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1. 发明授权

CN101390018B 制造平版印版的方法失效
公开(公告)号：CN101390018B
公开(公告)日：2012-06-13
申请号：CN200680005249.5
申请日：2006-02-01
申请人：柯达彩色绘图有限责任公司
发明人： H·鲍曼 , U·费巴希 , U·德瓦斯 , B·施特雷梅尔 , M·弗卢格尔 , H·-J·廷珀
IPC分类号： G03F7/32
CPC分类号： G03F7/322
摘要：制造平版印版的方法，该方法包括：(a)提供具有亲水性表面的平版底材；(b)将阴图制版辐射感光组合物施涂于该亲水性表面上，其中该组合物包括：(i)一种或多种类型的单体和/或低聚物和/或聚合物，各自包括至少一个可供自由基聚合的烯属不饱和基团，(ii)至少一种感光剂，在至少一种助引发剂的存在下，在用波长300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射照射时该感光剂引发组分(i)的自由基聚合；和(iii)至少一种具有酸性官能团的粘结剂，并且该组合物对480-750nm的波长范围基本上不感光；(c)取决于所使用的感光剂或引发剂体系，所得阴图制版平版印版前体用选自波长范围为300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射中的辐射成像曝光；和(d)通过用pH值为9-14的碱性显影剂处理而除去未照射区，该碱性显影剂包括：(i)水，(ii)其量足以将pH值调节在9-14范围内的一种或多种碱金属氢氧化物，和(iii)1-30wt％的至少一种式(I)的化合物，其中R1、R2、R3和R4各自独立地选自C1-C12烷基和芳基，X选自-CH＝CH-，-C≡C-，式(II)、式(III)和式(IV)，n+m为2-30的值，p+q为0-30的值，其中在p+q≠0的情况下，氧化乙烯和氧化丙烯单元作为嵌段存在或无规分布。

2. 发明公开

CN101061433A 具有低聚或聚合敏化剂的平版印版前体失效
公开(公告)号：CN101061433A
公开(公告)日：2007-10-24
申请号：CN200580039486.9
申请日：2005-11-11
申请人：柯达彩色绘图有限责任公司
发明人： B·施特雷梅尔 , H·鲍曼 , U·德瓦斯 , D·彼得施 , A·德拉贝尔 , M·默萨尔
IPC分类号： G03F7/031 , G03F7/029
CPC分类号： G03F7/029 , G03F7/031 , Y10S430/116 , Y10S430/117 , Y10S430/121 , Y10S430/123 , Y10S430/127 , Y10S522/904 , Y10S522/913
摘要：平版印版前体，其包括(a)具有亲水性表面的平版底物，和(b)在亲水性表面上的辐射－感光涂层，其包含(i)一种或多种单体和/或低聚物和/或聚合物，每个都包含至少一个易进行自由基聚合的烯键式不饱和基团，(ii)至少一种敏化剂，和(iii)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(ii)一起形成自由基；其特征为，至少一种敏化剂是包括以下结构单元(通式(I))的低聚或者聚合化合物，其中π1是芳族或杂芳族单元或者两者的结合，使得共轭π－体系存在于结构(I)中的两个基团Z之间，每个Z独立地表示杂原子，每个R1和R2独立地选自卤素原子、烷基、芳基、烷基芳基或芳烷基、基团－NR3R4和基团－OR5，每个R3、R4和R5独立地选自烷基、芳基、烷基芳基和芳烷基，a和b独立地表示0或1－4的整数，n的值大于1，和AS是脂族间隔基团。

3. 发明公开

CN1751270A 含噁唑衍生物的射线敏感组合物和基于它的可成象元件失效
公开(公告)号：CN1751270A
公开(公告)日：2006-03-22
申请号：CN200480004823.6
申请日：2004-02-20
申请人：柯达彩色绘图有限责任公司
发明人： H·鲍曼 , U·德瓦斯 , D·皮特施 , M·弗鲁格尔
IPC分类号： G03F7/031
CPC分类号： G03F7/029 , G03F7/031
摘要：一种射线敏感元件，它包含(a)一种或多种单体，各自包含至少一种可参与自由基聚合的烯属不饱和基团，(b)至少一种增感剂，(c)至少一种能与增感剂(b)一起形成自由基的助引发剂，选自下列化合物类别：金属茂；具有1～3个CX3基团的1，3，5－三嗪衍生物，其中X代表氯或溴；过氧化物；六芳基双咪唑；肟醚；肟酯；N－芳基甘氨酸及其衍生物；硫醇化合物；N－芳基、S－芳基和O－芳基多羧酸，具有至少两个羧基基团，其中至少一个键合在芳基单元的N、S或O原子上；烷基三芳基硼酸酯；苯偶姻醚；苯偶姻酯；三卤代甲基－芳基砜；胺；N，N－二烷基氨基苯甲酸酯；芳基磺酰卤；三卤代甲基砜；酰亚胺；重氮磺酸盐；9，10－二氢蒽衍生物；α－羟基和α－氨基乙酰苯；和(d)任选地一种或多种组分，选自碱溶性粘合剂、着色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、隐色染料、表面活性剂、无机填料和热聚合抑制剂，特征在于，至少一种增感剂是通式(I)的噁唑衍生物，其中每个R1、R2和R3独立地选自卤素原子、任选取代的烷基基团、任选取代的芳基基团，后者也可以稠合，任选取代的芳烷基基团、基团－NR4R5和基团－OR6，其中R4和R5独立地选自氢原子、烷基、芳基或芳烷基基团，R6是烷基、芳基或芳烷基基团或氢原子，且k、m和n独立地是0或1～5的整数。

