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    • 1. 发明专利
    • 絶縁膜形成用前駆体溶液とその製造方法、絶縁膜とその製造方法及びトランジスタデバイス及びその製造方法
    • 用于绝缘膜形成的前驱体解决方案及其制造方法,绝缘膜及其制造方法及其晶体管器件及其制造方法
    • JP2016197631A
    • 2016-11-24
    • JP2015076104
    • 2015-04-02
    • DIC株式会社国立大学法人北陸先端科学技術大学院大学
    • 諸 培新下田 達也李 金望
    • H01L29/786H01L21/31H01L21/316
    • 【課題】本発明の課題は、従来より低温形成が可能であって、高温製膜にも適用し、トランジスタデバイス用の絶縁膜に用いて好適な絶縁膜形成用溶液とその製造方法、その溶液から得られた絶縁膜とその製造方法並びにそれらによる薄膜トランジスタの提供にある。 【解決手段】本発明は、Ln化合物とZr化合物を溶媒に分散させたLnZrO酸化物溶液であり、紫外線の吸収端波長が280nm以上であることを特徴とする絶縁膜形成用前駆体溶液に関する。吸収端波長の長波長シフトは、Ln化合物とZr化合物を溶媒に分散させたLnZrO酸化物前駆体溶液を加圧しながら150〜230℃に加熱するオートクレーブ処理により達成される。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:为了提供可以在比以前更低的温度下形成的绝缘膜形成方法,并且适用于在高温下成膜并用于晶体管器件的绝缘膜的溶液,并且还 提供一种制造用于绝缘膜形成的方法,由溶液获得的绝缘膜,制造绝缘膜的方法和由它们制造的薄膜晶体管。方法:公开了用于绝缘膜形成的前体溶液 是通过将Ln化合物和Zn化合物分散在溶剂中而形成的LnZro氧化物溶液,其中紫外线的吸收边缘波长为280nm以上。 吸收边缘波长向较长波长的转变可以通过高压釜处理加热至150-230℃,同时向分散Ln化合物和Zn化合物的溶液形成的LnZrO氧化物前体溶液施加压力。选择图1