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11. 发明公开

EP1376053A2 Verfahren zum Betrieb eines in wenigstens zwei Betriebsarten betreibbaren Koordinatenmessgerätes 有权
标题翻译： Verfahren zum Betrieb在wenigstens zwei Betriebsarten betreibbarenKoordinatenmessgerätes
公开(公告)号：EP1376053A2
公开(公告)日：2004-01-02
申请号：EP03009213.4
申请日：2003-04-23
申请人： CARL ZEISS , Carl Zeiss Stiftung Trading as Carl Zeiss
发明人： Aubele, Eugen , Ruck, Otto
IPC分类号： G01B21/04
CPC分类号： G01B3/008 , G01B5/012
摘要： Vorgestellt wird ein Verfahren zum Betrieb eines Koordinatenmessgerätes in einer ersten und einer zweiten Betriebsart mit folgenden Schritten: Antasten (82) einer Koordinate (12) in einem Messvolumen des Koordinatenmessgerätes (10) mit einem Tastkopf (28), Einstellen (84) einer vorbestimmten Messkraft, Einstellen (86) einer vorbestimmten Mess-Auslenkung des Tastkopfes (28) bei der Berührung mit einem vorbestimmten Richtungssinn. Das vorgestellte Verfahren zeichnet sich dadurch aus, dass das Antasten der Koordinate (12) durch den Tastkopf (28) vor dem Einstellen (84) der vorbestimmten Messkraft in der zweiten Betriebsart mit dem gleichen Richtungssinn erfolgt, wie in der ersten Betriebsart. Dadurch führen gegebenenfalls auftretende Hystereseeffekte nicht zu unterschiedlichen Messergebnissen, wenn ein und dieselbe Koordinate sowohl in der ersten als auch in der zweiten Betriebsart messtechnisch erfaßt wird. Weiter wird ein zum Durchführen des Verfahrens geeignetes Koordinatenmessgerät (10) vorgestellt (Fig. 1).
摘要翻译：用于在两个或多个操作模式中操作坐标测量单元的方法具有以下步骤：使用探头（28）对坐标测量单元（10）的测量体积中的坐标（12）进行采样; 测量力的调整; 调整用于在给定方向上的接触的头部的预定测量偏差。在调节测距力之前，在与第一模式相同的方向上进行第二测量方向或模式的坐标的采样。对具有两种操作模式的坐标测量装置进行独立声明。

12. 发明公开

EP1193439A3 Stativ 有权
公开(公告)号：EP1193439A3
公开(公告)日：2003-10-08
申请号：EP01120922.8
申请日：2001-08-31
申请人： Carl Zeiss , Carl-Zeiss-Stiftung trading as Carl Zeiss
发明人： Gaida, Gerhard, Dr. , Brenner, Roland
IPC分类号： F16M11/04
CPC分类号： F16M13/02 , A61B90/20 , A61B90/25 , F16M11/10 , F16M11/2021 , F16M11/2064 , F16M11/2078 , F16M13/00 , F16M13/027 , F16M2200/044 , G02B7/001
摘要： Die Erfindung betrifft ein Stativ 100, das beispielsweise zur Aufnahme eines Operationsmikroskops 109 ausgelegt ist. Dieses Stativ hat eine um eine Drehachse 110 bewegliche Ständersäule 101 mit einem ersten Trägerarm 104 und einen zweiten Trägerarm 107, der bzgl. des ersten Trägerarmes 104 um eine erste Schwenkachse 111 und eine zweite Schwenkachse 112 bewegt werden kann. Zum Erzeugen einer Rückstellkraft für den zweiten Trägerarm 107 ist ein Seilzug 114 als Mittel zum Koppeln 114 vorgesehen, der den zweiten Trägerarm 107 mit Gegengewicht 113 als Mittel zum Erzeugen einer Rückstellkraft um die Achse 112 koppelt. Das Gegengewicht 113 ist im Bereich der Ständersäule 101 angeordnet, um eine Trägheitswirkung bei einer Bewegung des Stativs 100 um die Drehachse 110 zu minimieren. Zum Unterdrücken einer Rückkopplung einer Bewegung des zweiten Trägerarmes 107 um die Drehachse 111 zu dem Gegengewicht 113 ist in dem Seilzug ein Freilaufdrehgelenk 121 vorgesehen.
摘要翻译：支撑件包括将第二承载臂连接到用于产生围绕轴线（111,313）的调整力的装置的联接器。联接装置被分配为用于抑制第二承载臂（107,307）绕轴线的移动的装置。

