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111. 发明专利

JP5843779B2 有機EL素子の製造装置有权
标题翻译：制造装置的有机EL装置
公开(公告)号：JP5843779B2
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：JP2012538677
申请日：2011-10-11
申请人：株式会社カネカ
发明人：栗部栄史 , 高橋武良
IPC分类号： H01L51/50 , H05B33/10
CPC分类号： C23C14/568 , H05B33/10

112. 发明专利

JP5814116B2 処理システム及び処理システムを運転する方法有权
标题翻译：操作处理系统的方法和处理系统
公开(公告)号：JP5814116B2
公开(公告)日：2015-11-17
申请号：JP2011515255
申请日：2009-04-07
申请人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド , APPLIED MATERIALS,INCORPORATED
发明人：リンデンベルグラルフ , コパラルエルカン , ベルガートーマス
IPC分类号： C23C14/56 , H01L21/285 , H01L21/02 , H01L21/677
CPC分类号： C23C14/568

113. 发明专利

JP5664814B1 コーティング膜付き切削工具の成膜装置、切削工具用コーティング膜の成膜方法有权
标题翻译：膜上形成涂布膜的装置用切割工具，用于切削工具形成涂膜的方法
公开(公告)号：JP5664814B1
公开(公告)日：2015-02-04
申请号：JP2014129338
申请日：2014-06-24
申请人：三菱マテリアル株式会社
发明人：正雄河村 , 正雄河村 , 俊克須藤 , 俊克須藤 , 淳新保谷 , 淳新保谷
IPC分类号： C23C14/54 , C23C14/56
CPC分类号： C23C14/325 , B23P15/28 , C23C14/022 , C23C14/50 , C23C14/505 , C23C14/541 , C23C14/568
摘要：【課題】適切な温度条件でコーティング膜を形成できるコーティング膜付き切削工具の成膜装置の提供。【解決手段】切削工具Wにコーティング膜を形成する成膜室12、成膜室12に真空弁52,53を介してそれぞれ連結された前処理室11から成膜室12を経由して後処理室13へ切削工具Wを搬送する搬送経路を備え、切削工具Wを支持する複数のロッド82が搬送方向に沿って起立姿勢で配置された搬送キャリア80を用いるインライン式の成膜装置100であって、成膜室12は、切削工具Wにコーティング膜を形成する成膜領域Dと、搬送キャリア80を搬送経路に沿って搬送しつつ成膜領域Dを通過させる搬送装置31と、成膜領域Dに対してキャリア搬送方向に隣り合って配置され切削工具Wを加熱する加熱領域Hと、成膜領域Dと少なくとも一方の真空弁53との間に搬送キャリア80を収容するキャリア待機領域C1と、を備える成膜装置。【選択図】図1
摘要翻译：本发明提供一种膜具有能够在适当温度下形成涂膜的切削工具形成涂膜的装置。的膜用于从通过相应的真空阀52，53连接到成膜室12的后处理前处理室11上形成的涂膜在切削工具W，通过沉积腔室12形成室12 一个输送路径用于输送所述切割工具W搬入腔室13中，满足了成膜线，其中，多个杆82的用于设置输送载体80在沿着输送方向的直立姿势用于支承切削工具W装置100 碲沉积室12包括在切削工具W，用于使该沉积区域D而在传送路径沿输送载体80输送的转印单元31，沉积区域上形成涂层膜的沉积区域D 被布置成邻近所述载体为W至D，载体等候区C1用于容纳真空阀53中的至少一个和所述成膜区域D之间的传输载体80加热该切削工具输送方向的加热面积H 成膜装置包括：a。点域1

114. 发明专利

JP5611027B2 樹脂製品の製造システム有权
标题翻译：树脂产物的生产系统
公开(公告)号：JP5611027B2
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：JP2010288291
申请日：2010-12-24
申请人：小島プレス工業株式会社
发明人：伊藤　薫 , 薫伊藤 , 康行森岡 , 康行森岡 , 宗孝早川 , 宗孝早川 , 隆昭伊藤 , 隆昭伊藤
IPC分类号： B29C69/00
CPC分类号： C23C14/568 , B05B13/0228 , B05B15/0406 , B05D1/002 , B05D5/067 , B05D2201/00 , B29C45/0053 , B29C45/0084 , B29C2045/0079 , C23C14/205

