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1. 发明专利

JP6356061B2 光学材料用組成物有权
公开(公告)号：JP6356061B2
公开(公告)日：2018-07-11
申请号：JP2014503809
申请日：2013-03-01
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
发明人：田中宏明 , 堀越裕
IPC分类号： C07D331/02 , G02B1/04 , C08G75/08
CPC分类号： G02B1/041 , C07D331/02 , C07D409/14 , C08G75/08 , G02B1/04 , C08L81/02

2. 发明专利

JPWO2016158156A1 新規エピスルフィド化合物およびそれを含む光学材料組成物有权
公开(公告)号：JPWO2016158156A1
公开(公告)日：2017-08-31
申请号：JP2017509420
申请日：2016-03-01
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
发明人：和貴仮屋薗 , 和貴仮屋薗 , 青木　崇 , 崇青木
IPC分类号： C07D409/12 , C07D331/02 , C08G75/08 , G02B1/04
CPC分类号： C07D409/12 , C08G75/08 , G02B1/04 , G02C7/00
摘要：本発明の好ましい実施態様によれば式(1)で表されるエピスルフィド化合物と前記式(1)で表されるエピスルフィド化合物以外の重合性化合物とを含む光学材料用組成物を提供することができる。該光学材料組成物により、重合性化合物を安定して安価で保管し、かつ色相、耐光性、透明性が良い光学材料を得ることが可能となった。【化9】(式中、mは0〜4の整数、nは0〜2の整数を示す。)

3. 发明专利

JP6187722B2 新規な硫黄化合物及びそれを含む光学材料用組成物有权
公开(公告)号：JP6187722B2
公开(公告)日：2017-08-30
申请号：JP2017508135
申请日：2016-03-01
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
发明人：西森慶彦 , 嘉村輝雄 , 堀越裕
IPC分类号： C08G75/08 , G02B1/04 , C07D331/02
CPC分类号： C07D331/02 , C08G75/08 , G02B1/04

4. 发明专利

JP2017114973A 光学材料用組成物及び光学材料审中-公开
公开(公告)号：JP2017114973A
公开(公告)日：2017-06-29
申请号：JP2015249961
申请日：2015-12-22
申请人：三菱瓦斯化学株式会社 , Mitsubishi Gas Chemical Co Inc
发明人： IMAGAWA YOSUKE , YAMAMOTO RYOSUKE , HORIKOSHI HIROSHI
IPC分类号： C08G75/08 , C07D331/02 , C07D409/14 , G02B1/04
摘要：【課題】本発明が解決しようとする課題は、これら高屈折率を有する光学材料用組成物を用いた光学材料において、十分な耐光性を有する光学材料を提供することである。【解決手段】式(1)で表される環状化合物(A)、エピスルフィド化合物(B)、硫黄(C)、紫外線吸収剤(D)を含有し、前記紫外線吸収剤(D)の割合が0.1〜5.0質量%である光学材料用組成物。【化1】(1)(式中、XはS、Se又はTeを表す。a〜f=0〜3、8≧(a+c+e)≧1、8≧(b+d+f)≧2、及び(b+d+f)≧(a+c+e)である。)【選択図】なし

5. 发明专利

JP6043434B2 エピスルフィド化合物の保管方法、及び該エピスルフィド化合物を用いたチオエポキシ系光学材料の製造方法有权
标题翻译：如何存储环硫化合物，以及使用该环硫化合物的硫代环氧光学材料的制造方法
公开(公告)号：JP6043434B2
公开(公告)日：2016-12-14
申请号：JP2015532976
申请日：2013-09-24
申请人：ケイオーシーソリューションカンパニーリミテッド , KOC SOLUTION CO., LTD.
发明人：ジャンドンギュ , ノスギュン , キムジョンヒョ , ソボングン , ソジンム
IPC分类号： C08G18/38 , C08G75/08 , G02B1/04 , C07D331/02
CPC分类号： G02B1/041 , C07D331/02 , C08G75/02 , C08L81/02 , G02B1/08 , G02B1/04

6. 发明专利

JP2016029036A エピスルフィド化合物の製造方法有权
标题翻译：生产EPISULFIDE化合物的方法
公开(公告)号：JP2016029036A
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：JP2015141455
申请日：2015-07-15
申请人：学校法人関西大学 , 大阪ガスケミカル株式会社
发明人：越智光一 , 安田祐一郎 , 宮内信輔
IPC分类号： C07D331/02
摘要：【課題】エピスルフィド化合物を効率良く製造する。【解決手段】クラウンエーテルを含む反応助剤の存在下、エポキシ化合物と硫黄含有化合物とを反応させてエピスルフィド化合物を製造する。前記反応助剤はさらに多孔質吸着剤(特にモレキュラーシーブス)を含んでいてもよい。前記クラウンエーテルが18−クラウン−6骨格を有していてもよい。前記エポキシ化合物は、フルオレン骨格を有するエポキシ化合物であってもよい。前記硫黄含有化合物はチオ尿素類であってもよい。この方法は、芳香族炭化水素を含む溶媒の存在下で反応させてもよい。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：有效地产生环硫化合物。溶液：在包含冠醚的反应助剂的存在下，使环氧化合物与含硫化合物反应以产生环硫化合物。反应助剂还可以含有多孔吸附剂（特别是分子筛）。冠醚可以具有18冠-6骨架。环氧化合物可以是具有芴骨架的环氧化合物。含硫化合物可以是硫脲。该方法可以在包含芳烃的溶剂的存在下进行反应。选择图：无

7. 发明专利

JP5606112B2 New diaryl sulfone compound, and a method of manufacturing the same 有权
公开(公告)号：JP5606112B2
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：JP2010062875
申请日：2010-03-18
申请人：住友精化株式会社
发明人：ポールクアド , 尚明神田 , 健志藤原 , 浩之白石
IPC分类号： C07D331/02 , C07B61/00 , C07D303/34

8. 发明专利

JP4979621B2 Sulfur-containing polymerizable adamantane compound 有权
公开(公告)号：JP4979621B2
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：JP2008063077
申请日：2008-03-12
申请人：株式会社トクヤマ
发明人：正和佐井 , 博將山本 , 潤治竹中
IPC分类号： C08G18/38 , C07C321/22 , C07C323/17 , C07C323/22 , C07C323/41 , C07C327/08 , C07D303/34 , C07D331/02 , C08G59/30 , C08G75/08 , G02B1/04 , G02C7/00

9. 发明专利

JP4965838B2 Sulfide compound and a method of manufacturing the same 有权
公开(公告)号：JP4965838B2
公开(公告)日：2012-07-04
申请号：JP2005280843
申请日：2005-09-27
申请人： Hoya株式会社
发明人：正洋本間 , 明奎王
IPC分类号： C07D331/02 , C07D409/14 , C08G75/08 , G02B1/04

10. 发明专利

JP4857489B2 Optical materials for the aliphatic cyclic compound 有权
公开(公告)号：JP4857489B2
公开(公告)日：2012-01-18
申请号：JP2001185491
申请日：2001-06-19
申请人：三菱瓦斯化学株式会社
发明人：祐一吉村 , 輝雄嘉村 , 基晴竹内
IPC分类号： C07D495/14 , G02C7/02 , C07D331/02 , C08G75/06 , C08G75/08 , G02B1/04
CPC分类号： C08G75/08 , C07D331/02 , C07D495/14 , G02B1/04 , C08L81/00

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