13. 发明公开

EP1342051A1 KALIBRIERUNG EINES MESSENDEN SENSORS AUF EINEM KOORDINATENMESSGERÄT MIT EINER KUGEL UND ZWEI PARAMETERFELDERN 无效
标题翻译：测量传感器上的坐标测量装置与球的校准的已知的中心
公开(公告)号：EP1342051A1
公开(公告)日：2003-09-10
申请号：EP01985749.9
申请日：2001-08-31
申请人： Carl Zeiss , Carl Zeiss Stiftung Trading as Carl Zeiss
发明人： LOTZE, Werner
IPC分类号： G01B21/04
CPC分类号： G01B21/047 , G01B11/005 , G01B11/2504 , G01B21/042
摘要： The invention relates to the calibration of a sensor (an optical sensor) (9) in an appliance for measuring co-ordinates, said sensor measuring in at least one dimension. A calibration ball having a known radius (rK) is provided in the measuring region of the appliance for measuring co-ordinates, and the central point (pK) of the calibration ball in the machine co-ordinate system (XM,YM,ZM) is determined; points on the surface of the calibration ball are measured, measuring values being recorded over large parts of the measuring region in every dimension which can be measured by the sensor (9); parameters of a first parameter field are determined, said field describing the transformation (rotation) of the sensor co-ordinate system (u, v, w) in the machine co-ordinate system, and parameters of a second parameter field are determined, said second field describing the shift (vector) of the sensor co-ordinate system in relation to a point (AB) (in the measuring arm) in the machine co-ordinate system.

14. 发明公开

EP1193520A3 Operationsmikroskop 有权
公开(公告)号：EP1193520A3
公开(公告)日：2003-08-27
申请号：EP01120854.3
申请日：2001-08-30
申请人： Carl Zeiss , Carl Zeiss Stiftung Trading as Carl Zeiss
发明人： Nägele, Ulrich , Pelzer, Martin , Duschek, Christian , Gold, Ulrich , Düver, Erik , Quendt, Dieter
IPC分类号： G02B21/00
CPC分类号： G02B21/0012 , A61B90/20
摘要： Ein Operationsmikroskop (1) mit einem Objektiv (12) zur Beobachtung eines Objekts (2) und mit einer Vorrichtung zur Positions- und Lageerfassung von Objektpunkten umfaßt einen ersten Bildsensor (10) und einen zweiten Bildsensor (11), welchen in Abstand voneinander angeordnet sind.
摘要翻译：操作显微镜（1）包括用于观察物体的物镜（12）和用于确定物点位置的装置。显微镜具有分开布置的第一图像传感器（10）和第二图像传感器（11）。优选特征：显微镜具有在第一图像传感器上产生物体的图像的成像装置（13）和在光轴（29,31）运行的第二图像传感器上产生物体的图像的成像装置（15）与物镜的光轴（18）成一定角度。成像装置布置在物镜的两侧。

15. 发明授权

EP0973209B1 Stellvorrichtung 有权
标题翻译：锁定装置
公开(公告)号：EP0973209B1
公开(公告)日：2003-07-30
申请号：EP99112320.9
申请日：1999-06-26
申请人： Carl Zeiss , Carl-Zeiss-Stiftung, trading as Carl Zeiss
发明人： Scheibl, Lothar , Hof, Albrecht
IPC分类号： H01L41/09
CPC分类号： H02N2/04

