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    • 1. 发明公开
    • Strahungsempfindliche Zusammensetzung und ein diese enthaltendes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial für Flexodruckplatten
    • Strahungsempfindliche组合物和含有此用于柔性版印刷版的辐射敏感记录材料
    • EP0819984A1
    • 1998-01-21
    • EP97111787.4
    • 1997-07-11
    • DU PONT DE NEMOURS (DEUTSCHLAND) GMBH
    • Fröhlich, Helmut H., Dr.Schröder, Hans Leander
    • G03F7/033
    • G03F7/033
    • Die Erfindung betrifft eine strahlungsempfindliche Zusammensetzung, enthaltend

      a) mindestens ein polymeres thermoplastisches, elastomeres, radiales Blockcopolymer der Formel (I)

              ((A)n-(HD)) X -Y-((UD)-(A)m) Z      (I)

      ist, wobei A ein Polyvinylarylblock mit einem gewichtsgemitteltem Molekulargewicht von 4000 bis 20000 ist, m und n jeweils 0 oder 1 ist und im Molekül mindestens zwei Polyvinylarylblöcke A vorliegen müssen, HD ein hydrierter Polymerblock eines konjungierten Dienes mit einem gewichtsgemitteltem Molekulargewicht von 10000 bis 100000, Y eine mehrfunktionale Verbindung, UD ein nicht hydrierter Polymerblock eines konjungierten Dienes mit einem gewichtsgemitteltem Molekulargewicht von 1000 bis 80000, x eine ganze Zahl von 2 bis 20, z eine ganze Zahl von 1 und 10 ist, die Summe von x und z 3 bis 30 beträgt und der gewichtsmäßige Anteil der Summe der Polyvinylarylblöcke von 4 bis 35% beträgt,
      b) mindestens eine additionspolymerisierbare, ethylenisch ungesättigte Verbindung,
      c) mindestens ein Photoinitiator und/oder Photoinitiatorsystem, das unter Einstrahlung von aktinischem Licht in der Lage ist, eine Additionspolymerisation zu starten,
      sowie ein daraus hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial, welches zur Herstellung von Druckformen für den Flexodruck mit besonders niedriger Quellung in esterhaltigen Flexodruckfarben und mit verbesserter Ozonresistenz geeignet ist.
    • 辐射敏感组合物(RSC)含有(A)聚合,热塑性塑料,弹性体粘合剂(S),(b)加入聚合的化合物(S)与末端烯属不饱和度,(c)至少一种光引发剂(系统)和(d) 任选的添加剂等的粘合剂(A)包含式(I)的径向嵌段共聚物。 ((A)(N-HD))×-Y - ((UD) - (A)M)Z(I)4000一wt.均分子重量(Mw)与20.000 A =聚 - 芳基块;. 米,n = 0或1; 10000的Mw基于共轭HD =氢化聚合物嵌段〜100,000服务; Y =多官能化合物; UD =未氢化的嵌段具有1000的Mw 80000基于共轭服务; X = 2-20; Z = 1-10; X + Z = 3-30; (I)含有至少两个嵌段(A),具有4-35%(重量)(A)的总含量。 所以声称是包括片基,覆盖电影,可光聚合的层间(S)RSC由......组成,和任选的其它层基部和外电影之间的辐射敏感记录材料。