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1. 发明公开

EP2144369A1 Résonateur à ondes de volume 有权
标题翻译： Volumenwellenresonator
公开(公告)号：EP2144369A1
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：EP09164684.4
申请日：2009-07-06
申请人： ST MICROELECTRONICS S.A. , COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
发明人： Durand, Cédric , Casset, Fabrice
IPC分类号： H03H9/02 , H03H9/24 , H03H3/007
CPC分类号： H03H9/02448 , H03H3/0076 , H03H9/2436 , H03H9/2463 , H03H2009/0237 , H03H2009/02496 , H03H2009/2442
摘要： L'invention concerne un résonateur comprenant un élément résonant (20) comportant un corps (21) et des colonnes (24) d'un matériau (66) ayant un module d'Young (E) dont le coefficient de température (TCE) est d'un signe opposé à celui du corps.
摘要翻译：谐振器具有谐振元件（20），其包括主体（21）和由具有杨氏弹性模量的无机材料制成的列（24）。材料的温度系数的符号与体温的温度系数相反。列在与声波正交的方向上延伸，并沿着元件的延伸/压缩方向分布在谐振元件中。对于在基板中形成谐振器的方法，还包括独立权利要求。

2. 发明公开

EP1536439A1 Composant incluant un condensateur variable 有权
标题翻译：变种冷凝器enthaltendes Bauteil
公开(公告)号：EP1536439A1
公开(公告)日：2005-06-01
申请号：EP04106043.5
申请日：2004-11-24
申请人： ST MICROELECTRONICS S.A. , COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
发明人： Casset, Fabrice , Bouche, Guillaume , Rivoire, Maurice
IPC分类号： H01G5/18 , H01H59/00 , H03H9/17
CPC分类号： H01G5/18 , H01H1/50 , H01H59/0009 , H01H2059/0081 , H03H9/173
摘要： L'invention concerne un condensateur variable comprenant : une portion de sillon (11) formée dans un substrat isolant (10), deux parties supérieures du substrat situées de chaque côté de la portion de sillon constituant deux bords latéraux (12,13), une couche conductrice (15) recouvrant l'intérieur de la portion de sillon (11), une membrane souple conductrice (16), placée au-dessus de la portion de sillon (11) en s'appuyant sur lesdits bords (12,13), une couche diélectrique (17) recouvrant la couche conductrice (15) ou la membrane (16) de façon à isoler la couche conductrice (15) et la membrane (16), et des bornes d'application d'une tension entre la couche conductrice (15) et la membrane (16), et tel que la profondeur de la portion de sillon (11) augmente continûment en allant d'un des bords (12,13) vers le fond de la portion de sillon, et que la couche conductrice (15) recouvre l'intérieur de la portion de sillon (11) au moins jusqu'à l'un des deux bords (12,13) qu'elle recouvre éventuellement.
摘要翻译：电容器具有覆盖沟槽部分内部的导电层（15）和放置在该部分之上的柔性导电膜（16），提供两者之间隔离的介电层（17）。凹槽部分的深度从横向边缘连续地增加到中心，导电层覆盖一个边缘。施加电压导致柔性导电膜朝向导电层的渐进且成比例的变形，产生可变电容。还包括以下独立权利要求：（A）具有根据本发明的电容器的谐振器; （B）具有根据本发明的电容器的开关; 和（C）形成可变电容器的方法。