16. 发明公开

EP1014139A3 Optisches System, insbesondere Projektionsbelichtungsanlage der Mikrolithographie, mit einer optischen Halterung mit Aktuatoren 有权
标题翻译：一种光学系统，尤其是微光刻的投射曝光设备，用光学支座与致动器
公开(公告)号：EP1014139A3
公开(公告)日：2003-07-09
申请号：EP99124503.6
申请日：1999-12-09
申请人： Carl Zeiss , Carl-Zeiss-Stiftung trading as Carl Zeiss
发明人： Merz, Erich, Dipl.-Ing. (FH) , Becker, Jochen, Dipl.-Ing. (BA)
IPC分类号： G02B7/02 , G02B7/192 , G02B3/14 , G02B27/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70941 , G02B7/008 , G02B7/023 , G02B7/028 , G02B7/1827 , G03F7/70241 , G03F7/70258 , G03F7/70825 , G03F7/70891
摘要： Ein optisches System, insbesondere für Projektions-Belichtungsanlagen der Mikrolithografie, insbesondere mit schlitzförmigem Bildfeld oder nicht-rotationssymmetrischer Beleuchtung, weist ein optisches Element 1, insbesondere eine Linse oder einen Spiegel, das in einer Fassung 7 oder einem Innenring 2 angeordnet ist, und Aktuatoren 8a, 8b und 9a, 9b auf. Zur Erzeugung von Zug- und/oder Druckkräften greifen an dem deformierbaren Innenring 2 über eine radiale Kraft-Weg-Übersetzung 12, 13 mehrere Aktuatoren 8a, 8b und 9a, 9b an.

17. 发明公开

EP1312850A2 Vorrichtung und Verfahren für wenigstens teilweisen Ausgleich eines Last-Drehmoments 有权
标题翻译：奥斯利奇（Vusrichtung und Verfahrenfürwenigstens teilweisen Ausgleich eines Last-Drehmoments）
公开(公告)号：EP1312850A2
公开(公告)日：2003-05-21
申请号：EP02020706.4
申请日：2002-09-14
申请人： Carl Zeiss , Carl-Zeiss-Stiftung, trading as Carl Zeiss
发明人： Gaertner, Hartmut , Zimmermann, Fritz , Strauss, Wolfgang
IPC分类号： F16M11/06
CPC分类号： G02B21/24 , A61B90/20 , A61B90/25 , F16M11/10 , F16M2200/041 , G02B7/001
摘要： Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum wenigstens teilweisen Ausgleich eines Last-Drehmoments, welches an einem Operationsmikroskop 2 angreift, das in einer Haltevorrichtung um eine Drehachse 3 drehbar gelagert ist, sowie ein Verfahren zur Einstellung eines Gleichgewichtszustandes für ein Operationsmikroskop, das an einer solchen Haltevorrichtung aufgenommen ist. Dem Operationsmikroskop 2 ist eine Gasdruckfeder 5 zur Erzeugung von Linearkraft zugeordnet. Es ist eine Wandlereinheit 7 vorgesehen, welche die Linearkraft in ein Drehmoment wandelt. Erfindungsgemäß kann das Operationsmikroskop 2 mit der Wandlereinheit 7 in einstellbarer Weise gekoppelt werden.
摘要翻译：用于平衡操作显微镜（2）的负载扭矩的机构包括产生线性力的气弹簧。这连接到曲柄系统（11-19），该曲柄系统连接到可调连接系统，该可调连接系统包括可围绕控制轮（8）的周边装配到孔（9）中的销（10）。包括用于使用该机构调节操作显微镜的负载转矩平衡的方法的独立权利要求。

