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    • 8. 发明公开
    • Polymere mit N,N-disubstituierten Sulfonamid-Seitengruppen und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen
    • Polymere mit N,N-disubstituierten Sulfonamid-Seitgruppen und deren Verwendung in strahlungsempfindlicher Gemische。
    • EP0602377A1
    • 1994-06-22
    • EP93117980.8
    • 1993-11-05
    • HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
    • Eichhorn, Mathias, Dr.Buhr, Gerhard, Dr.
    • C07C311/53C08F22/38G03F7/038
    • C08F20/38C07C311/53G03F7/039Y10S430/107
    • Die Erfindung betrifft Monomere der Formeln R¹-SO₂-N(CO-OR²)-R³-O-CO-CR⁴=CH₂ und R¹-N(CO-OR²)-SO₂-R³-O-CO-CR⁴=CH₂, worin R¹ für einen (C₁-C₂₀)Alkyl-, (C₃-C₁₀)Cycloalkyl-, (C₆-C₁₄)Aryl- oder (C₇-C₂₀)Aralkylrest, wobei in den Alkyl enthaltenden Resten einzelne Methylengruppen durch Heteroatome ersetzt sein können, R² für einen (C₃-C₁₁)Alkyl-, (C₃-C₁₁)Alkenyl- oder (C₇-C₁₁)Aralkylrest, R³ für einen unsubstituierten oder substituierten (C₁-C₆)Alkyl-, (C₃-C₆)Cycloalkyl-, (C₆-C₁₄)Aryl- oder (C₇-C₂₀)Aralkylrest und R⁴ für ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe steht. Sie betrifft ferner Polymere mit mindestens 5 mol-% an Einheiten mit Seitengruppen der Formel(n) -R³-N(CO-OR²)-SO₂-R¹ (I) und/oder -R³-SO₂-N(CO-OR²)-R¹ (II), sowie ein strahlungsempfindliches Gemisch, das

      a) eine unter der Einwirkung aktinischer Strahlung Säure bildende Verbindung und
      b) eine säurespaltbare Verbindung, deren Spaltprodukte in einem wäßrig-alkalischen Entwickler eine höhere Löslichkeit zeigen als die Ausgangsverbindung
      enthält, worin die säurespaltbare Verbindung ein Polymer der genannten Art ist, sowie ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger und einer strahlungsempfindlichen Schicht. Das erfindungsgemäße Gemisch eignet sich insbesondere für die Herstellung von Offsetdruckplatten und Photoresists.
    • 本发明涉及式R 1 -SO 2 -N(CO-OR 2)-R 3 -O-CO-CR 4 = CH 2和R 1 -N(CO- OR 2) - SO 2 -R 3 -O-CO-CR 4 = CH 2,其中R 1是(C 1 -C 20)烷基,(C 3 -C 10)环烷基,(C 6 -C 14) )芳基或(C 7 -C 20)芳烷基,其中在含烷基的基团中,各个亚甲基可以被杂原子代替,R 2是(C 3 -C 11)烷基,(C 3 -C 11)链烯基或( C7-C11)芳烷基,R3是未取代或取代的(C1-C6)烷基,(C3-C6)环烷基,(C6-C14)芳基或(C7-C20)芳烷基, 是氢原子或甲基。 它还涉及含有至少5摩尔%的含有式(e)-R 3 -N(CO-OR 2)-SO 2 -R 1(I)侧基的单元和/或 -R 3 -SO 2 -N(CO-OR 2)-R 1(II),以及含有a)在曝光于光化辐射时形成酸的化合物的辐射敏感性混合物,以及b) 可酸裂解的化合物,其裂解产物在水性 - 碱性显影剂中的溶解度高于起始化合物,其中酸可裂解化合物是所述类型的聚合物,以及具有载体(载体,碱)和 辐射敏感涂层。 根据本发明的混合物特别适用于生产胶版印刷版和光致抗蚀剂。