3. 发明公开

EP1705151A1 Microsystème électromécanique comprenant une poutre se déformant par flexion 审中-公开
标题翻译： Mikroelektromechanisches System mit einem sich biegendem Balken
公开(公告)号：EP1705151A1
公开(公告)日：2006-09-27
申请号：EP05292363.8
申请日：2005-11-08
申请人： STMICROELECTRONICS SA , COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
发明人： Casset, Fabrice , Segueni, Karim , De Grave, Arnaud , Abele, Nicolas
IPC分类号： B81B3/00 , H03H9/24
CPC分类号： H03H9/2463 , B81B3/007 , B81B2201/016 , B81B2201/0271 , B81B2203/0118 , H03H3/0076 , H03H9/2447
摘要： Un microsystème électromécanique comprend une poutre (1) et une électrode (10) couplée par une interaction électrostatique avec la poutre. La poutre est adaptée pour subir des déformations élastiques par flexion et possède un motif de section sensiblement constant. La poutre (1) est constituée de plusieurs pans (P1-P4) s'étendant sur la longueur de la poutre (L), et ayant chacun une épaisseur inférieure à une dimension extérieure du motif de section (w, t). Une fréquence de vibration par flexion de la poutre est alors accrue par rapport à une poutre pleine de mêmes dimensions extérieures. Un tel microsystème est adapté pour des applications à durées de transition très courtes, ou pour réaliser des oscillateurs et des résonateurs à haute fréquence.
摘要翻译：该系统具有适于通过弯曲进行弹性应变并且在垂直于纵向方向（D）的平面中具有截面图案的微束（1）。微束包括沿着微束的主要部分延伸的部分（P1-P4）。这些部分沿着平行于方向（D）的线彼此连接。这些部分的厚度小于截面图案的外部尺寸。这些部分具有外形尺寸为60×60微米的方形形状。该微束具有2.1兆赫的弹性弯曲应变频率。还包括以下独立权利要求：（1）包括微机电系统的断续器（2）包括微机电系统的加速度计（3）包括微电机械系统（4）的振荡器）包括微机电系统的谐振器（5）用于制造微机电系统的方法。

4. 发明授权

EP1905734B1 Procédé de réalisation d'un composant éléctromécanique sur un substrat plan 有权
标题翻译：制造方法的平面基板上的机电部件
公开(公告)号：EP1905734B1
公开(公告)日：2009-05-06
申请号：EP07117116.9
申请日：2007-09-25
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , STMicroelectronics SA
发明人： Casset, Fabrice , Durand, Cédric , Ancey, Pascal
IPC分类号： B81C1/00 , H03H3/007 , H03H9/24
CPC分类号： B81C1/0065 , B81B2201/0271 , B81B2207/015 , H03H3/0073 , H03H9/1057 , H03H9/2405 , H03H2009/02496

5. 发明公开

EP1905734A1 Procédé de réalisation d'un composant éléctromécanique sur un substrat plan 有权
标题翻译： at at at at at at at at at at at at at at at at at at at at at at at
公开(公告)号：EP1905734A1
公开(公告)日：2008-04-02
申请号：EP07117116.9
申请日：2007-09-25
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , STMicroelectronics SA
发明人： Casset, Fabrice , Durand, Cédric , Ancey, Pascal
IPC分类号： B81C1/00 , H03H3/007 , H03H9/24
CPC分类号： B81C1/0065 , B81B2201/0271 , B81B2207/015 , H03H3/0073 , H03H9/1057 , H03H9/2405 , H03H2009/02496
摘要： Procédé de réalisation d'un composant électromécanique (10) sur un substrat (15) plan et comportant une structure vibrante (22) dans le plan du substrat et des électrodes d'actionnement (23), comportant les étapes de :
- formation du substrat comportant une zone en silicium (16) recouverte en partie par deux zones isolantes (18),
- formation d'une couche sacrificielle en alliage de silicium / germanium par épitaxie sélective à partir de la partie non recouverte de la zone en silicium,
- formation par épitaxie d'une couche (20) en silicium, fortement dopé, comportant une zone monocristalline (20b) disposée sur ladite couche sacrificielle et deux zones polycristallines (20a) disposées sur les zones isolantes,
- formation simultanée de la structure vibrante et des électrodes d'actionnement, par gravure dans la zone monocristalline d'un motif prédéterminé destiné à former des espaces (24) entre les électrodes et la structure vibrante,
- élimination par gravure sélective de ladite couche sacrificielle.
摘要翻译：该方法包括通过来自平面衬底（15）的上表面的未覆盖部分的选择性外延形成基于锗和硅合金的牺牲层。通过外延形成在牺牲层上具有单晶区的强掺杂硅层（20）和绝缘区（18）上的多晶区。通过在单晶区域中雕刻形成激活电极（23）和振动结构（22），并且预设图案在电极和结构之间形成空间。消除牺牲层。

