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1. 发明专利

JPWO2016043292A1 ペリクル、その製造方法及び露光方法有权
公开(公告)号：JPWO2016043292A1
公开(公告)日：2017-06-29
申请号：JP2016548957
申请日：2015-09-17
申请人：三井化学株式会社
发明人：高村　一夫 , 一夫高村 , 大樹種市 , 大樹種市 , 陽介小野 , 陽介小野 , 比佐子石川 , 比佐子石川 , 恒明美谷島 , 恒明美谷島 , 敦大久保 , 敦大久保 , 泰之佐藤 , 泰之佐藤 , 俊明廣田 , 俊明廣田
IPC分类号： G03F1/62 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/64 , G03F7/2008 , H01L21/027
摘要：極端紫外光リソグラフィ用のペリクル、その製造方法及び露光方法を提供する。本発明に係るペリクルは、ペリクル膜を配置した第1の枠体と、前記第1の枠体の前記ペリクル膜が配置された面とは反対側の面を受ける第1の面を含む厚手部と、前記第1の面に接続し、前記第1の枠体の側面を受ける第2の面と、を有し、前記ペリクル膜と前記第1の枠体とを外囲する第2の枠体と、前記第2の枠体の前記厚手部に配置された貫通孔と、前記ペリクル膜が配置された前記第1の枠体の面と交差する前記第2の枠体の外側の側面に配置され、前記貫通孔を覆うフィルタと、を備える。

2. 发明专利

JPWO2015182482A1 ペリクルマウント装置有权
公开(公告)号：JPWO2015182482A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：JP2016523452
申请日：2015-05-21
申请人：三井化学株式会社 , タツモ株式会社
发明人：高村　一夫 , 一夫高村 , 陽介小野 , 陽介小野 , 大樹種市 , 大樹種市 , 泰之佐藤 , 泰之佐藤 , 俊明廣田 , 俊明廣田
IPC分类号： G03F1/62
CPC分类号： G03F1/62 , G03F1/24 , H01L21/027
摘要：ペリクル膜、並びに、厚さ方向の一端面の側に前記ペリクル膜を支持するとともに厚さ方向の他端面に設けられた溝及び外周面と前記溝の壁面との間を貫通する貫通孔を有するペリクル枠を含むペリクルと、露光光が照射される光照射面を有する原版と、の貼り合わせが行われる貼り合わせチャンバーと、前記貼り合わせチャンバー内に前記ペリクル及び前記原版が、前記ペリクル枠の前記他端面と前記光照射面とが対向するように配置された状態で、前記ペリクル枠の前記貫通孔を通じて前記溝の内部を排気するための排気管と、を含む貼り合わせユニットを備える、ペリクルマウント装置。

3. 发明专利

JPWO2015174412A1 ペリクル枠、ペリクル、枠部材、露光原版、露光装置、及び半導体装置の製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2015174412A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：JP2016519264
申请日：2015-05-12
申请人：三井化学株式会社
发明人：高村　一夫 , 一夫高村 , 陽介小野 , 陽介小野 , 大樹種市 , 大樹種市 , 泰之佐藤 , 泰之佐藤 , 俊明廣田 , 俊明廣田
IPC分类号： G03F1/64 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/64
摘要：厚さ方向の一方の端面が互いに対向するように配置された第1 枠部材(100)及び第2枠部材(200)を備えたペリクル枠(300)であって、対向する前記端面の少なくとも一方に、前記ペリクル枠の外周面(30、130)と内周面(40、140)とに通じ、前記端面内で1つ以上の曲がり部又は分岐部を有する溝形状の凹部(112)と、前記第1枠部材及び前記第2枠部材の少なくとも一方の、少なくとも一方の端面(10、20、110)に、前記凹部(112)に接続しない、外周面(30、130)へ貫通する貫通孔(14A、14B、24A、24B)を有する溝(12、22)と、を備えた前記ペリクル枠(300)とすることで、貫通流路の加工性を改善した。

