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    • 5. 发明公开
    • Procédé de production d'une solution de produit chimique à partir de la phase liquide d'un produit chimique
    • 一种用于从化学产品的液相制备化学产品的溶液的过程
    • EP1325887A1
    • 2003-07-09
    • EP02293153.9
    • 2002-12-19
    • Air Liquide Electronics Systems
    • Dulphy, HervéDuchateau, Eric
    • C01B7/07C01B7/19C01C1/02
    • C01B7/0712B01D3/143B01D53/14C01B7/0737C01B7/195C01B7/196C01C1/024
    • Le procédé de production d'une solution ultra pure d'un produit chimique à partir du produit chimique sous forme de gaz liquéfié comprimé de l'invention, est caractérisé en ce qu'on utilise un gaz de qualité industrielle et en ce qu'il comprend a) l'introduction du produit chimique dans un dispositif de distillation où il est fractionné en une fraction lourde contaminée et en une fraction gazeuse purifiée, b) l'introduction de la fraction gazeuse purifiée dans un dispositif d'absorption où elle est mise en contact avec de l'eau désionisée provenant d'une capacité tampon, et c) la récupération de la solution formée à l'étape b), dans la capacité tampon, et d) optionnellement la recirculation de la solution contenue dans la capacité tampon dans le système d'absorption jusqu'à obtenir une solution ayant la concentration voulue en produit chimique, la solution contenue dans la capacité tampon remplaçant alors l'eau désionisée.
      L'invention trouve application dans le domaine de la fabrication de solutions ultra pures.
    • 的液体化学品产物分馏在蒸馏装置(5,6,7)代入污染液体重和纯化气体。 将纯化的气体在其被放置在接触用离子交换水从缓冲存储器(13)吸收器(12)被发送到。 所得到的溶液被回收。 的吸收和回收阶段可以重复,以获得在缓冲存储器包含在缓冲存储器的溶液之前它被再循环到吸收器中冷却或在热交换器(15)加热的所需的浓度。 化学品的浓度和它的在缓冲存储器水平在缓冲存储器永久控制和化学产品的蒸馏塔和水加入到缓冲存储器的量被控制为所期望的浓度和含量的函数。 所述化学产品被引入到蒸馏装置中的液体和/或气态的形式。所述化学产品是NH3,HCl或HF。 所述化学产品存储在一个存储罐(1),它可以包含其作为工业质量的压缩液体。 压力膨胀装置(2)扩展的液化气体。 连接所述储罐到蒸馏装置中的管(4)包含一个阀(3)和从蒸馏设备携带所述经净化的气体的溶解装置(吸收体)的管(11)包含一个阀(9)。 该蒸馏装置包括一个锅炉(5),蒸馏塔(6)和(7)通过管(10)供给用冷却的水的冷凝器带截止阀(8)。 蒸馏柱填充或具有板。 吸收塔(12),商店(13),用于去离子水的溶解装置包括连接到进料管(20)配有一个止动和/或控制阀(19)和泵(17)。 因此,该系统包括提取从缓冲存储溶液在商店和吸收柱的顶部之间的配管(14)的热交换器(15),以及装置(18)。 因此,该系统包括用于作为浓度的(22)的函数,并且在缓冲存储器溶液的水平的控制入口流动。