4. 发明授权

CN101061433B 具有低聚或聚合敏化剂的平版印版前体失效
公开(公告)号：CN101061433B
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN200580039486.9
申请日：2005-11-11
申请人：柯达彩色绘图有限责任公司
发明人： B·施特雷梅尔 , H·鲍曼 , U·德瓦斯 , D·彼得施 , A·德拉贝尔 , M·默萨尔
IPC分类号： G03F7/031 , G03F7/029
CPC分类号： G03F7/029 , G03F7/031 , Y10S430/116 , Y10S430/117 , Y10S430/121 , Y10S430/123 , Y10S430/127 , Y10S522/904 , Y10S522/913
摘要：平版印版前体，其包括(a)具有亲水性表面的平版底物，和(b)在亲水性表面上的辐射-感光涂层，其包含(i)一种或多种单体和/或低聚物和/或聚合物，每个都包含至少一个易进行自由基聚合的烯键式不饱和基团，(ii)至少一种敏化剂，和(iii)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(ii)一起形成自由基；其特征为，至少一种敏化剂是包括以下结构单元(通式(I))的低聚或者聚合化合物其中π1是芳族或杂芳族单元或者两者的结合，使得共轭π-体系存在于结构(I)中的两个基团Z之间，每个Z独立地表示杂原子，每个R1和R2独立地选自卤素原子、烷基、芳基、烷基芳基或芳烷基、基团-NR3R4和基团-OR5，每个R3、R4和R5独立地选自烷基、芳基、烷基芳基和芳烷基，a和b独立地表示0或1-4的整数，n的值大于1，和AS是脂族间隔基团。

5. 发明公开

CN1890605A 辐射敏感组合物和以其为基础的可成像元件失效
公开(公告)号：CN1890605A
公开(公告)日：2007-01-03
申请号：CN200480036031.7
申请日：2004-11-18
申请人：柯达彩色绘图有限责任公司
发明人： H·鲍曼 , U·德瓦斯 , M·弗卢格尔
IPC分类号： G03F7/031
CPC分类号： G03F7/031 , Y10T428/31591
摘要：辐射敏感组合物，其包含(a)至少一种可光聚合的化合物，其具有至少一个能够进行自由基聚合的烯属不饱和基团，其中所述至少一种可光聚合的化合物具有3,000或者以下的分子量，并且能够通过二异氰酸酯与(i)具有羟基基团的烯属不饱和化合物和同时(ii)具有NH基团和OH基团的饱和有机化合物反应进行制备，其中所述反应物以根据以下条件的量使用：异氰酸酯基团的摩尔数≤OH加NH基团的摩尔数；(b)至少一种敏化剂，其吸收电磁波谱的波长范围为250到450纳米的辐射，并且选自：通式(I)的二氢吡啶和通式(II)的噁唑衍生物：(II)(c)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(b)一起形成自由基，并且选自2，2’，4，4’，5，5’－六芳基双咪唑、具有至少一个可光解地分裂的三卤甲基基团的化合物、二芳基碘鎓盐、三芳基锍盐和在环中具有至少一个氮原子、在至少一个环中的氮原子处具有氧基取代基的N－杂环化合物，以及上述化合物的混合物；和(d)任选地一种或多种选自以下的组分：碱－可溶性的粘合剂、着色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、无色染料、表面活性剂、无机填料和热聚合抑制剂；条件是，所述辐射敏感组合物不包含茂金属。

