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    • 3. 发明公开
    • Verfahren zur Herstellung eines Silikates
    • 韦尔法罕zur Herstellung eines Silikates
    • EP2634145A2
    • 2013-09-04
    • EP13158384.1
    • 2006-10-11
    • BASF SErubitec Gesellschaft für Innovation und Technologie der Ruhr-Universität Bochum mbH
    • Müller, UlrichRuetz, RogerGies, Hermann
    • C01B39/00C01B37/02
    • C01B37/02Y02P20/582
    • Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines mindestens Silicium und Sauerstoff enthaltenden Silikats, umfassend (1) Mischen von Siliciumdioxid und/oder eines Siliciumdioxid-Precursors mit einer wässrigen Lösung, enthaltend mindestens eine R 1 R 2 R 3 R 4 N + umfassende Tetraalkylammoniumverbindung und mindestens eine Base, wobei R 1 und R 2 gleich Methyl und sowohl R 3 als auch R 4 gleich n-Propyl sind; (2) Erwärmen der unter (1) erhaltenen kolloidalen Lösung auf eine Temperatur im Bereich von größer der unter dem gewählten Druck vorliegenden Siedetemperatur der kolloidalen Lösung bis 180°C bei Normaldruck unter Erhalt einer mindestens ein Silikat enthaltenden Suspension, dadurch gekennzeichnet, dass als Kristallisationshilfsmittel in (1) das mindestens Silicium und Sauerstoff enthaltende Silikat zugegeben wird.
    • 制备硅和含氧硅酸盐包括将二氧化硅和/或其前体与至少含有铵离子化合物(I),四烷基铵化合物和至少碱基的水溶液混合; 并在常压下以高达180℃的温度在所选择的压力下在大于胶体溶液的沸点的温度下加热获得的胶体溶液,得到含有硅酸盐的悬浮液,其中硅和氧 - 在第一步中加入含硅酸盐作为结晶支持剂。 硅和含氧硅酸盐的制备包括将二氧化硅和/或其前体与至少含有式(R 1R 2R 3R 4 N +)的铵离子化合物(I),四烷基铵化合物的水溶液和 至少一个基础类型; 并在常压下以高达180℃的温度在所选择的压力下在大于胶体溶液的沸点的温度下加热获得的胶体溶液,得到含有硅酸盐的悬浮液,其中硅和氧 - 在第一步中加入含硅酸盐作为结晶支持剂。 R 1,R 2甲基; 和R 3,R 4正丙基。 包括以下独立权利要求:(1)从该方法获得的层状硅酸盐,其含有强度为100,11-21,13-23,5-15,7-17,19-29%的反射和相应的 弯曲角为8-8.4,11-11.4,13.2-13.6,18-18.4,18.4-18.8和19.9-20,其中X射线衍射图中最高峰的强度为100%; (2)从该方法获得的硅酸盐支架,其含有强度为100,24-34,9-19,12-22和19-29的反射,相应的弯曲角为9-8-10.2,11- 11.4,15.5-15.9,19.4-19.6和19.6-19.8,其中X射线衍射图中最高峰的强度为100%; (3)包含硅酸盐支架的成型体; (4)制备成型体的方法,包括制备硅酸盐并捏合含有硅酸盐支架和至少粘合剂的混合物,捏合混合物的成形以形成模塑体,并干燥和煅烧模塑体。
    • 6. 发明公开
    • MIKROPORÖSES GERÜSTSILIKAT UND VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG
    • 维多利亚州泽西尔·赫斯特朗
    • EP1737791A1
    • 2007-01-03
    • EP05716576.3
    • 2005-04-13
    • BASF Aktiengesellschaftrubitec Gesellschaft für Innovation und Technologie der Ruhr-Universität Bochum mbH
    • MÜLLER, UlrichLIPPERT, GeraldBROWN, James, ReubenGIES, HermannMARLER, BerndSTRÖTER, NadineWANG, Yingxia
    • C01B33/20C01B37/00C01B39/02C01B39/04C04B35/16B01J29/04B01D53/02
    • C01B33/20C01B39/02C01B39/04
    • The invention relates to a tectosilicate having an X-ray diffraction pattern in which at least the following reflexes occur: (table I), 100 percent referring to the intensity of the highest peak in the X-ray diffractogram.
    • 本发明涉及至少产生以下反射的具有X射线衍射图案的片状硅酸盐:
      强度(%) 衍射角2θ/°[Cu K(alpha 1)] 100 10.2 24-34 11.0-11.4 9-19 15.5-15.9 12-22 19.4-19.6 19-29 19.6-19.8 表> 与X射线衍射图中最大峰的强度有关的100%。
        • 9. 发明授权
        • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SILIKATES
        • 用于生产硅酸盐
        • EP1937594B1
        • 2014-01-29
        • EP06794010.6
        • 2006-10-11
        • BASF SErubitec Gesellschaft für Innovation und Technologie der Ruhr-Universität Bochum mbH
        • MÜLLER, UlrichRUETZ, RogerGIES, Hermann
        • C01B37/02
        • C01B37/02Y02P20/582
        • Preparing silicon and oxygen-containing silicates comprises mixing silicon dioxide and/or its precursors with an aqueous solution containing at least an ammonium ion compound (I), tetra-alkyl ammonium compound and at least a base type; and heating the obtained colloidal solution, at a temperature greater than the boiling temperature of the colloidal solution under the selected pressure, at up to 180[deg]C at a normal pressure to obtain a suspension containing the silicate, where the silicon and oxygen-containing silicate is added as a crystallization-supporting agent in the first step. Preparation of silicon and oxygen-containing silicates comprises mixing silicon dioxide and/or its precursors with an aqueous solution containing at least an ammonium ion compound (I) of formula (R 1R 2R 3R 4N +>), tetra-alkyl ammonium compound and at least a base type; and heating the obtained colloidal solution, at a temperature greater than the boiling temperature of the colloidal solution under the selected pressure, at up to 180[deg]C at a normal pressure to obtain a suspension containing the silicate, where the silicon and oxygen-containing silicate is added as a crystallization-supporting agent in the first step. R 1,R 2methyl; and R 3,R 4n-propyl. Independent claims are included for: (1) a layered silicate, obtained from the process, containing a reflection with an intensity of 100, 11-21, 13-23, 5-15, 7-17, 19-29% and a corresponding bending angle of 8-8.4, 11-11.4, 13.2-13.6, 18-18.4, 18.4-18.8 and 19.9-20, where the intensity of the highest peak in the X-ray diffractogram is 100%; (2) a silicate scaffold, obtained from the process, containing a reflection with an intensity of 100, 24-34, 9-19, 12-22 and 19-29 and a corresponding bending angle of 9-8-10.2, 11-11.4, 15.5-15.9, 19.4-19.6 and 19.6-19.8, where the intensity of the highest peak in the X-ray diffractogram is 100%; (3) a molded body comprising the silicate scaffold; and (4) a procedure for preparing the molded body comprising preparing the silicate and kneading a mixture containing the silicate scaffold and at least a binding agent, shaping of the kneaded mixture to form the molded body, and drying and calcinating the molded body.