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    • 11. 发明专利
    • Optical imprint method
    • 光学印象法
    • JP2006173508A
    • 2006-06-29
    • JP2004366972
    • 2004-12-20
    • Pulsa:KkRisotetsuku Japan Kkリソテック ジャパン株式会社株式会社パルサ
    • SEKIGUCHI ATSUSHIKONO YOSHIYUKIHATTORI KOICHIARASAKI SHIGEO
    • H01L21/027
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an even distribution of residual films in an optical imprint method, developing a method in which no fringe pattern is generated when irradiating UV, etc.
      SOLUTION: This optical imprint method includes the steps of (1) performing a preliminary exposure with such an exposure amount that the degree of cross-linkage of a resist becomes a specified value to the resist applied to a substrate to increase its viscosity, (2) pressing a mold to the resist for embossing, and (3) performing a production exposure so that the degree of cross-linkage becomes more than 0.8, and approximately complete curing takes place, thus performing optical imprint while maintaining resin plasticity.
      COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
    • 要解决的问题:为了在光学压印方法中提供均匀的残留膜分布,开发当照射UV等时不产生条纹图案的方法。解决方案:该光学印记方法包括步骤 (1)以使抗蚀剂的交联度成为规定值的曝光量进行预曝光,使其施加到基板上以增加其粘度,(2)将模具压到抗蚀剂上进行压印 ,和(3)进行生产曝光,使得交联度变得大于0.8,并且几乎完全固化,从而在保持树脂可塑性的同时执行光学印记。 版权所有(C)2006,JPO&NCIPI
    • 14. 发明专利
    • フォトマスクおよびその製造方法
    • 照相机及其制造方法
    • JP2016051024A
    • 2016-04-11
    • JP2014175693
    • 2014-08-29
    • 公立大学法人大阪府立大学リソテック ジャパン株式会社
    • 上田 直樹笹子 勝平井 義彦南 洋一
    • G03F1/26
    • 【課題】近接露光プロセスによって三次元露光を行って焦点深度と解像度を向上させることができるフォトマスクおよびその製造方法を提供すること。 【解決手段】位相調整部を有する透光性基板を備え、 前記位相調整部は、前記透光性基板に形成された複数の溝を有してなり、前記透光性基板に入射した光の位相を調整すると共に、結像位置が異なる複数の光束を前記位相調整部の同一領域から外部へ放出するように構成されており、 前記位相調整部の複数の溝は、前記複数の光束の強度位置分布を複素フーリエ変換して得られた位相分布を重ね合わせかつ前記複数の位相分布の位相を任意のシフト量で変調した位相分布に基づいて形成されていることを特徴とするフォトマスク。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供能够通过接近曝光工艺进行三维曝光以提高聚焦和分辨率的光掩模及其制造方法。解决方案:光掩模包括具有相位的透光基板 调整部分。 相位调整部具有形成在透光基板上的多个槽,调整入射到透光基板的光的相位,并且形成为从同一区域向外部发射具有不同成像位置的多个光束 作为相位调整部。 基于通过对通过对多个光束的强度位置分布执行复数傅里叶变换而获得的相位分布而获得的相位分布形成相位调整部的多个沟槽,并且对多个相位的相位进行调制 分配与任何移动量。选择图:图1
    • 18. 发明专利
    • Qcm device
    • QCM设备
    • JP2007263564A
    • 2007-10-11
    • JP2006067333
    • 2006-03-13
    • Risotetsuku Japan Kkリソテック ジャパン株式会社
    • MINAMI YOICHIISONO MARIKO
    • G01N5/02G03F7/26H01L21/027
    • PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a new QCM device reduced in the drift quantity of resonance frequency and becoming stable rapidly.
      SOLUTION: The QCM device has a QCM substrate, a QCM substrate holder for holding the QCM substrate, the metal block which surrounds the QCM substrate holder and a flow channel which is constituted so that at least part thereof is formed in the metal block and permits a liquid to pass. The liquid, which is passed through the opening formed to the flow channel to be set to the almost same temperature as the block is dripped on the QCM substrate at a position not being a QCM circuit.
      COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT
    • 要解决的问题:提供一种降低谐振频率漂移量并快速变得稳定的新型QCM器件。 解决方案:QCM器件具有QCM衬底,用于保持QCM衬底的QCM衬底保持器,围绕QCM衬底保持器的金属块和构造成使得其至少部分形成在金属中的流动通道 阻止并允许液体通过。 通过形成流路的开口的液体被设定为几乎与块体相同的温度,在不是QCM回路的位置上滴在QCM基板上。 版权所有(C)2008,JPO&INPIT