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1. 发明公开

EP2982779A3 VERFAHREN ZUR ELEKTROCHEMISCHEN ABSCHEIDUNG HALBLEITENDER MATERIALIEN UND ELEKTROLYTEN HIERZU 有权转让
标题翻译：方法电化学分离半导电材料和电解液THEREFOR
公开(公告)号：EP2982779A3
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：EP15176214.3
申请日：2015-07-10
申请人： Happy Plating GmbH
发明人： MANN, Rudolf , HANSAL, Wolfgang
IPC分类号： C25D3/02 , C25D7/00 , C25D9/08 , C25D5/18 , C25D5/20
CPC分类号： C25D7/00 , C25D3/02 , C25D5/18 , C25D5/20 , C25D9/08
摘要： Die Erfindung betrifft einen Elektrolyt zur elektrochemischen Abscheidung halbleitender Materialien, insbesondere Antimonide, Arsenide, Selenide und Telluride, aus wässrigen Salzlösungen, mit einem ersten Komplexbildner, insbesondere Diethylentriaminpentaessigsäure (DTPA), sowie zumindest einem zusätzlichen Komplexbildner, wobei der zumindest eine zusätzliche Komplexbildner eine Tricarbonsäure und/oder eine Aminocarbonsäure ist, sowie ein Verfahren hierzu.

2. 发明公开

EP2342371A2 ELEKTROCHEMISCHES BESCHICHTUNGSVERFAHREN 审中-公开
公开(公告)号：EP2342371A2
公开(公告)日：2011-07-13
申请号：EP09740674.8
申请日：2009-10-21
申请人： Happy Plating GmbH
发明人： HANSAL, Selma , HALMDIENST, Martina , HANSAL, Wolfgang
IPC分类号： C25D5/10 , C25D5/18 , C25D15/00 , C23C28/00
CPC分类号： C25D5/10 , C23C18/1653 , C23C18/31 , C25D3/66 , C25D3/665 , C25D5/18 , C25D5/48 , C25D15/00
摘要： The invention relates to an electrochemical coating method for depositing at least one layer on at least one work piece in a deposition bath, comprising at least one deposition sequence (P) that is repeated at least once, wherein provided within the at least one deposition sequence (P) are at least two individual sequences (A, B, C), and each individual sequence (A, B, C) comprises a specific deposition method, and the at least two individual sequences (A, B, C) comprise different deposition methods within a deposition sequence (P).
摘要翻译：用于在包含重复一次的沉积序列（P）的沉积浴中的金属工件或非金属工件上沉积金属层的电化学涂覆方法包括提供两个单独的序列（A，B，C）在沉积顺序内，其中两个单独序列在沉积序列内包含不同的沉积过程。每个单独的序列包括直流电流，纯阴极脉冲，阴极和阳极脉冲的组合以及阴极和阳极脉冲与多达500个单个脉冲的组合。用于在包含重复一次的沉积序列（P）的沉积浴中的金属工件或非金属工件上沉积金属层的电化学涂覆方法包括提供两个单独的序列（A，B，C）在沉积顺序内，其中两个单独序列在沉积序列内包含不同的沉积过程。每个单独的序列包括直流电流，纯阴极脉冲，阴极和阳极脉冲的组合，阴极和阳极脉冲的组合以及高达500个单个脉冲，斜坡和/或三角形脉冲，并且每个过程与基极电流。在两个连续的单个过程之间和/或在沉积序列流动之后，执行外部电流的中断。沉积工艺包括随后的脉冲沉积的直流沉积。基极电流占沉积电流密度的1-75％。单个序列的持续时间为1-3000 ms。沉积浴由盐水盐溶液和/或离子液体组成。沉积浴由用于安装到沉积层中的固体材料组成。固体材料是颗粒，纤维，薄片和/或纳米管。该涂层包括2-12层，其经受直流，纯阴极脉冲，阴极和阳极脉冲的组合，阴极和阳极脉冲的组合与多达500个单个脉冲，斜坡和/或三角形脉冲，以及每个该过程与基极电流组合。两层受到不同的处理。第二层遵循在工件表面上经受的第一主层，其中第二层包括比主层增加的层厚度。第二上层与第二层相邻，其中上层的层厚小于第二层。第二层是通过无流程生产的。在所施加的层之间进行热处理。这些层被等离子体氧化物处理。

3. 发明公开

EP2982779A2 VERFAHREN ZUR ELEKTROCHEMISCHEN ABSCHEIDUNG HALBLEITENDER MATERIALIEN UND ELEKTROLYTEN HIERZU 有权转让
标题翻译：方法电化学分离半导电材料和电解液THEREFOR
公开(公告)号：EP2982779A2
公开(公告)日：2016-02-10
申请号：EP15176214.3
申请日：2015-07-10
申请人： Happy Plating GmbH
发明人： MANN, Rudolf , HANSAL, Wolfgang
IPC分类号： C25D3/02 , C25D7/00 , C25D9/08 , C25D5/18 , C25D5/20
CPC分类号： C25D7/00 , C25D3/02 , C25D5/18 , C25D5/20 , C25D9/08
摘要： Die Erfindung betrifft einen Elektrolyt zur elektrochemischen Abscheidung halbleitender Materialien, insbesondere Antimonide, Arsenide, Selenide und Telluride, aus wässrigen Salzlösungen, mit einem ersten Komplexbildner, insbesondere Diethylentriaminpentaessigsäure (DTPA), sowie zumindest einem zusätzlichen Komplexbildner, wobei der zumindest eine zusätzliche Komplexbildner eine Tricarbonsäure und/oder eine Aminocarbonsäure ist, sowie ein Verfahren hierzu.
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体材料，特别是锑化物，砷化物，硒化物和碲化物，从盐水溶液的电化学沉积的电解质，用的第一种络合剂，尤其是二亚乙基三胺五乙酸（DTPA），以及至少一种另外的配位剂，其中，所述至少一个额外的络合三羧酸和是/或氨基羧酸，并且用于此目的的方法。

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