6. 发明授权

CN1751270B 含噁唑衍生物的射线敏感组合物和基于它的可成象元件失效
公开(公告)号：CN1751270B
公开(公告)日：2011-03-09
申请号：CN200480004823.6
申请日：2004-02-20
申请人：柯达彩色绘图有限责任公司
发明人： H·鲍曼 , U·德瓦斯 , D·皮特施 , M·弗鲁格尔
IPC分类号： G03F7/031
CPC分类号： G03F7/029 , G03F7/031
摘要：一种射线敏感元件，它包含(a)一种或多种单体，各自包含至少一种可参与自由基聚合的烯属不饱和基团，(b)至少一种增感剂，(c)至少一种能与增感剂(b)一起形成自由基的助引发剂，选自下列化合物类别：金属茂；具有1～3个CX3基团的1，3，5-三嗪衍生物，其中X代表氯或溴；过氧化物；六芳基双咪唑；肟醚；肟酯；N-芳基甘氨酸及其衍生物；硫醇化合物；N-芳基、S-芳基和O-芳基多羧酸，具有至少两个羧基基团，其中至少一个键合在芳基单元的N、S或O原子上；烷基三芳基硼酸酯；苯偶姻醚；苯偶姻酯；三卤代甲基-芳基砜；胺；N，N-二烷基氨基苯甲酸酯；芳基磺酰卤；三卤代甲基砜；酰亚胺；重氮磺酸盐；9，10-二氢蒽衍生物；α-羟基和α-氨基乙酰苯；和(d)任选地一种或多种组分，选自碱溶性粘合剂、着色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、隐色染料、表面活性剂、无机填料和热聚合抑制剂，特征在于，至少一种增感剂是通式(I)的噁唑衍生物，其中每个R1、R2和R3独立地选自卤素原子、任选取代的烷基基团、任选取代的芳基基团，后者也可以稠合，任选取代的芳烷基基团、基团-NR4R5和基团-OR6，其中R4和R5独立地选自氢原子、烷基、芳基或芳烷基基团，R6是烷基、芳基或芳烷基基团或氢原子，且k、m和n独立地是0或1～5的整数。

7. 发明授权

CN1890605B 辐射敏感组合物和以其为基础的可成像元件失效
公开(公告)号：CN1890605B
公开(公告)日：2010-10-27
申请号：CN200480036031.7
申请日：2004-11-18
申请人：柯达彩色绘图有限责任公司
发明人： H·鲍曼 , U·德瓦斯 , M·弗卢格尔
IPC分类号： G03F7/031
CPC分类号： G03F7/031 , Y10T428/31591
摘要：辐射敏感组合物，其包含(a)至少一种可光聚合的化合物，其具有至少一个能够进行自由基聚合的烯属不饱和基团，其中所述至少一种可光聚合的化合物具有3,000或者以下的分子量，并且能够通过二异氰酸酯与(i)具有羟基基团的烯属不饱和化合物和同时(ii)具有NH基团和OH基团的饱和有机化合物反应进行制备，其中所述反应物以根据以下条件的量使用：异氰酸酯基团的摩尔数≤OH加NH基团的摩尔数；(b)至少一种敏化剂，其吸收电磁波谱的波长范围为250到450纳米的辐射，并且选自：通式(I)的二氢吡啶和通式(II)的唑衍生物：(II)(c)至少一种共引发剂，其能够与敏化剂(b)一起形成自由基，并且选自2，2’，4，4’，5，5’-六芳基双咪唑、具有至少一个可光解地分裂的三卤甲基基团的化合物、二芳基碘盐、三芳基锍盐和在环中具有至少一个氮原子、在至少一个环中的氮原子处具有氧基取代基的N-杂环化合物，以及上述化合物的混合物；和(d)任选地一种或多种选自以下的组分：碱-可溶性的粘合剂、着色剂、曝光指示剂、增塑剂、链转移剂、无色染料、表面活性剂、无机填料和热聚合抑制剂；条件是，所述辐射敏感组合物不包含茂金属。

8. 发明公开

CN101390018A 制造平版印版的方法失效
公开(公告)号：CN101390018A
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200680005249.5
申请日：2006-02-01
申请人：柯达彩色绘图有限责任公司
发明人： H·鲍曼 , U·费巴希 , U·德瓦斯 , B·施特雷梅尔 , M·弗卢格尔 , H·-J·廷珀
IPC分类号： G03F7/32
CPC分类号： G03F7/322
摘要：制造平版印版的方法，该方法包括：(a)提供具有亲水性表面的平版底材；(b)将阴图制版辐射感光组合物施涂于该亲水性表面上，其中该组合物包括：(i)一种或多种类型的单体和/或低聚物和/或聚合物，各自包括至少一个可供自由基聚合的烯属不饱和基团，(ii)至少一种感光剂，在至少一种助引发剂的存在下，在用波长300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射照射时该感光剂引发组分(i)的自由基聚合；和(iii)至少一种具有酸性官能团的粘结剂，并且该组合物对480－750nm的波长范围基本上不感光；(c)取决于所使用的感光剂或引发剂体系，所得阴图制版平版印版前体用选自波长范围为300到＜480nm或＞750到1,100nm的辐射中的辐射成像曝光；和(d)通过用pH值为9－14的碱性显影剂处理而除去未照射区，该碱性显影剂包括：(i)水，(ii)其量足以将pH值调节在9－14范围内的一种或多种碱金属氢氧化物，和(iii)1－30wt％的至少一种式(I)的化合物，其中R1、R2、R3和R4各自独立地选自C1－C12烷基和芳基，X选自－CH＝CH－，－C≡C－，式(II)、式(III)和式(IV)，n+m为2－30的值，p+q为0－30的值，其中在p+q≠0的情况下，氧化乙烯和氧化丙烯单元作为嵌段存在或无规分布。

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