4. 发明专利

JPWO2014188710A1 ペリクル、及びこれらを含むＥＵＶ露光装置审中-公开
标题翻译： EUV曝光装置，其包括一个薄膜，而这些
公开(公告)号：JPWO2014188710A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：JP2015518074
申请日：2014-05-20
申请人：三井化学株式会社
发明人：陽介小野 , 一夫高村
IPC分类号： G03F1/62 , G01N21/65 , G03F1/24
CPC分类号： G03F1/62 , G03F1/24 , G03F7/2004 , G03F7/7015
摘要：本発明は、EUV透過性が高く、熱によるダメージを受け難く、さらに強度の高いペリクルを提供することを課題とする。上記課題を解決するため、波長550nmの光の屈折率nが1.9〜5.0であるペリクル膜と、前記ペリクル膜が貼り付けられたペリクル枠と、を有するペリクルを提供する。前記ペリクル膜は、組成中に炭素を30〜100モル%、水素を0〜30モル%含む。前記ペリクル膜のラマンスペクトルにおける、2DバンドとGバンドとの強度比(2Dバンドの強度/Gバンドの強度)が1以下であるか、あるいは、2DバンドとGバンドの強度がそれぞれ0である。
摘要翻译：本发明中，EUV透射高，不易受到热损伤，并提供了更高的强度薄膜。为了解决上述问题，提供具有550nm的光的波长为1.9〜5.0的折射率n的防护膜索引，并且其中所述防护薄膜贴附防尘薄膜组件框架，该防尘薄膜组件。防尘薄膜是在组合物中30〜100摩尔％的碳，包括氢键0-30摩尔％。在防护薄膜上，或2D带和G带（2D条带的强度/ G带的强度）之间的强度比的拉曼光谱为1或更小，或，所述2D带的强度和G带分别是0，。

5. 发明专利

JPWO2016136343A1 ペリクル膜、ペリクル枠体、ペリクル、及びその製造方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2016136343A1
公开(公告)日：2017-11-02
申请号：JP2017501984
申请日：2016-01-22
申请人：三井化学株式会社
发明人：敦大久保 , 敦大久保 , 恒明美谷島 , 恒明美谷島 , 陽介小野 , 陽介小野 , 高村　一夫 , 一夫高村 , 藤井　泰久 , 泰久藤井 , 信子松本 , 信子松本
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/64
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/62 , G03F1/66 , G03F7/2004 , G03F7/70983
摘要：ペリクルは製造過程において様々な原因で、塵埃等に汚染されるが、とくに、トリミング時やペリクル膜に対する種々の加工時に、塵埃等が付着するリスクが高いという問題がある。そこで、本発明は、塵埃等の付着を低減させるEUV用ペリクルの製造方法を提供する。基板上にペリクル膜を形成し、基板をトリミングし、トリミングした後に少なくとも基板の一部を除去する、ことを特徴とするペリクルの製造方法。また、基板の一部を除去する前に、少なくともペリクル膜面に付着した粒子を除去する。

6. 发明专利

JPWO2015045414A1 ペリクル膜、それを用いたペリクル、露光原版および露光装置、ならびに半導体装置の製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2015045414A1
公开(公告)日：2017-03-09
申请号：JP2015538917
申请日：2014-09-29
申请人：三井化学株式会社
发明人：陽介小野 , 陽介小野 , 高村　一夫 , 一夫高村 , 加賀山　陽史 , 陽史加賀山 , 小出　哲裕 , 哲裕小出
IPC分类号： G03F1/62 , C08J5/18 , G03F1/24 , G03F7/20
CPC分类号： G03F1/24 , G03F1/62
摘要：本発明の目的は、EUVなどの露光光に対して高い透過性を有し、かつEUVなどの露光光の照射に対して高い耐久性を有する、ペリクル膜を提供することである。本発明のペリクル膜は、波長13.5nmの光の透過率が50%以上であり、芳香族ポリイミド、脂肪族ポリイミド、架橋ポリエチレン、架橋ポリスチレン、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンサルフォン、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルフォン、ポリエーテルエーテルケトン、液晶ポリマー、ポリエチレンテレフタレート、芳香族ポリアミド、パリレン、及びヘテロ芳香環を含む高分子化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の樹脂を含む樹脂薄膜からなる。

