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21. 发明公开

EP1625108A1 SEPARATION D'UN DIACETAL DU GLYOXAL PAR EXTRACTION LIQUIDE-LIQUIDE A CONTRE-COURANT 有权
标题翻译： GLYOXALDIACETALEN的液 - 液萃取分离逆流
公开(公告)号：EP1625108A1
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：EP04742769.5
申请日：2004-05-18
申请人： Clariant (France) S.A.
发明人： SIMON, Olivier , BLEGER, François , SCHOUTEETEN, Alain
IPC分类号： C07C41/58 , C07C43/303 , C07C45/80 , C07C47/198
CPC分类号： C07C43/303 , C07C41/58 , C07C45/80 , C07C47/198
摘要： The invention relates to a method for separating a diacetal of the glyoxal of a raw mixture comprising said diacetal of the glyoxal and a monoacetal of the glyoxal, by means of counter-current liquid-liquid extraction.

22. 发明公开

EP1125908A1 New phenolic compounds derived from dialkoxyethanals, their preparation process and their application 有权
标题翻译：从Dialkoxyethanalen取得新的酚类化合物，它们的制备方法和它们的应用
公开(公告)号：EP1125908A1
公开(公告)日：2001-08-22
申请号：EP01810115.4
申请日：2001-02-06
申请人： Clariant (France) S.A.
发明人： Wilhelm, Didier , Esmard, Florence
IPC分类号： C07C43/315 , C08G8/00
CPC分类号： C07C43/315 , C08G8/04 , C08L61/06
摘要： New phenolic compounds of formula (I)

R= C 3 -C 17 dialkoxymethyl group, 1,3-dioxolan-2-yl group optionally substituted on peaks 4 and/or 5 by one or more C 1 -C 8 alkyls or 1,3-dioxan-2-yl group optionally substituted on peaks 4 and/or 5 and/or 6 by one or more C 1 -C 8 alkyls.
n = 1, 2 or 3, the group or groups
are in o and/or p position of the OH of the cycle
m = from 0 to 4-n, X = functional group such as OH or Hal or C 1 -C 8 alkyl or alkoxy group or C 5 -C 12 aryl group and optionally 1 or 2 heteroatoms such as N or O, or carboxy or -CO-Y group where Y = C 1 -C 8 alkyl or alkoxy or amido or amino or thiol group, on condition that at least one of the ortho or para positions of the phenolic cycle is substituted by a hydrogen, and their salts with the alkali metals, alkaline-earth metals and amines.
摘要翻译：式（I）的新的酚类化合物 R = C3-C17二烷氧基，1,3-二氧戊环-2-基任选被一个或多个C1-C8烷基或1.3的峰4和/或5 substituiertem 二恶烷-2-基，任选地substituiertem上峰4和/或5和/或6被一个或多个C1-C8烷基。 n = 1时，2或3时，基团或基团是在周期米OH =从0到4-n，X =官能团的邻和/或对位：如OH或Hal或C1 C8烷基或烷氧基或C5-C12芳基和任选1或2个杂原子：如N或O，或羧基或-CO-Y基团，其中Y = C 1 -C 8烷基或烷氧基或酰氨基或氨基或硫醇基团，条件做了酚醛周期的邻位或对位中的至少一个被氢取代，及其与碱金属，碱土金属和cardamines盐。

23. 发明公开

EP1116719A2 3-(1-Hydroxy-pentylidene)-5-nitro-3H-benzofuran-2-one, a process for the preparation thereof and the use thereof 有权
标题翻译： 3-（1-羟基 - 亚戊基）-5-硝基-3H-苯并呋喃-2-酮，其制备方法及其用途
公开(公告)号：EP1116719A2
公开(公告)日：2001-07-18
申请号：EP01810033.9
申请日：2001-01-15
申请人： Clariant (France) S.A.
发明人： Schouteeten, Alain , Mordacq, Françoise
IPC分类号： C07D307/83 , C07D307/79
CPC分类号： C07D307/83
摘要： A compound corresponding to formula (I) or its ketonic tautomer form (II)

which is 3-(1-hydroxy-pentylidene)-5-nitro-3H-benzofuran-2-one, a process for the preparation and use of the compound corresponding to formula (I) or its tautomeric form (II), a process for the preparation and use, particularly for the production of synthesis intermediates.
摘要翻译：对应于式（I）的化合物或其为3-（1-羟基 - 亚戊基）-5-硝基-3H-苯并呋喃-2-酮的酮类互变异构体形式（II）的化合物，该化合物的制备方法和用途对应于式（I）或其互变异构形式（II）的用于制备和使用，特别是用于生产合成中间体的方法。

