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11. 发明授权

EP0602376B1 N,N-Disubstituierte Sulfonamide und damit hergestelltes strahlungsempfindliches Gemisch 失效
标题翻译： N，N-二取代的磺酰胺和由此产生的辐射敏感混合物
公开(公告)号：EP0602376B1
公开(公告)日：1997-04-23
申请号：EP93117979.0
申请日：1993-11-05
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Eichhorn, Mathias, Dr. , Buhr, Gerhard, Dr.
IPC分类号： C07C311/53 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , C07C311/53

12. 发明授权

EP0569294B1 Utilisation d'un arylsulfonyluréthanne comme résine garnissante dans les vernis à ongles nitrocellulosiques. Nouveaux arylsulfonyluréthannes et nouveaux vernis à ongles nitrocellulosiques 失效
标题翻译：施加Arylsulfonylurethans如cellulosem指甲油中部Arylsulfonylurethane增强树脂和纤维素指甲油装置
公开(公告)号：EP0569294B1
公开(公告)日：1996-07-17
申请号：EP93401156.0
申请日：1993-05-05
申请人： SOCIETE NATIONALE DES POUDRES ET EXPLOSIFS
发明人： Lecacheur, Maryse , Mutterer, Vincent , Wimmer, Eric
IPC分类号： C07C311/53 , A61K7/043
CPC分类号： C07C311/53 , A61K8/466 , A61K8/731 , A61K8/87 , A61Q3/02

13. 发明公开

EP0648749A3 N-Cyanoaryl-Stickstoffheterocyclen 失效转让
标题翻译： N-CYNANOARYL NITROGENCONTAINING HETEROCYCLES。
公开(公告)号：EP0648749A3
公开(公告)日：1995-04-26
申请号：EP94112295.4
申请日：1994-08-05
申请人： BAYER AG
发明人： Andree, Roland, Dr. , Drewes, Mark Wilhelm, Dr. , Marhold, Albrecht, Dr. , Santel, Hans-Joachim, Dr. , Dollinger, Markus, Dr.
IPC分类号： C07D239/54 , C07D239/52 , C07C265/12 , C07C311/53 , A01N43/54
CPC分类号： C07D239/54 , A01N43/54 , C07C265/12 , C07C271/28 , C07C271/38 , C07C311/53 , C07D239/553
摘要： Die Erfindung betrifft neue N-Cyanoaryl-Stickstoffheterocyclen der allgemeinen Formel (I)

in welcher
R¹, R², R³, R⁴ und Z die in der Beschreibung genannten Bedeutungen haben,
mehrere Verfahren zu ihrer Herstellung, ihre Verwendung als Herbizide sowie neue Zwischenprodukte.

14. 发明公开

EP0602377A1 Polymere mit N,N-disubstituierten Sulfonamid-Seitengruppen und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen 失效
标题翻译： Polymere mit N，N-disubstituierten Sulfonamid-Seitgruppen und deren Verwendung in strahlungsempfindlicher Gemische。
公开(公告)号：EP0602377A1
公开(公告)日：1994-06-22
申请号：EP93117980.8
申请日：1993-11-05
申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
发明人： Eichhorn, Mathias, Dr. , Buhr, Gerhard, Dr.
IPC分类号： C07C311/53 , C08F22/38 , G03F7/038
CPC分类号： C08F20/38 , C07C311/53 , G03F7/039 , Y10S430/107
摘要： Die Erfindung betrifft Monomere der Formeln R¹-SO₂-N(CO-OR²)-R³-O-CO-CR⁴=CH₂ und R¹-N(CO-OR²)-SO₂-R³-O-CO-CR⁴=CH₂, worin R¹ für einen (C₁-C₂₀)Alkyl-, (C₃-C₁₀)Cycloalkyl-, (C₆-C₁₄)Aryl- oder (C₇-C₂₀)Aralkylrest, wobei in den Alkyl enthaltenden Resten einzelne Methylengruppen durch Heteroatome ersetzt sein können, R² für einen (C₃-C₁₁)Alkyl-, (C₃-C₁₁)Alkenyl- oder (C₇-C₁₁)Aralkylrest, R³ für einen unsubstituierten oder substituierten (C₁-C₆)Alkyl-, (C₃-C₆)Cycloalkyl-, (C₆-C₁₄)Aryl- oder (C₇-C₂₀)Aralkylrest und R⁴ für ein Wasserstoffatom oder eine Methylgruppe steht. Sie betrifft ferner Polymere mit mindestens 5 mol-% an Einheiten mit Seitengruppen der Formel(n) -R³-N(CO-OR²)-SO₂-R¹ (I) und/oder -R³-SO₂-N(CO-OR²)-R¹ (II), sowie ein strahlungsempfindliches Gemisch, das

