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    • 9. 发明公开
    • Verfahren zur Herstellung keilförmiger Strukturen
    • Verfahren zur HerstellungkeilförmigerStrukturen。
    • EP0509342A2
    • 1992-10-21
    • EP92105756.8
    • 1992-04-03
    • ANT Nachrichtentechnik GmbH
    • Schwander, Thomas, Dipl.-Ing.
    • B23K15/08B23K17/00B23K26/00G02B6/12
    • G02B6/305C23F4/00G02B6/13G02B6/30G02B6/34G02B2006/12195
    • Es ist bekannt zur Erzeugung einer definierten Dicke bei einem Lichtwellenleiter-Taper eine Blende mit einer bestimmten ungleichförmigen Geschwindigkeit über das Substrat zu führen. Mit diesem Verfahren sind nur großflächige Taper und nur ein Taper je Substrat herstellbar. Es soll eine Möglichkeit angegeben werden, mit der auf einem Substrat mehrere Lichtwellenleiter-Taper hergestellt werden können.
      Dazu wird ein Substrat in einem Bearbeitungsvorgang durch Bestrahlen entweder geätzt, abgetragen oder beschichtet und die Strahlungsdichte oder Einwirkzeit pro Fläche wird zwischen zwei Enden jeder herzustellenden Struktur geändert. Dies kann z.B. mit einer Blende (2), die mit einer konstanten Geschwindigkeit über ein Substrat (6) geführt wird, und einer ortsfesten Maske (4), die über dem Substrat angebracht wird und Öffnungen (5) aufweist, an den Stellen, an denen Lichtwellenleiter-Taper entstehen sollen, geschehen. Die Blende (2) wird derart über oder unter der Maske (4) bewegt, daß entgegengesetzte Enden des durch die Öffnungen (5) sichtbaren Substrates (6) einem Bearbeitungsvorgang unterschiedlich lange ausgesetzt sind. Der Bearbeitungsvorgang kann beispielsweise ein Trockenätzvorgang, aber auch ein Vorgang zum Aufbringen oder Aufdampfen einer Schicht auf das Substrat (6) sein. Es entstehen geätzte keilförmige Vertiefungen (7) oder aufgedampfte keilförmige Strukturen (8) die durch einen anschließenden Ätzvorgang unter Einsatz der Maske (4) ebenfalls zu geätzten keilförmigen Vertiefungen (7) werden.
    • 在光波导锥度中产生限定厚度的已知方法是以一定的不均匀速度将光阑通过衬底。 只有大面积的锥度和每个基底只有一个锥度可以通过这个过程生产。 本发明的目的是提供一种可以在一个基板上产生多个光波导锥形的方法。 为此,在照射处理步骤中对衬底进行蚀刻,蚀刻或涂覆,并且每个单位面积的辐射密度或曝光时间在要生产的每个结构的两端之间改变。 这可以例如通过在基板(6)上以恒定速度通过的隔膜(2)和安装在基板上方的固定掩模(4)来实现,该固定掩模(4)具有开口(5) 要制造光波导锥形。 隔膜(2)以掩模(4)上方或下方移动,使得通过开口(5)可见的基板(6)的相对端部经受不同长度的处理步骤。 处理步骤可以是例如干蚀刻步骤,但也可以是设计成在衬底(6)上施加或气相沉积一层的步骤。 这产生蚀刻的楔形凹槽(7)或气相沉积的楔形结构(8),其也因为使用掩模(4)的后续蚀刻步骤而成为蚀刻的楔形凹槽(7)。