专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明公开

EP3287262A1 VORRICHTUNG UND VERFAHREN ZUR LASERGESTÜTZTEN BEARBEITUNG VON KÖRPERN ODER OBERFLÄCHEN 审中-公开
标题翻译：用于激光加工机体或表面的装置和方法
公开(公告)号：EP3287262A1
公开(公告)日：2018-02-28
申请号：EP16185821.2
申请日：2016-08-26
申请人： MULTIPHOTON OPTICS GMBH
发明人： HOUBERTZ, Ruth , KRUPP, Alexander , STENDER, Benedikt
IPC分类号： B29C67/00 , G03F7/00 , G03F7/20
CPC分类号： B29C64/135 , B29C64/40 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , G03F7/0037 , G03F7/2053 , G03F7/70416
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum lasergestützten Bearbeiten eines an einem Substrat anhaftenden Materials oder eines substratassoziierten oder substratfreien Körpers oder von dessen Oberfläche, insbesondere durch TPA/MPA und/oder durch Behandlung mit einem Ultrakurzpulslaser,
aufweisend
- ein Positioniersystem (9, 10, 11), das drei translatorische und drei rotatorische Freiheitsgrade ermöglicht und eine Probenaufnahme aufweist, wobei die Probenaufnahme so ausgebildet ist, dass sie das Substrat (7), an dem das zu bearbeitende Material haftet oder mit dem der zu bearbeitende Körper assoziiert ist, oder
- in Abwesenheit eines Substrats - den zu bearbeitenden Körper (7) halten kann,
- eine Laserquelle (1), die Laserpulse bzw. Laserpulsfolgen aussenden kann,
und
- eine Fokussieroptik (6), die die Laserpulse bzw. Laserpulsfolgen so formen kann, dass diese in einem Brennpunkt oder einem fokalen Volumen im Bereich des zu bearbeitenden Materials bzw. Körpers derart auftreffen, dass dort eine 2- oder Mehrphotonenpolymerisation stattfinden kann, oder dass diese in einem Brennpunkt oder in einem fokalen Volumen im Bereich des Körpers derart auftreffen, dass in diesem Brennpunkt oder fokalen Volumen befindliches Material den gewünschten chemischen und/oder physikalischen Veränderungen unterworfen wird.
Eine Vielzahl von Bearbeitungsverfahren ist unter Einsatz dieser Vorrichtung möglich.
摘要翻译：本发明涉及对被粘物的激光辅助的处理的装置，以在衬底材料或相关联的衬底或主体或者其表面的不含基底的，特别是通过TPA / MPA和/或通过用超短脉冲激光治疗，包括： - 定位系统（9，10，11）中，三个平移和三个旋转自由度的使能和具有其中样本容器被形成为在基板（7），其附着到被处理的材料或由所述加工体相关联，或者一个样品接收器 - 在没有衬底 - 所述主体被加工（7）可以保持， - 激光源能够发射激光脉冲或激光脉冲序列的（1），以及 - 一个聚焦透镜（6），它可以塑造激光脉冲或激光脉冲串，使得这一个以这种方式在待加工材料或主体区域内的焦点或焦点体积，有可能发生一个2-或Mehrphotonenpolymerisation或它们在所述主体的所述区域中的焦点或聚焦体积撞击，使得该焦点或焦散装材料befindliches进行所需的化学和/或物理变化。使用此设备可能有多种处理方法。

2. 发明授权

EP2683516B1 LASER FABRICATION SYSTEM AND METHOD 有权转让
标题翻译：激光制造系统和方法
公开(公告)号：EP2683516B1
公开(公告)日：2017-09-06
申请号：EP12714825.2
申请日：2012-03-01
申请人： Oxford University Innovation Limited
发明人： BOOTH, Martin James , SALTER, Patrick Stephen
IPC分类号： G03F7/20 , B23K26/00 , B23K26/06 , B23K26/046 , B23K26/067 , B23K26/361 , B23K26/082 , B23K26/0622 , B23K26/362
CPC分类号： G03F7/70383 , B23K26/0066 , B23K26/046 , B23K26/0624 , B23K26/0648 , B23K26/0676 , B23K26/082 , B23K26/361 , G03F7/70416