a) eine unter der Einwirkung aktinischer Strahlung Säure bildende Verbindung und
b) eine säurespaltbare Verbindung, deren Spaltprodukte in einem wäßrig-alkalischen Entwickler eine höhere Löslichkeit zeigen als die Ausgangsverbindung
enthält, worin die säurespaltbare Verbindung ein Polymer der genannten Art ist, sowie ein Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger und einer strahlungsempfindlichen Schicht. Das erfindungsgemäße Gemisch eignet sich insbesondere für die Herstellung von Offsetdruckplatten und Photoresists.
摘要翻译：本发明涉及式R 1 -SO 2 -N（CO-OR 2）-R 3 -O-CO-CR 4 = CH 2和R 1 -N（CO- OR 2） - SO 2 -R 3 -O-CO-CR 4 = CH 2，其中R 1是（C 1 -C 20）烷基，（C 3 -C 10）环烷基，（C 6 -C 14））芳基或（C 7 -C 20）芳烷基，其中在含烷基的基团中，各个亚甲基可以被杂原子代替，R 2是（C 3 -C 11）烷基，（C 3 -C 11）链烯基或（ C7-C11）芳烷基，R3是未取代或取代的（C1-C6）烷基，（C3-C6）环烷基，（C6-C14）芳基或（C7-C20）芳烷基，是氢原子或甲基。它还涉及含有至少5摩尔％的含有式（e）-R 3 -N（CO-OR 2）-SO 2 -R 1（I）侧基的单元和/或 -R 3 -SO 2 -N（CO-OR 2）-R 1（II），以及含有a）在曝光于光化辐射时形成酸的化合物的辐射敏感性混合物，以及b）可酸裂解的化合物，其裂解产物在水性 - 碱性显影剂中的溶解度高于起始化合物，其中酸可裂解化合物是所述类型的聚合物，以及具有载体（载体，碱）和辐射敏感涂层。根据本发明的混合物特别适用于生产胶版印刷版和光致抗蚀剂。

15. 发明公开

EP4166537A1 ACTIVE-RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION, RESIST FILM, PATTERN FORMATION METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE, AND COMPOUND 审中-实审
公开(公告)号：EP4166537A1
公开(公告)日：2023-04-19
申请号：EP21822341.0
申请日：2021-05-19
申请人： FUJIFILM Corporation
发明人： KOJIMA Masafumi , TAKADA Akira , GOTO Akiyoshi , KAWABATA Takeshi , USHIYAMA Aina
IPC分类号： C07C309/07 , C07C309/17 , C07C309/65 , C07C311/09 , C07C311/48 , C07C311/53 , C07C381/12 , C07D207/48 , C07D211/96 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/20
摘要： A first object of the present invention is to provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition with which a pattern having a good shape can be obtained. Furthermore, a second object of the present invention is to provide a resist film, a pattern forming method, and a method for manufacturing an electronic device, each relating to the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition. In addition, a third object of the present invention is to provide a compound which can be suitably used in the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition.
The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition of an embodiment of the present invention includes a compound that generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation, an acid-decomposable resin having a weight-average molecular weight of 30,000 or less, and a solvent, and the compound that generates an acid upon irradiation with actinic rays or radiation includes a compound (I).