115. 发明专利

JP5506917B2 Thin film deposition apparatus and a thin film deposition system having the same 有权
公开(公告)号：JP5506917B2
公开(公告)日：2014-05-28
申请号：JP2012509732
申请日：2010-05-06
申请人：エスエヌユープレシジョンカンパニーリミテッド
发明人：ギョンビンベ， , ヒョンソクユン， , チャンホカン，
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C14/568 , C23C14/042 , C23C14/50 , C23C14/541

116. 发明专利

JP2014510839A Method for producing a heat absorber for solar thermal collectors 有权
公开(公告)号：JP2014510839A
公开(公告)日：2014-05-01
申请号：JP2013553973
申请日：2011-02-22
申请人：サボ−ソーラーオサケユイチア
发明人：アンドリチュキーマルティン , アー．ピスチョウカイ , マニュエルフェルナンデスレボウタルイス
IPC分类号： C23C14/56 , C23C14/02 , C23C14/06 , F24J2/48
CPC分类号： F24J2/485 , C23C14/022 , C23C14/0641 , C23C14/0676 , C23C14/35 , C23C14/568 , F24J2/487 , Y02E10/40
摘要：本発明は、熱吸収体の基材を減圧コーティングライン上に配置し（１２０）、減圧コーティングライン上に配置した基材上に、光を吸収するよう構成した層を、物理蒸着法によって堆積する（１６０）工程を含む、太陽熱コレクターのための熱吸収体を製造する方法（１００）に関する。

117. 发明专利

JP2014051733A Mask assembly for inspecting vapor deposition environment, vapor deposition installation including the same, and method for inspecting vapor deposition environment using vapor deposition installation 有权
标题翻译：用于检查蒸气沉积环境的掩模组件，包括其的蒸气沉积安装以及使用蒸气沉积安装检查蒸气沉积环境的方法
公开(公告)号：JP2014051733A
公开(公告)日：2014-03-20
申请号：JP2013091080
申请日：2013-04-24
申请人： Samsung Display Co Ltd , 三星ディスプレイ株式會社Samsung Display Co.,Ltd.
发明人： KIM MIN-HO , CHA YOU MIN , PARK SHAKUKAN
IPC分类号： C23C14/24 , H01L21/683
CPC分类号： B05C3/20 , C23C14/042 , C23C14/46 , C23C14/52 , C23C14/542 , C23C14/568
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a mask assembly capable of inspecting a vapor deposition environment for a plurality of vapor deposition sources with one inspection substrate.SOLUTION: A vapor deposition installation comprises: a plurality of vapor deposition sources; a vapor deposition chamber; a mask assembly for inspecting a vapor deposition environment; and a transfer part. The mask assembly for inspecting the vapor deposition environment comprises: a support member; a shutter member; and drive members. The support member has a first opening part through which vapor deposition materials sequentially enter, supports a base substrate on which the deposition materials are vapor-deposited, and moves in a first direction. The shutter member has a second opening part of which an area is smaller than that of the first opening part, and housed in the support member. The drive members change the positions of the second opening part with respect to the base substrate as the support member moves.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种能够利用一个检查基板检查多个气相沉积源的气相沉积环境的掩模组件。解决方案：气相沉积设备包括：多个气相沉积源; 蒸镀室; 用于检查气相沉积环境的掩模组件; 和转印部分。用于检查气相沉积环境的掩模组件包括：支撑构件; 挡板构件; 并驱动成员。支撑构件具有第一开口部分，气相沉积材料通过该第一开口部分顺序进入，支撑沉积材料气相沉积并在第一方向上移动的基底。闸门构件具有第二开口部分，其面积小于第一开口部分的面积，并且容纳在支撑构件中。当支撑构件移动时，驱动构件相对于基底基板改变第二开口部分的位置。