7. 发明专利

JP5417452B2 Film and use thereof 有权
公开(公告)号：JP5417452B2
公开(公告)日：2014-02-12
申请号：JP2011540416
申请日：2010-11-11
申请人：三井化学株式会社
发明人：比佐子石川 , 俊範松田 , 陽介小野 , 和雄八木 , 陽史加賀山
IPC分类号： C08J5/18 , C08G18/38 , G02B5/30 , G02F1/1335 , H01L51/50 , H05B33/02
CPC分类号： C08J5/18 , B29C41/003 , B29D11/00788 , B29K2075/00 , B29L2011/00 , C08G18/3876 , C08G18/7621 , C08G18/7642 , C08G18/7671 , C08J2375/04 , C09D175/04 , G02B1/111 , G02B1/18 , G02B5/021 , G02B5/045 , G02B5/0841 , G02B5/208 , G02B5/3033 , G02B5/3083 , Y10T428/31551

8. 发明专利

JPWO2011058754A1 フィルムおよびその用途有权
公开(公告)号：JPWO2011058754A1
公开(公告)日：2013-03-28
申请号：JP2011540416
申请日：2010-11-11
申请人：三井化学株式会社
发明人：比佐子石川 , 比佐子石川 , 俊範松田 , 俊範松田 , 陽介小野 , 陽介小野 , 和雄八木 , 和雄八木 , 加賀山　陽史 , 陽史加賀山
IPC分类号： C08G18/38 , C08J5/18 , G02B5/30 , G02F1/1335 , H01L51/50 , H05B33/02
CPC分类号： C08J5/18 , B29C41/003 , B29D11/00788 , B29K2075/00 , B29L2011/00 , C08G18/3876 , C08G18/7621 , C08G18/7642 , C08G18/7671 , C08J2375/04 , C09D175/04 , G02B1/111 , G02B1/18 , G02B5/021 , G02B5/045 , G02B5/0841 , G02B5/208 , G02B5/3033 , G02B5/3083 , Y10T428/31551
摘要：本発明のフィルムは、チオウレタン結合を有する樹脂から構成され、該樹脂に含まれる硫黄と窒素のモル比(S/N)が0.8以上、3未満であることを特徴とし、このような本願発明により、高屈折率、低複屈折および光線透過性のバランスに優れ、さらに靭性、剛性、寸法安定性等の機械的特性のバランスに優れ加工時の変形などの影響が極めて小さく、またさらに耐溶媒性にも優れるフィルムを提供する。

9. 发明专利

JPWO2015182483A1 ペリクル製造装置有权
公开(公告)号：JPWO2015182483A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：JP2016523453
申请日：2015-05-21
申请人：三井化学株式会社 , タツモ株式会社
发明人：高村　一夫 , 一夫高村 , 陽介小野 , 陽介小野 , 大樹種市 , 大樹種市 , 泰之佐藤 , 泰之佐藤 , 俊明廣田 , 俊明廣田
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/24
CPC分类号： G03F1/64 , G03F7/20 , H01L21/027
摘要：厚さ方向の一端面及び他端面の少なくとも一方に設けられた溝並びに外周面と前記溝の壁面との間を貫通する貫通孔を有するペリクル枠を含むペリクル枠部材と、ペリクル膜を含むペリクル膜部材と、の貼り合わせが行われる貼り合わせチャンバーと、前記貼り合わせチャンバー内に前記ペリクル枠部材及び前記ペリクル膜部材が、前記ペリクル枠の前記溝が設けられた端面と前記ペリクル膜部材とが対向するように配置された状態で、前記ペリクル枠の前記貫通孔を通じて前記溝の内部を排気するための排気管と、を含む貼り合わせユニットを備える、ペリクル製造装置。

10. 发明专利

JPWO2015178250A1 ペリクル膜、ペリクル、露光原版、露光装置及び半導体装置の製造方法有权
公开(公告)号：JPWO2015178250A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：JP2016521048
申请日：2015-05-12
申请人：三井化学株式会社
发明人：陽介小野 , 陽介小野 , 高村　一夫 , 一夫高村
IPC分类号： G03F1/62 , G03F1/24
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/62 , G03F7/2004
摘要：ペリクル膜は、有機系材料及び無機系材料からなるフィルムを有し、該フィルムの同一平面上に有機系材料を含む領域と無機系材料からなる領域とが存在し、少なくとも前記フィルムの中心部は無機系材料からなる領域であり、かつ、少なくとも前記フィルムの周端部は有機系材料を含む領域である。

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