16. 发明公开

EP1445249A1 NOVEL BENSOPHENONE DERIVATIVES OR SALTS THEREOF 有权
标题翻译：新二苯甲酮及其盐的
公开(公告)号：EP1445249A1
公开(公告)日：2004-08-11
申请号：EP02781763.4
申请日：2002-11-13
申请人： TOYAMA CHEMICAL CO., LTD. , Hirono, Shuichi , Shiozawa, Shunichi
发明人： CHAKI, Hisaaki , KOTSUBO, Hironori , TANAKA, Tadashi , AIKAWA, Yukihiko , HIRONO, Shuichi , SHIOZAWA, Shunichi
IPC分类号： C07C59/90 , C07C69/734 , C07C69/76 , C07C205/34 , C07C219/32 , C07C255/54 , C07C255/37 , C07C271/64 , C07C235/42 , C07C311/29 , C07C311/51 , C07C311/53 , C07C317/22 , C07C323/19 , A61K31/192
CPC分类号： C07C235/42 , A61K31/192 , C07C59/90 , C07C65/34 , C07C65/40 , C07C69/738 , C07C69/76 , C07C69/88 , C07C69/94 , C07C205/34 , C07C217/76 , C07C255/54 , C07C259/10 , C07C271/64 , C07C2601/02 , C07C2601/04 , C07C2601/08 , C07C2601/10 , C07C2601/14 , C07C2601/18
摘要： A benzophenone derivative represented by the following formula:
wherein

R 1 represents, for example, an optionally substituted heterocyclic group, or a substituted phenyl group; Z represents, for example, an alkylene group; R 2 represents, for example, a carboxyl group optionally protected with alkyl;
R 3 represents, for example, an optionally protected hydroxyl group; R 4 represents, for example, an optionally substituted cycloalkyloxy group; and R 5 represents, for example, a hydrogen atom,
or a salt thereof has anti-arthritic activity, inhibits bone destruction caused by arthritis, and provides high safety and excellent pharmacokinetics and thus is useful as therapeutic agent for arthritis. These compounds have inhibitory effect on AP-1 activity and are useful as preventive or therapeutic agent for diseases in which excessive expression of AP-1 is involved.

17. 发明公开

EP1363877A2 BENZOPHENONES AS INHIBITORS OF REVERSE TRANSCRIPTASE 审中-公开
标题翻译：二苯甲酮抑制剂逆转录酶
公开(公告)号：EP1363877A2
公开(公告)日：2003-11-26
申请号：EP02723265.1
申请日：2002-02-28
申请人： SmithKline Beecham Corporation
发明人： CHAN, Joseph Howing
IPC分类号： C07C311/51 , C07D295/14 , C07C311/53 , C07C311/46 , C07D207/16
CPC分类号： C07D295/15 , C07C311/46 , C07C311/51 , C07C311/53 , C07D207/16
摘要： The present invention is directed to benzophenone compounds of formula (IA) in which the variables are as defined in the claims, useful in the inhibition of HIV reverse transcriptase, particularly its resistant varieties.

18. 发明授权

EP1183236B1 CINNAMOYLAMINOALKYL-SUBSTITUTED BENZENESULFONAMIDE DERIVATIVES 有权
标题翻译：肉桂酰氨基取代的苯磺酰胺衍生物
公开(公告)号：EP1183236B1
公开(公告)日：2003-10-22
申请号：EP00938626.9
申请日：2000-05-06
申请人： Aventis Pharma Deutschland GmbH
发明人： HEITSCH, Holger , ENGLERT, Heinrich, Christian , WIRTH, Klaus , GÖGELEIN, Heinz
IPC分类号： C07C311/58 , C07C335/42 , C07C311/53 , C07D307/52 , A61K31/18 , A61K31/64
CPC分类号： A61K31/18 , C07C311/53 , C07C311/58 , C07C335/42 , C07D307/52