3. 发明公开

EP2683516A1 LASER FABRICATION SYSTEM AND METHOD 有权转让
标题翻译： LERERHERSTELLUNGSSYSTEM UND VERFAHREN
公开(公告)号：EP2683516A1
公开(公告)日：2014-01-15
申请号：EP12714825.2
申请日：2012-03-01
申请人： Isis Innovation Ltd
发明人： BOOTH, Martin James , SALTER, Patrick Stephen
IPC分类号： B23K26/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70383 , B23K26/0066 , B23K26/046 , B23K26/0624 , B23K26/0648 , B23K26/0676 , B23K26/082 , B23K26/361 , G03F7/70416
摘要： A laser fabrication system for processing a sample comprises a laser, a controllable light processing unit and a microlens array in the optical path of the light output from light processing unit. Focusing optics generate a set of focal regions in a sample to be processed, one focal region associated with each microlens. This arrangement combines multiple focal spots in the sample with individual spot control.
摘要翻译：用于处理样品的激光制造系统包括激光器，可控光处理单元，例如数字镜装置，包括液晶空间光调制器的空间光调制器装置和从光处理的光输出的光路中的微透镜阵列单元。聚焦光学器件在要处理的样品中产生一组焦点区域，一个与每个微透镜相关联的焦点区域。这种布置将样品中的多个焦点与各个点控制相结合。制造系统可用于激光加工和激光光刻。

4. 发明公开

EP2083329A3 Method and apparatus for structuring a radiation-sensitive material 审中-公开
标题翻译：用于图案化的辐射敏感材料的方法和装置
公开(公告)号：EP2083329A3
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：EP09000644.6
申请日：2009-01-19
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： Feldmann, Heiko, Dr.
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70291 , G02B26/085 , G03F7/70341 , G03F7/70416
摘要： A method of structuring a radiation-sensitive material comprises the following steps: providing a layer (22) of the radiation-sensitive material, the radiation-sensitive material being configured such that upon irradiation of the latter with a radiation intensity exceeding a threshold intensity, a characteristic property of the radiation-sensitive material is changed, providing a dynamic mask (16) which is configured to change its structure dynamically, generating a first radiation pattern (38; 138) by means of the dynamic mask (16) in the radiation-sensitive material layer such that the extension of the first radiation pattern (38), in which the radiation intensity exceeds the threshold intensity, is maximum 50% of the thickness of the material layer (22) in the thickness direction of the material layer (22) at the individual points of the material layer, and generating a second radiation pattern (40; 140) by means of the dynamic mask in the radiation-sensitive material layer (22).

5. 发明公开

EP1623277A2 STEREOLITHOGRAPHIC SEAL AND SUPPORT STRUCTURE FOR SEMICONDUCTOR WAFER 审中-公开
标题翻译：光固化密封和支护结构的半导体晶片
公开(公告)号：EP1623277A2
公开(公告)日：2006-02-08
申请号：EP04785517.6
申请日：2004-05-07
申请人： 3D SYSTEMS, INC.
发明人： DAVIS, Stewart, A. , FLAHARTY, Grant, R.
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： H01L21/6835 , G03F7/70416 , G03F7/70783 , H01L21/30604 , Y10T428/21
摘要： A Support structure (16) is applied directly to the first side (14) of a semiconductor work piece (10) or wafer by a stereolithographic process layer by layer completely about and extending invwardly of the periphery (15) of the wafer, but external to the selected area within which a desired circuitry pattern (12) is placed, the support structure being of desired height and of a material resistive to an acid etch process effective to seal the circuitry pattern in the selected area from acid when the work piece is subjected to an acid etch on the opposing second side (17) and about the periphery. The support structure further strengthens the work piece against flexural failure.

6. 发明公开

EP1217438A9 Stereolithography using different types of vector scanning 失效
标题翻译： Stereolithografie mit verschiedenen Vektorabtastungsmoden
公开(公告)号：EP1217438A9
公开(公告)日：2005-01-05
申请号：EP02075796.9
申请日：1989-04-17
申请人： 3D SYSTEMS, INC.
发明人： Hull, Charles William , Spence, Stuart Thomas , Albert, David J. , Smalley, Dennis Rollette , Harlow, Richard A. , Steinburgh, Philip , Tarnoff, Harry L. , Nguyen, Hop D. , Lewis, Carles William , Vorgitch, Tom J. , Remba, David Z.
IPC分类号： G03C9/08 , B29C67/00
CPC分类号： G06T17/20 , B29C64/135 , B29C64/40 , B29K2995/0073 , B33Y30/00 , B33Y50/02 , G01J1/4257 , G03F7/0037 , G03F7/70416 , G05B2219/49013 , G06T17/00 , G06T17/10
摘要： A method of forming a three-dimensional object layer-by-layer by selectively exposing a solidifiable fluid medium to a beam of prescribed stimulation capable of satisfying the medium, comprising: providing a surface shape set of data defining the surface shape of the object to be formed, manipulating the surface shape set of data to produce layer data relating to each of successive layers in the formation of the object, and forming each said of successive layer by scanning the fluid medium with said beam of prescribed stimulation in a vector fashion in accordance with the layer data for the layer, wherein the production of layer data for each layer includes the determination of the existence of different regions of a prescribed plurality of region type for scanning the layer in dependence upon the determined region types.
摘要翻译：公开了一种在立体光刻技术中具有特殊用途的用于分析光束强度并由此测量光束的总体强度和功率的装置和方法。包括板中的针孔和针孔后面的光电检测器的光束传感器在光束在光束传感器上移动时测量光束的部分的强度。与计算机中的传感器相关联的软件控制光束的扫描机构，使得光束被移动以找到针孔并在其上移动以便展开强度分布。本发明可用于检测扫描机构中的漂移，确定光束的焦点，并预测由光束固化的光聚合物的深度和宽度。描述了用于校准和归一化立体光刻设备的相关设备和方法，并且还描述了通过立体光刻法校正物体生产漂移的相关设备和方法。