18. 发明公开

EP1035445A3 Mikrolithographie-Reduktionsobjektiveinrichtung sowie Projektionsbelichtungsanlage 有权
标题翻译：微光刻缩小透镜装置和投射曝光系统
公开(公告)号：EP1035445A3
公开(公告)日：2003-04-23
申请号：EP99125783.3
申请日：1999-12-23
申请人： Carl Zeiss , Carl-Zeiss-Stiftung, trading as Carl Zeiss
发明人： Dinger, Udo, Dr.
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0657 , G03F7/7025 , G03F7/70275
摘要： Die Erfindung betrifft eine Mikrolithographie-Projektionsobjektiveinrichtung für kurze Wellenlängen, vorzugsweise Die Erfindung ist dadurch gekennzeichnet, daß die bildseitige numerische Apertur NA ≥ 0,15 ist und der dem zu belichtenden Objekt vorzugsweise dem Wafer am nächsten kommende Spiegel derart angeordnet ist, daß der bildseitige optische freie Arbeitsabstand mindestens dem genutzten Durchmesser D dieses wafernächsten Spiegels entspricht und/oder der bildseitige optische freie Arbeitsabstand mindestens die Summe aus einem Drittel des genutzten Durchmessers D dieses Spiegels und einer Länge, die zwischen 20 mm und 30 mm liegt, beträgt und/oder der bildseitseitige optische freie Arbeitsabstand mindestens 50 mm, vorzugsweise 60 mm beträgt.

19. 发明授权

EP0899536B1 Koordinatenmessgerät oder Bearbeitungsmaschine 有权
标题翻译：三坐标测量机或机床
公开(公告)号：EP0899536B1
公开(公告)日：2003-04-16
申请号：EP98114911.5
申请日：1998-08-08
申请人： Carl Zeiss , Carl-Zeiss-Stiftung, trading as Carl Zeiss
发明人： Matzkovits, Berthold , Götz, Klaus-Dieter
IPC分类号： G01B5/00
CPC分类号： G01B5/0002

20. 发明公开

EP1293819A1 Stereo-Mikroskopieanordnung 有权
标题翻译：实体显微镜安排
公开(公告)号：EP1293819A1
公开(公告)日：2003-03-19
申请号：EP02027423.9
申请日：2001-09-24
申请人： Carl Zeiss , Carl Zeiss Stiftung Trading as Carl Zeiss
发明人： Strähle, Fritz, Dr.
IPC分类号： G02B21/22 , G02B21/00 , A61B3/13
CPC分类号： G02B17/045 , A61B90/20 , G02B5/04 , G02B17/04 , G02B21/0012 , G02B21/025 , G02B21/18 , G02B21/22
摘要： Es wird ein Stereo-Mikroskopieanordnung zur Betrachtung eines Objekts oder eines von einem Objekt erzeugten Zwischenbilds, insbesondere in der Mikrochirurgie, vorgeschlagen, welches umfaßt:

eine Objektivanordnung mit einer Objektebene zur Anordnung des zu betrachtenden Objekts bzw. Zwischenbilds,
eine linke Okularanordnung, der ein in die Objektivanordnung links eintretendes Strahlenbündel zugeführt wird, und eine rechte Okularanordnung, der ein in die Objektivanordnung rechts eintretendes Strahlenbündel zugeführt wird,
wobei in den Strahlengängen der Okularanordnungen ein Strahlvertauschungssystem (1) vorgesehen ist, welches das der linken Okularanordnung zugeführte Strahlenbündel (5) in die rechte Okularanordnung spiegelt und welches das der rechten Okularanordnung zugeführte Strahlenbündel in die linke Okularanordnung spiegelt,
wobei die dem Strahlvertauschungssystem zugeführten Strahlenbündel und aus dem Strahlvertauschungssystem austretende Strahlenbündel jeweils einander gleiche Bildorientierungen aufweisen.
摘要翻译：提出了一种立体显微镜装置，用于观察一个对象或对象的生成的中间图像，尤其是在显微外科方法，包括：要观看与物体平面用于定位所述对象的目标装置，或者中间图像，左目镜，其中在透镜组件是左馈入射的辐射光束，和一个右目镜，所述入射光束被送入右侧的目标装置，其中，一个光束交换系统（1）中的目镜安排的光束路径被提供，其被供给到在左目镜梁（5）的功率右目镜组件体现并且其供给到右目镜组件的功率反映在左目镜辐射束，其中所述束交换供给到光束和从光束互换辐射束的每个EINA离开方向具有相同的图像取向。

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