19. 发明公开

EP0915086A4 PHENYLSULFONAMIDE DERIVATIVES 失效
标题翻译： PHENYLSULFONAMIDDERIVATE
公开(公告)号：EP0915086A4
公开(公告)日：2001-01-17
申请号：EP97922148
申请日：1997-05-23
申请人： ONO PHARMACEUTICAL CO
发明人： TAKAHASHI K , SUGIURA T
IPC分类号： C07D295/14 , A61K31/18 , A61K31/195 , A61K31/198 , A61K31/215 , A61K31/38 , A61K31/381 , A61K31/40 , A61K31/403 , A61K31/404 , A61K31/405 , A61K31/415 , A61K31/44 , A61K31/4402 , A61K31/535 , A61K31/5375 , A61P1/02 , A61P1/16 , A61P9/00 , A61P9/10 , A61P11/00 , A61P27/02 , A61P29/00 , A61P35/00 , A61P37/00 , A61P43/00 , C07C303/40 , C07C311/00 , C07C311/16 , C07C311/19 , C07C311/29 , C07C311/37 , C07C311/53 , C07D207/16 , C07D209/20 , C07D213/34 , C07D213/36 , C07D213/42 , C07D213/52 , C07D233/56 , C07D233/60 , C07D233/61 , C07D333/08 , C07D403/12 , C07D521/00 , C07D213/40 , C07D295/13
CPC分类号： C07D213/42 , C07C311/19 , C07C311/29 , C07C311/53 , C07D207/16 , C07D209/20 , C07D213/52 , C07D231/12 , C07D233/56 , C07D249/08
摘要： Phenylsulfonylamide derivatives represented by general formula (I) and salts thereof, (wherein R1 is hydrogen or alkyl; R2 is COOR3 or CONHOR4; E is vinylene or ethylene; A is hydrogen, alkyl, carbocycle or heterocycle; J is single bond or alkylene; R?9 and R10¿ are each hydrogen, (substituted) alkyl, COR11, carbocycle, heterocycle, etc.; and R20 is hydrogen, (substituted) alkyl, etc.); processes for producing the same; a matrix metalloproteinase inhibitor containing the same; and medicines containing the same and serving as preventives and/or remedies for rheumatism, osteoarthritis, pathologic bone resorption, osteoporosis, periodontosis, interstitial nephritis, arteriosclerosis, pulmonary emphysema, hepatocirrhosis, corneal injury, diseases due to cancer cell metastasis, infiltration and proliferation, autoimmune diseases (such as Crohn's disease and Sjögren's disease), diseases due to leukocyte emigration or infiltration, and neovascularization.
摘要翻译：（I）表示的苯基磺酰胺衍生物及其盐，（其中R1是氢或烷基; R2是COOR3或CONHOR4; E是亚乙烯基或亚乙基; A是氢，烷基，碳环或杂环; J是单键或亚烷基; （取代的）烷基，COR 11，碳环，杂环等; R 20是氢，（取代的）烷基等）; R 9和R 10各自是氢，生产该工艺的过程; 含有其的基质金属蛋白酶抑制剂; 以及含有它们并用作风湿病，骨关节炎，病理性骨吸收，骨质疏松症，牙周病，间质性肾炎，动脉硬化，肺气肿，肝硬化，角膜损伤，癌细胞转移引起的疾病，浸润和增殖所引起的疾病的预防剂和/ 自身免疫性疾病（例如克罗恩氏病和舍格伦氏病），由于白细胞迁移或浸润而引起的疾病以及新血管形成。

20. 发明授权

EP0648749B1 N-Cyanoaryl-Stickstoffheterocyclen 失效转让
标题翻译：的N-氰基芳-Stickstoffheterocyclen
公开(公告)号：EP0648749B1
公开(公告)日：1997-12-10
申请号：EP94112295.4
申请日：1994-08-05
申请人： BAYER AG
发明人： Andree, Roland, Dr. , Drewes, Mark Wilhelm, Dr. , Marhold, Albrecht, Dr. , Santel, Hans-Joachim, Dr. , Dollinger, Markus, Dr.
IPC分类号： C07D239/54 , C07D239/52 , C07C265/12 , C07C311/53 , A01N43/54
CPC分类号： C07D239/54 , A01N43/54 , C07C265/12 , C07C271/28 , C07C271/38 , C07C311/53 , C07D239/553

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