24. 发明公开

EP1111023A2 Suspension aqueuse neutre de silice colloidale 失效
标题翻译： Neutrale wassrige暂停von kolloidalenKieselsäure
公开(公告)号：EP1111023A2
公开(公告)日：2001-06-27
申请号：EP01101577.3
申请日：1998-03-26
申请人： Clariant (France) S.A.
发明人： Jacquinot, Eric , Rivoire, Maurice , Euvrard, Catherine
IPC分类号： C09K3/14 , H01L21/321 , H01L21/3105
CPC分类号： H01L21/02024 , C01B33/143 , C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/3043 , H01L21/31053 , H01L21/3212
摘要： Une suspension aqueuse à pH neutre ou proche de la neutralité de silice colloïdale comprenant des particules de silice colloïdale individualisées, non liées entre elles par des liaisons siloxanes, et de l'eau comme milieu de suspension.
摘要翻译：掺杂氧化硅或硅半导体层的化学机械抛光使用中性或接近中性pH，优选pH 6-8的水性胶体二氧化硅悬浮液进行。优选地，悬浮液由含有悬浮的单个胶体二氧化硅颗粒的水组成，其不与硅键合键合并且直径为3-250nm。还要求保护的是磨料，其包括用上述悬浮液浸渍的织物。用于基于硅（例如多晶硅，外延硅或非晶硅）或基于掺杂的氧化硅（例如磷硅酸盐或硼磷硅酸盐玻璃）的半导体材料层的化学机械抛光。

25. 发明公开

EP1046690A1 Composition for mechanical chemical polishing of layers in an insulating material based on a polymer with a low dielectric constant 有权
标题翻译：一种用于基于聚合物具有低Dielektrizitätskonstanz绝缘材料层的机械化学抛光组合物
公开(公告)号：EP1046690A1
公开(公告)日：2000-10-25
申请号：EP00810343.4
申请日：2000-04-19
申请人： Clariant (France) S.A.
发明人： Jacquinot, Eric , Letourneau, Pascal , Rivoire, Maurice
IPC分类号： C09G1/02 , C09K3/14 , H01L21/3105
CPC分类号： C09G1/02
摘要： A composition for mechanical chemical polishing of a layer in an insulating material based on a polymer with a low dielectric constant, comprising an acid aqueous suspension of cationized colloidal silica containing individualized colloidal silica particles not linked to each other by siloxane bonds and water as the suspension medium, process for mechanical chemical polishing of a layer of insulating material based on a polymer with a low dielectric constant and abrasive for the mechanical chemical polishing of a layer of insulating material based on a polymer with a low dielectric constant.
摘要翻译：在基于与含有单个化的阳离子化的胶态二氧化硅胶态二氧化硅粒子的酸wässrige悬架的低介电常数包括聚合物绝缘材料中的层的机械化学抛光的组合物。二氧化硅粒子不是由硅氧烷键连接到海誓山盟。因此独立权利要求中包括了以下内容：对于基于具有低介电常数，其包括摩擦使用织物含有磨料其中含有所述酸wässrige悬浮液中的层的聚合物绝缘材料层的机械化学抛光的（a）的方法; 和（b）的磨料为绝缘材料基于具有低介电常数的聚合物，包括与所述酸wässrige悬浮液浸渍的织物，用具有直径为3-250纳米的二氧化硅颗粒的层的机械化学抛光和其pH为1-6的悬浮液中。

26. 发明公开

EP1008631A1 Silico-acrylic compositions, method of preparation and application to the obtaining of coatings resistant to abrasion and scratching 审中-公开
标题翻译：硅 - 丙烯酸系组合物，方法磨损它们的制备和应用，以保持和耐划痕涂层
公开(公告)号：EP1008631A1
公开(公告)日：2000-06-14
申请号：EP99811104.1
申请日：1999-12-01
申请人： Clariant (France) S.A.
发明人： Wilhelm, Didier , Eranian, Armand , Vincent, Philippe
IPC分类号： C09D4/00 , C08F230/08 , C08F222/10
CPC分类号： C09D4/00 , C08F222/1006 , C08F230/08
摘要： Fluid silico-acrylic compositions, which can be polymerised by heat and radiation, by radical-type mechanism, with very low water (less than 1%) and volatile solvent content, containing silica, a silane and a multifunctional acrylic monomer, in which the silica is in the form of individualised particles, with a mean diameter of between 40 and 100 nm, not linked to each other by siloxane bonds, and the silane is a vinylsilane of formula (I)

