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    • 5. 发明公开
    • Compositions cosmétiques détergentes et utilisation
    • Kosmetische Tensid Zusammensetzung sowie ihre Verwendung
    • EP0974335A1
    • 2000-01-26
    • EP99401699.6
    • 1999-07-07
    • L'OREAL
    • Restle, SergeDubief, Claude
    • A61K7/06A61K7/48A61K7/50
    • A61K8/898A61K8/44A61K8/463A61K8/817A61K2800/5426A61K2800/596A61Q5/02A61Q5/12A61Q19/00A61Q19/10Y10S514/881
    • L'invention concerne de nouvelles compositions détergentes et conditionnantes comprenant, dans un milieu cosmétiquement acceptable, (A) une base lavante comprenant au moins un tensioactif anionique et au moins un tensioactif amphotère et (B) au moins une silicone aminée ayant un indice d'amine supérieur ou égal à 0,4 meq./g, le rapport en poids tensioactif amphotère / tensioactif anionique étant supérieur ou égal à 0,2.
      Application au nettoyage et au soin des cheveux ou de la peau.
    • 化妆品单组分洗涤剂和调理剂配方含有阴离子洗涤剂,两性洗涤剂和胺化硅酮。 化妆品洗涤剂和调理组合物在合适的水性介质中包含(A)包含至少一种阴离子表面活性剂和至少一种两性表面活性剂的洗涤碱,和(B)至少包含胺指数为 大于或等于0.4meq / g,特别是0.5-5meq / g,选自(a)式(I)的阳离子硅氧烷聚合物; R'aG3-a-Si(OSiG2)n-(OSiGbR'2-b)m-O-SiG3-a-R'a(I)G = H,苯基,OH或1-8C烷基如Me; a = 0或整数1-3,特别是0; b = 0或1,特别是1; m和n =(n + m)= 1-2000(50-150),n = 0-1999(49-149)和m = 1-2000(1-10)的数字; R'=式-CqH2qL的一价基团,其中q = 2-8,L =选自-N(R)-CH 2 -CH 2 -N(R)2 -N(R)2 -N + (R)A 1 -N - (R)-CH 2 -CH 2 -N + RH2A(R) 其中R(相同或不同)= H,苯基,苄基或饱和一价烃基如1-20C烷基,特别是Me; A是有机或无机阴离子(b)式(IV)的阳离子硅氧烷聚合物; R5 = 1-18C一价烃基,特别是1-18 C烷基或2-18 C烯基,特别是Me; R6 =二价烃基,特别是1-18(1-8C)亚烷基或1-18C(1-8C)亚烷基氧基; 有机或无机阴离子; r =统计平均值2-20,特别是2-8; s = 20-200的统计平均值,特别是20-50重量比的两性表面活性剂/阴离子表面活性剂大于或等于0.2,优选0.3-3。