7. 发明授权

EP0747203B1 Stereolithographic curl reduction 失效
标题翻译：减少弯曲固化成型
公开(公告)号：EP0747203B1
公开(公告)日：2001-06-27
申请号：EP96114443.3
申请日：1989-04-17
申请人： 3D SYSTEMS, INC.
发明人： Hull, Charles William , Lewis, Charles William , Freed, Raymond Samuel , Spence, Stuart Thomas , Vinson, Wayne Allan , Smalley, Dennis Rollette
IPC分类号： B29C67/00
CPC分类号： G03F7/70416 , B29C64/135 , B29C64/40 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , B44B1/006 , G03F7/0037

8. 发明公开

EP1106332A2 Stereolithographic beam profiling 失效
标题翻译： Profilierung einesStrahlungsbündelsfürStereolithegraphie
公开(公告)号：EP1106332A2
公开(公告)日：2001-06-13
申请号：EP00128126.0
申请日：1989-04-17
申请人： 3D SYSTEMS, INC.
发明人： Spence, Stuart Thomas , Almquist, Thomas , Tarnoff, Harry L.
IPC分类号： B29C67/00 , G01J1/42 , H01S3/00
CPC分类号： G06T17/20 , B29C64/135 , B29C64/40 , B29K2995/0073 , B33Y30/00 , B33Y50/02 , G01J1/4257 , G03F7/0037 , G03F7/70416 , G05B2219/49013 , G06T17/00 , G06T17/10
摘要： An apparatus and a method for profiling the intensity of a beam and thus measuring the overall intensity and power of a beam are disclosed that have particular use in stereolithography. A beam sensor comprising a pinhole in a plate and a photodetector behind the pinhole measures the intensity of portions of a beam as the beam is moved over the beam sensor. Software associated with the sensors in a computer controls the scanning mechanism for the beam so that the beam is shifted to find the pinhole and move across it in order to develop the intensity profile. The invention can be used to detect drift in the scanning mechanism, determine the focus of the beam, and predict the depth and width of photopolymer cured by the beam. A related apparatus and method for calibrating and normalizing a stereolithographic apparatus is described, and a related apparatus and method for correcting for drift in production of objects by stereolithography, is also described.
摘要翻译：公开了一种在立体光刻技术中具有特殊用途的用于分析光束强度并由此测量光束的总体强度和功率的装置和方法。包括板中的针孔和针孔后面的光电检测器的光束传感器在光束在光束传感器上移动时测量光束的部分的强度。与计算机中的传感器相关联的软件控制光束的扫描机构，使得光束被移动以找到针孔并在其上移动以便展开强度分布。本发明可用于检测扫描机构中的漂移，确定光束的焦点，并预测由光束固化的光聚合物的深度和宽度。描述了用于校准和归一化立体光刻设备的相关设备和方法，并且还描述了通过立体光刻法校正物体生产漂移的相关设备和方法。

9. 发明授权

EP0676275B1 Stereolithographic exposure head 失效
标题翻译： BestrahlungskopffürStereolithografie
公开(公告)号：EP0676275B1
公开(公告)日：2000-07-05
申请号：EP95106721.4
申请日：1992-12-22
申请人： TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED
发明人： Mitcham, Larry D. , Nelson, William E.
IPC分类号： B29C67/00 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/70416 , B29C64/129 , B29C2035/0838 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , G02B26/0841 , G03F7/0037 , G03F7/2012

10. 发明授权

EP0549993B1 Stereolithographic apparatus and method of forming a model 失效
标题翻译： Stereolithographische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung eines Modells
公开(公告)号：EP0549993B1
公开(公告)日：1997-03-26
申请号：EP92121770.9
申请日：1992-12-22
申请人： TEXAS INSTRUMENTS INCORPORATED
发明人： Mitcham, Larry D. , Nelson, William E.
IPC分类号： B29C67/00 , G03C9/08
CPC分类号： G03F7/70416 , B29C64/129 , B29C2035/0838 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , G02B26/0841 , G03F7/0037 , G03F7/2012

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式