動用永久磁石156A,156Aとの間に、各可動ピン110の上軸部を開放位置に向けて付勢するための吸引磁力または反発磁力を与えるような磁極を有する磁力発生用磁石125,126とを含む。【選択図】図2

14. 发明专利

JP2017069532A 基板保持回転装置およびそれを備えた基板処理装置、ならびに基板処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2017069532A
公开(公告)日：2017-04-06
申请号：JP2016030155
申请日：2016-02-19
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：蒲裕充 , 瀧昭彦
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/683
摘要：【課題】基板の周縁部を、処理残りなく良好に処理できる基板処理装置および基板処理方法を提供すること。【解決手段】非回転状態で設けられた開放永久磁石は、回転台107の回転に伴って回転する各可動ピンが通過可能な所定の磁界発生領域129であって回転台の回転方向に関して偏ってかつ6本の可動ピン110のうち3本の可動ピン110に対応する駆動用永久磁石156のみしか通過できないように設けられた磁界発生領域129を形成する。磁界発生領域129を通過する可動ピン110の駆動用磁石156に吸引力を与えることにより、閉塞用磁石125によって保持位置に付勢されている可動ピン110に当該付勢力に抗って開放位置に向わせる力を生じさせる。【選択図】図9A−9B

15. 发明专利

JP6076101B2 基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6076101B2
公开(公告)日：2017-02-08
申请号：JP2013008177
申请日：2013-01-21
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：瀧昭彦
IPC分类号： H01L21/304

16. 发明专利

JP5782317B2 基板処理装置有权
公开(公告)号：JP5782317B2
公开(公告)日：2015-09-24
申请号：JP2011154020
申请日：2011-07-12
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：浦田真吾 , 瀧昭彦 , 辻川裕貴 , 藤田恵理 , 藤谷佳礼
IPC分类号： H01L21/304 , B08B3/08 , B08B3/02 , H01L21/027
CPC分类号： H01L21/31133 , H01L21/6708

17. 发明专利

JP6803737B2 基板処理方法および基板処理装置有权
公开(公告)号：JP6803737B2
公开(公告)日：2020-12-23
申请号：JP2016237804
申请日：2016-12-07
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：藤田和宏 , 三浦淳靖 , 辻川裕貴 , 土橋裕也 , 瀧昭彦
IPC分类号： H01L21/306

18. 发明专利

JP2019169642A 基板処理装置用のピトー管式流量計、基板処理装置、および基板処理方法审中-公开
公开(公告)号：JP2019169642A
公开(公告)日：2019-10-03
申请号：JP2018057253
申请日：2018-03-23
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：瀧昭彦 , 下村辰美
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306
摘要：【課題】長期にわたって安定した精度で排気の流量を測定できる基板処理装置用のピトー管式流量計、基板処理装置、および基板処理方法を提供する。【解決手段】基板処理装置は、基板を処理する薬品を基板に供給する処理ユニットと、薬品を含む排気が通過する排気通路と、排気通路に配置されており、薬品を含む排気の流量を測定するピトー管式流量計46とを備えている。ピトー管式流量計46は、薬品を含む排気が通過する筒状のケーシング51と、排気に接する測定孔56が開口した外周面を含み、ケーシング51内に配置されたピトー管55と、ピトー管55に供給される洗浄液を案内する洗浄液配管62とを含む。【選択図】図7

19. 发明专利

JP2018093147A 基板処理方法および基板処理装置审中-公开
公开(公告)号：JP2018093147A
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：JP2016237804
申请日：2016-12-07
申请人：株式会社SCREENホールディングス
发明人：藤田和宏 , 三浦淳靖 , 辻川裕貴 , 土橋裕也 , 瀧昭彦
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/6708 , B08B3/10 , H01L21/02041 , H01L21/30604 , H01L21/67017 , H01L21/67023 , H01L21/67028 , H01L21/67075 , H01L21/67109 , H01L21/67248
摘要：【課題】複数の基板に対し均一なエッチング処理を施すことができる基板処理方法および基板処理装置を提供する。【解決手段】基板処理装置は、基板の下面に向けて液体を吐出する下面ノズルと、下面ノズルに液体を供給する共通配管とを含む。基板処理装置では、複数枚の基板Wの各々に対し共通の共通エッチング処理S2が順に施される。各共通エッチング処理S2は、下面ノズルからエッチング液を吐出させるエッチング工程と、エッチング工程の後に、下面ノズルから高温液を吐出する置換工程とを含む。複数枚の基板に対する複数の共通エッチング処理のうち最初の共通エッチング処理の前に、共通配管の管壁を、熱平衡温度まで昇温させる配管昇温工程S1が実行される。各共通エッチング処理S2では、置換工程の後で次回の各エッチング工程の前に共通配管の管壁が降温されない。【選択図】図6

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