6. 发明公开

EP1717830A1 Micro-condensateur électromécanique à capacité variable et procédé de fabrication d'un tel micro-condensateur 有权
标题翻译：具有用于制造这样的电容器的可变电容和方法机电微电容器
公开(公告)号：EP1717830A1
公开(公告)日：2006-11-02
申请号：EP06354011.6
申请日：2006-03-20
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
发明人： Casset, Fabrice
IPC分类号： H01G5/04
CPC分类号： H01G5/18
摘要： Une première électrode (6) est solidaire d'une poutre (1) ayant deux extrémités (2) solidaires d'un support fixé sur un substrat (4). Des contraintes résiduelles provoquent un flambement de la poutre (1), de manière à ce que la flèche (10) de la poutre (1) soit proche d'au moins une seconde électrode (7). Le support peut être constitué par un anneau (3) fixé au substrat (4) par l'intermédiaire de deux socles de fixation (5) disposés de part et d'autre de l'anneau (3) sur un axe de fixation passant par le centre de l'anneau (3), la poutre (1) étant disposée sur un diamètre de l'anneau (3) perpendiculaire à l'axe de fixation. L'anneau (3) comporte au moins une couche sous contrainte en traction selon l'axe de fixation. La poutre (1) peut comporter au moins une couche sous contrainte en compression selon un axe longitudinal de la poutre (1). La seconde électrode (7) peut être solidaire d'un support supplémentaire (8), la poutre (1) étant disposé entre le substrat (4) et la seconde électrode (7).
摘要翻译：该电容器具有对衬底电极（6）集成到梁（1）包括两个端部（2）与环集成（3）固定到（4）通过利用两个安装基座（5）。电极（7）被集成以额外支撑（8）和所述光束在基板和电极之间设置。由于在基片上的环的固定残余力挑起波束搜索的屈曲做了梁的弯曲（10）所带来的电极附近（7）。电极（6）的中心部分是在光束的静止位置靠近电极（7）。因此独立claimsoft包括用于制造机电微电容器的方法。

7. 发明公开

EP1900679A1 Mise en forme d'une couche sacrificielle pour realiser un element suspendu 审中-公开
标题翻译：成分einer Opferschicht，um einaufgehängtes元素herzustellen
公开(公告)号：EP1900679A1
公开(公告)日：2008-03-19
申请号：EP07116290.3
申请日：2007-09-13
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
发明人： Casset, Fabrice , Soulimane, Sofian
IPC分类号： B81B3/00 , H01G5/16
CPC分类号： B81C1/00158 , B81B2203/0109 , B81C1/00103 , B81C2201/0108 , H01G5/011 , H01G5/18
摘要： L'invention concerne un procédé de réalisation d'une couche sacrificielle, comprenant les étapes de :
- lithographie d'une résine déposée sur un substrat pour fournir un motif de résine lithographiée sur une zone de substrat, la zone ayant une taille donnée et une forme donnée, le motif occupant un volume donné,
- recuit selon un cycle thermique du motif de résine lithographiée,
le procédé étant caractérisé en ce qu'il comprend, en fonction de la résine, la détermination de la taille et de la forme de ladite zone du substrat, et la détermination du volume de la résine déposée sur ladite zone pour que le cycle thermique de recuit fournisse un profil choisi parmi l'un des profils suivants : un profil bombé planarisant et un profil en « double air gap ».
摘要翻译：该方法包括基于热循环退火光刻树脂图案。基于树脂确定硅衬底（20）的区域的尺寸和形状。确定沉积在区域上的树脂的体积，使得热循环提供选自平坦化膨胀和双气隙部分中的部分，其中该部分具有用作支撑物的牺牲层以形成悬浮元件，例如，可变电容器。尺寸，形状和体积由元件的共振频率的定界确定，以限定将元件与区域分开的间隔。

8. 发明授权

EP1717830B1 Micro-condensateur électromécanique à capacité variable et procédé de fabrication d'un tel micro-condensateur 有权
标题翻译：具有用于制造这样的电容器的可变电容和方法机电微电容器
公开(公告)号：EP1717830B1
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：EP06354011.6
申请日：2006-03-20
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE
发明人： Casset, Fabrice
IPC分类号： H01G5/04
CPC分类号： H01G5/18

9. 发明授权

EP2144369B1 Résonateur à ondes de volume 有权
标题翻译： Volumenwellenresonator
公开(公告)号：EP2144369B1
公开(公告)日：2011-07-06
申请号：EP09164684.4
申请日：2009-07-06
申请人： ST MICROELECTRONICS S.A. , Commissariat à l'Énergie Atomique et aux Énergies Alternatives
发明人： Durand, Cédric , Casset, Fabrice
IPC分类号： H03H9/02 , H03H9/24 , H03H3/007
CPC分类号： H03H9/02448 , H03H3/0076 , H03H9/2436 , H03H9/2463 , H03H2009/0237 , H03H2009/02496 , H03H2009/2442

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