118. 发明专利

JP2014505785A Vapor deposition shadow mask system and a method for manufacturing a bottom plate and a screen of any size 有权
公开(公告)号：JP2014505785A
公开(公告)日：2014-03-06
申请号：JP2013543498
申请日：2011-01-19
申请人：重光潘
发明人：重光潘
IPC分类号： C23C14/04
CPC分类号： C23C16/042 , C23C14/042 , C23C14/562 , C23C14/568
摘要：気相成長システム全体を簡素化し、移動回数を少なくし、成長材料をコントロールする任意サイズの底板とスクリーンを製造する気相成長シャドウマスクシステムとその方法を提供する。本発明の開示する任意サイズの底板とスクリーンを製造する気相成長シャドウマスクシステムとその方法は少なくとも一つの真空室を含み、各真空室内はその中に位置するＭ組のシャドウマスクと成長源を備え、基板はＭ個の基本ユニットを備え、各基本ユニットは一致性をもってＮ個エリアに分割される。伝動装置は、基板又はシャドウマスクを真空室の経路に沿ってフラット移動させるのに用い、Ｎ個の異なる時間の中でＭ組のシャドウマスクをそれぞれＭ個の基本ユニット中の異なるエリアに対応させる。Ｍは１以上の自然数であり、Ｎは２以上の自然数である。よって、気相成長システム全体を簡素化し、移動回数を少なくし、成長材料をコントロールする効果を備える。

119. 发明专利

JPWO2012039383A1 真空処理装置及び有機薄膜形成方法有权
公开(公告)号：JPWO2012039383A1
公开(公告)日：2014-02-03
申请号：JP2012535030
申请日：2011-09-20
申请人：株式会社アルバック
发明人：万里深尾 , 万里深尾 , 功二羽根 , 功二羽根 , 菊地　博 , 博菊地
IPC分类号： H05B33/10 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/56 , H01L51/50
CPC分类号： C23C14/12 , C23C14/042 , C23C14/228 , C23C14/568 , H01L51/0008 , H01L51/56
摘要：装置の使用効率と、有機化合物材料の使用効率とを向上させる。本発明は、複数の有機薄膜形成装置11〜17が直列に接続されており、各有機薄膜形成装置11〜17の内部では、左搬送経路と右搬送経路の二個の経路上に、成膜対象物が配置され、有機化合物蒸気生成装置から供給された有機化合物蒸気が、一方の経路上の成膜対象物に放出されて有機薄膜が形成された後、他方の経路上の成膜対象物への放出が開始される。左右の搬送経路上で、交互に有機薄膜を形成することができるから、装置の使用効率が高く、また、一方の搬送経路で有機薄膜形成を終了する前に、他方の搬送経路で有機薄膜形成の準備を完了しておけば、有機化合物蒸気をトラップに導かずに有機薄膜を交互に形成することができる。

120. 发明专利

JP5364200B2 Thin film deposition apparatus and a thin film deposition method, and a thin film deposition system 有权
公开(公告)号：JP5364200B2
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：JP2012503318
申请日：2010-03-30
申请人：エスエヌユープレシジョンカンパニーリミテッド
发明人：ギョンビンベ， , ヒョンソクユン， , チャンホカン， , ヒョンククォン，
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C14/568 , H01L21/67173 , H01L51/56
摘要： Provided are an apparatus for depositing a film, including: a chamber configured to provide a reaction space; first and second substrate holders spaced apart from each other and installed in the chamber; and a deposition source which is installed between the first and second substrate holders and configured to sequentially supply a deposition raw materials in directions of the first and second substrate holders, a method for depositing a film suitable for the apparatus, and a system for depositing a film including the apparatus. According to the present disclosure, since sequential film processes can be performed with respect to two or more process lines provided in each of the process chambers through the single deposition source provided in each of the process chambers, fabrication costs can be saved and at the same time productivity can be enhanced.

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