H 2 C=CH - Si(OR) 3 (I)

in which R represents a methyl or ethyl radical and the multifunctional acrylic monomer is 1,6-hexanediol diacrylate, and which are transparent, colourless and stable over time.
摘要翻译：流体硅 - 丙烯酸系组合物，其可通过加热和辐射进行聚合，通过自由基型机构，具有非常低的水（小于1％）和挥发性溶剂含量，将含有二氧化硅，硅烷和多官能丙烯酸类单体，其中，所述二氧化硅是在个性化的颗粒形式，以40和纳米之间100，不以硅氧烷键相互连接的平均直径，并且所述硅烷是式（I）H 2 C的乙烯基硅烷= CH - 硅（OR）3在其中R darstellt一个甲基或乙基和多官能丙烯酸单体是1,6-己二醇二丙烯酸酯，和其是透明的，无色的和随时间稳定。

27. 发明公开

EP1000995A1 Abrasive composition for the electronics industry 有权
标题翻译： Schleifmittelzusammensetzung zur Verwendung in der Elektronikindustrie
公开(公告)号：EP1000995A1
公开(公告)日：2000-05-17
申请号：EP99811011.8
申请日：1999-11-04
申请人： Clariant (France) S.A.
发明人： Jacquinot, Eric , Letourneau, Pascal , Rivoire, Maurice
IPC分类号： C09K3/14 , H01L21/3105 , C09G1/02
CPC分类号： C09G1/02 , C09K3/1463 , H01L21/31053
摘要： Abrasive composition for the integrated circuits electronics industry comprising an aqueous acid suspension of individualized colloidal silica particles not linked to each other by siloxane bonds and an abrasive surfactant, this abrasive being for mechanical chemical polishing in the integrated circuits industry, comprising a fabric impregnated by such a composition, and a process for mechanical chemical polishing.
摘要翻译：用于集成电路电子工业的研磨组合物包括通过硅氧烷键彼此不连接的单独胶体二氧化硅颗粒的水性酸悬浮液和研磨性表面活性剂，该研磨剂用于集成电路工业中的机械化学抛光，其包含浸渍在其中的织物组合物和机械化学抛光方法。

28. 发明授权

EP0688769B1 Méthode de préparation de la 2-coumaranone 有权转让
标题翻译：一种用于2-香豆冉酮的制备方法
公开(公告)号：EP0688769B1
公开(公告)日：2000-03-22
申请号：EP95401385.0
申请日：1995-06-14
申请人： Clariant (France) S.A.
发明人： Vallejos, Jean-Claude , Perrard, Alain , Christidis, Yani , Gallezot, Pierre
IPC分类号： C07D307/83
CPC分类号： C07D307/83 , Y02P20/582

29. 发明公开

EP0864557A1 Procédé industriel de préparation en continu de l'orthohydroxymandélate de sodium 失效
标题翻译：工业葡萄酒
公开(公告)号：EP0864557A1
公开(公告)日：1998-09-16
申请号：EP98400490.3
申请日：1998-03-02
申请人： Clariant (France) S.A.
发明人： Sidot, Christian
IPC分类号： C07C51/367 , C07C59/52
CPC分类号： C07C51/367 , Y02P20/582 , C07C59/52
摘要： Procédé industriel de fabrication de l'orthohydroxymandélate de sodium par condensation en atmosphère inerte du phénol avec de l'acide glyoxylique en solution aqueuse, en présence d'une amine tertiaire et de quantités catalytiques d'un cation métallique trivalent à une température inférieure à 100 °C réalisé en continu dans au moins deux réacteurs (R1 ... Rn) montés en série, le premier étant alimenté par une première cuve C1 renfermant l'acide glyoxylique et les cations métalliques trivalents, et une seconde cuve C2 renfermant le phénol et l'amine tertiaire, que le milieu réactionnel obtenu à la sortie du dernier des au moins deux réacteurs et composé d'une phase aqueuse et d'une phase organique est transféré dans le premier de deux mélangeurs décanteurs (MD1 et MD2) montés en série, que l'on récupère la phase aqueuse du premier mélangeur - décanteur MD1 pour en extraire l'orthohydroxymandélate de sodium attendu tandis que la phase organique issue de MD1 est transférée dans le second mélangeur-décanteur MD2 et lavée avec de l'eau, et que l'on transfère la phase organique du deuxième mélangeur-décanteur MD2 vers la seconde cuve (C2).
摘要翻译：邻羟基扁桃酸钠的工业制备包括在惰性气氛下，在叔胺和催化剂三价金属阳离子的存在下，在<100℃下将苯酚与乙醛酸水溶液缩合。该方法在两个反应容器（R1，Rn）中连续进行，串联连接第一个由包含乙醛酸和三价金属阳离子的容器（C1）进料，由水相和有机相组成的两个反应器的出口被转移到连接的两个混合器（MD1，MD2）中的第一个串联。收集来自第一混合器的水相，然后提取原羟基扁桃酸钠。将来自第一混合器的有机相转移到其中进行洗涤的第二混合器中。将来自第二混合器的有机相转移到容器（C2）中。

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